一種防止測量偏差的治具及其制造方法技術

本發明專利技術提供一種防止測量偏差的治具及其制造方法，該治具包括：一治具本體；和一真空吸附裝置；其中，所述治具本體具有至少一定位槽，適于容納至少一COF工件，形成一底部；所述治具本體還具有多個開孔，設置于所述凹槽所在所述底部，所述開孔與所述真空吸附裝置形成真空吸附結構，以吸附所述COF工件。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及攝像模組行業一種測量治具的設計，更進一步，涉及一種防止測量偏差治具的設計，該測量偏差治具的設計將真空吸附技術應用于COF測量治具的設計，使得COF穩定固定，解決了業界對于COF測試準確性的問題。
技術介紹
隨著手機攝像模組的像素越來越高，對于各部件的制造的精確度以及工件的性能檢測的要求也越來越高，幾乎每個部件都要通過嚴格的檢測才能被應用于產品中，因此測試過程的準確性以及可靠性對于部件的質量具有至關重要的把關作用。要得到性能優越的產品，先要保證測試過程中的準確性，任何一個小小的偏差都有可能使得一個合格品變為次品，造成產品資源的浪費，也有可能使得一個次品成為一個合格品而應用于整個產品的生產中，從而影響產品的整體性能。因此，不管是哪一種偏差，都會帶來不良的結果。在COF(ChiponFPC柔性線路板芯片)工件測試的過程中，一直存在的一個問題就是COF工件的固定問題，無法穩定的固定COF工件，嚴重影響測試過程的準確性。在現有技術中，主要通過以下兩種方式來解決COF工件的固定問題：其中一種方式是，使用高溫膠將COF工件貼付于治具表面，測試完之后，再逐一將高溫膠撕掉。很容易可以看到，這種方式雖然可以固定COF工件，可是存在眾多問題，在高溫膠粘貼過程需要耗費額外的人力與時間，增加了生產的成本，而在測試完之后，撕掉高溫膠又需要耗時費力，而且如果貼付的高溫膠沒有清理干凈，平整度不一致，就會直接影響下一個COF工件的測試，此外，對于高溫膠的施加也要求較高，需要保證一定的平整度，其中仍然存在影響測量偏差的干擾，還有，產品的取放過程，可能會沾染高溫膠，或者存在損傷COF測試工件的危險。另一種方式是，制作專用治具進行固定，也就是說，根據不同的測試產品，分別制作不同的固定治具。在這種方式中，由于治具無法完全統一，因此治具之間的通用性不強，而且治具的設計以及制造過程，都大大增加了工作量，相對于上一種解決方式，這種方式成本更高。因此，現有的解決方式中，并沒有很好的解決COF工件測試過程中的固定問題。
技術實現思路
本專利技術的主要目的在于提供一種防止測量偏差的治具，其形成一種真空吸附結構，可以穩定固定COF測試工件，從