【技術實現步驟摘要】
本專利技術屬于光伏產業制備領域，尤其涉及一種太陽電池光誘導電鍍方法。
技術介紹
隨著能源危機的日益突出，對于清潔能源的使用越來越多，對其的科研投入也在逐步增大。太陽能發電成為最具發展的研究領域。太陽電池的研制和開發進展神速，其中晶體硅太陽電池制造技術最為成熟，已經實現大規模的生產及應用。近年來，高效晶體硅電池取得巨大成就，使光伏產業在未來發展中的地位和前景更為樂觀。就目前的技術水平而言，傳統的絲網印刷技術細柵線的高寬比難以有效提高。
技術實現思路
本專利技術旨在解決上述問題，提供一種太陽電池光誘導電鍍方法。一種太陽電池光誘導電鍍方法，其特征在于包括如下步驟：（1）采用單晶硅對其表面堿腐蝕，制絨同時去掉表面損傷層，再進行磷擴散；（2）擴散后，采用濕化學法去除硅片表面的磷硅玻璃，然后采用PECVD技術在正面鍍氮化硅減反射膜；（3）再在非鍍膜面采用絲網印刷技術印刷背電極和背電場，然后在鍍膜面印刷銀漿種子層，進行燒結；（4）最后采用LIP技術在種子層上制備電池電極。本專利技術所述的一種太陽電池光誘導電鍍方法，其特征在于所述步驟（1）中采用單晶硅片的規格為156mm×l56mm的P型，電阻率為l～3Ω·cm，厚約200±20μm。本專利技術所述的一種太陽電池光誘導電鍍方法，其特征在于所述步驟（3）中采用的印刷絲網版參數為90線，設計線寬45μm，網版膜厚16μm，3條主電極，主電極寬1.5mm。本專利技術所述的一種太陽電池光誘導電鍍方法，其特征在于所述步驟（2）中減...
【技術保護點】
一種太陽電池光誘導電鍍方法，其特征在于包括如下步驟：（1）采用單晶硅對其表面堿腐蝕，制絨同時去掉表面損傷層，再進行磷擴散；（2）擴散后，采用濕化學法去除硅片表面的磷硅玻璃，然后采用PECVD技術在正面鍍氮化硅減反射膜；（3）再在非鍍膜面采用絲網印刷技術印刷背電極和背電場，然后在鍍膜面印刷銀漿種子層，進行燒結；（4）最后采用LIP技術在種子層上制備電池電極。
【技術特征摘要】
1.一種太陽電池光誘導電鍍方法，其特征在于包括如下步驟：
（1）采用單晶硅對其表面堿腐蝕，制絨同時去掉表面損傷層，再進行磷擴散；
（2）擴散后，采用濕化學法去除硅片表面的磷硅玻璃，然后采用PECVD技術在正面鍍氮化硅減反射膜；
（3）再在非鍍膜面采用絲網印刷技術印刷背電極和背電場，然后在鍍膜面印刷銀漿種子層，進行燒結；
（4）最后采用LIP技術在種子層上制備電池電極。
2.如權利要求1所述的一種太陽電池光誘導電鍍方法，其特征在于所述步驟（1）中采用單晶硅片的規格為156mm×...
【專利技術屬性】
技術研發人員：劉秋麗，
申請(專利權)人：陜西高華知本化工科技有限公司，
類型：發明
國別省市：陜西;61
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