感光膜旋轉涂布裝置制造方法及圖紙

本發明專利技術公開了一種感光膜旋轉涂布裝置，包括卡盤、噴嘴、旋轉軸和阻隔單元，阻隔單元包括水平部和側壁部，側壁部呈向上的傾斜狀，越往上越接近卡盤，側壁部的上端呈倒三角形。本發明專利技術所提供的感光膜旋轉涂布裝置，側壁部的上端防止沒在基板上面涂成而脫離的感光膜撞在側壁部以微細粒子的形態彈到涂布在上述基板上的感光膜的位置上，以此防止涂布在上述基板上的感光膜不被上述粒子污染；而且，由于水平部與基板表面高度相同，因此在基板旋轉的時候發生的渦流最小化，最后達到提高上述基板上面涂布的感光膜的涂布厚度均勻性的效果。因此，本發明專利技術可提高被旋轉涂布的感光膜的可靠性。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術屬于感光膜旋轉涂布
，具體涉及一種能防止基板上的旋轉涂布的感光膜被污染和提高涂布厚度的均勻性的感光膜旋轉涂布裝置。
技術介紹
一般來講，有機發光器件的制造工序之一的光刻工序采用旋轉涂布裝置在有機發光器件面板的透明絕緣性基板上面涂布感光膜。旋轉涂布裝置上采用的涂布方式分為靜態涂布方式和動態旋轉涂布方式。上述靜態涂布方式為，在旋轉涂布裝置的卡盤上真空吸附基板后，通過上述基板的表面上方的感光膜吐出用噴嘴吐出一定量的感光膜后，將上述基板高速旋轉，以此在上述基板的表面整體上涂布感光膜。因此，上述靜態涂布方式由于實質上只使用上述感光膜全體量中的一部分比如10～20％涂布在上述基板上，剩余的從上述基板脫離的感光膜作為廢液處理，這樣不僅浪費感光膜，而且還具有能產生大量的引發環境污染的感光膜的廢液的缺點。相反，上述動態涂布方式是為改善上述靜態涂布方式的方法，在旋轉涂布裝置的卡盤上將基板真空吸附后，將上述基板高速旋轉的同時，通過上述基板的表面上方的感光膜吐出用噴嘴，吐出一定量的感光膜，以此在上述基板的表面整體上涂布感光膜。因此，上述動態涂布方式將上述感光膜的絕大部分實際地使用在上述基板的涂布上，而且將從上述基板脫離的只有一部分的感光膜作為廢液處理。因此，上述動態涂布方式比起上述靜態涂布方式，不僅能控制上述感光膜的浪費，以此減少原材料的使用，而且還能減少上述感光膜的廢液量，控制環境污染。但是，采用上述動態涂布方式的旋轉涂布裝置上，配在上述卡盤的周圍的阻隔單元的側壁部的上端部由于成垂直的內側面，因此，脫離到上述基板的外側的感光膜撞在上述阻隔單元的側壁部時，上述感光膜的一部分會以微粒子的形式落到上述基板的涂布的感光膜上面，污染上述基板上面已涂布的感光膜。而且，上述卡盤上面基板的表面由于比上述阻隔單元的水平部的表面高，兩者之間存在高度之差，因此，在上述基板旋轉時，有可能產生渦流在上述基板周圍，會惡化上述感光膜的涂布厚度的均勻性。
技術實現思路
本專利技術的目的是解決上述問題，提供一種可提高被旋轉涂布的感光膜的可靠性的感光膜旋轉涂布裝置。為解決上述技術問題，本專利技術的技術方案是：一種感光膜旋轉涂布裝置，包括以真空吸附方式支撐基板的卡盤，設于基板上方的噴嘴以及固定在卡盤的底部用于驅動卡盤旋轉的旋轉軸，還包括設于基板外圍，固定在上述卡盤上，用于阻斷、集結沒在基板上面涂布而脫離基板散開的感光膜的阻隔單元；所述阻隔單元包括水平部和側壁部，側壁部呈向上的傾斜狀，越往上越接近卡盤的中心，側壁部的上端呈倒三角形。優選地，所述水平部和側壁部之間設有至少一個感光膜排出口。優選地，所述水平部與基板表面高度相同。優選地，所述阻隔單元的外圍還設有殼體。本專利技術的有益效果是：本專利技術所提供的感光膜旋轉涂布裝置，側壁部的上端防止沒在基板上面涂成而脫離的感光膜撞在側壁部以微細粒子的形態彈到涂布在基板上的感光膜的位置上，以此防止涂布在基板上的感光膜不被上述粒子污染；而且，由于水平部與基板表面高度相同，因此在基板旋轉的時候發生的渦流最小化，最后達到提高上述基板上面涂布的感光膜的涂布厚度均勻性的效果。因此，本專利技術可提高被旋轉涂布的感光膜的可靠性。附圖說明圖1是本專利技術中感光膜旋轉涂布裝置的結構示意圖。具體實施方式下面結合附圖和具體實施例對本專利技術做進一步的說明：如圖1所示，本專利技術的感光膜旋轉涂布裝置，包括基板1、卡盤11、旋轉軸13、阻隔單元15、殼體17和噴嘴19，卡盤11以真空吸附方式固定用于涂布感光膜的基板1，旋轉軸13固定在卡盤11的底部，在動力機構的作用下水平旋轉，從而卡盤11和基板1也隨之水平旋轉，阻隔單元15用于阻礙從基板1脫離散開的感光膜，以此防止阻隔單元15外側的各部位被感光膜污染。阻隔單元15的水平部15a設于基板1外圍，與基板1保持一定的距離，側壁部15b呈向上的傾斜狀，越往上越接近卡盤11的中心，側壁部15b的上端15c呈倒三角形，水平部15a的上表面與基板1的上表面高度相同，水平部15a和側壁部15b之間設有至少一個感光膜排出口15d，在本實施例中，感光膜排出口15d的數量為四，均勻間隔分布。在圖1中，阻隔單元15看起來與卡盤11完全分離，但實際上，阻隔單元15的水平部15a與卡盤11的上側部分離的同時，與卡盤11的下側部相連。殼體17設于卡盤11和阻隔單元15的外圍，將卡盤11和阻隔單元15包圍，殼體17上部為開放口，殼體17用于阻斷、集結越過阻隔單元15的感光膜。感光膜吐出用噴嘴19設于基板1的表面中心處的正上方，在卡盤11上面水平放置基板1，比如用于有機發光器件的透明絕緣性基板等后，將基板1用真空吸附方式固定住。然后，動力機構高速旋轉旋轉軸13的同時，基板1也高速旋轉，通過噴嘴19將一定量的感光膜吐出到基板1的中心處。此時，雖然上述感光膜的大部分涂布在基板1的表面上，但剩下的一部分感光膜會脫離基板1，撞在阻隔單元15的側壁部15b的內側面散開，從側壁部15b彈出來的感光膜呈微粒子形態，由于側壁部15b的上端15c呈倒三角形，可把感光膜的微粒子降落到水平部15a上，由此防止基板1上面涂布的感光膜不被上述感光膜的微粒子所污染。又由于水平部15a的表面高度與基板1的表面高度位置相同，因此可最小化水平部15a和基板1之間的高度差異。因此，當基板1旋轉時產生的渦流也可進行最小化，提高感光膜的涂布厚度均勻性。因此，本專利技術可提高被旋轉涂布的感光膜的可靠性。另外，集結在阻隔單元15的水平部15a及側壁部15b上的感光膜在離心力的作用下最終通過感光膜排出口15d儲藏到感光膜廢液儲藏庫里。本領域的普通技術人員將會意識到，這里所述的實施例是為了幫助讀者理解本專利技術的原理，應被理解為本專利技術的保護范圍并不局限于這樣的特別陳述和實施例。本領域的普通技術人員可以根據本專利技術公開的這些技術啟示做出各種不脫離本專利技術實質的其它各種具體變形和組合，這些變形和組合仍然在本專利技術的保護范圍內。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種感光膜旋轉涂布裝置，包括以真空吸附方式支撐基板的卡盤，設于基板上方的噴嘴以及固定在卡盤的底部用于驅動卡盤旋轉的旋轉軸，其特征在于：還包括設于基板外圍，固定在上述卡盤上，用于阻斷、集結沒在基板上面涂布而脫離基板散開的感光膜的阻隔單元；所述阻隔單元包括水平部和側壁部，側壁部呈向上的傾斜狀，越往上越接近卡盤的中心，側壁部的上端呈倒三角形。

【技術特征摘要】
1.一種感光膜旋轉涂布裝置，包括以真空吸附方式支撐基板的卡盤，設于基板上方的噴嘴以及固定在卡盤的底部用于驅動卡盤旋轉的旋轉軸，其特征在于：還包括設于基板外圍，固定在上述卡盤上，用于阻斷、集結沒在基板上面涂布而脫離基板散開的感光膜的阻隔單元；所述阻隔單元包括水平部和側壁部，側壁部呈向上的傾斜狀，越往上越接近卡盤的...

【專利技術屬性】
技術研發人員：任海，
申請(專利權)人：四川虹視顯示技術有限公司，
類型：發明
國別省市：四川;51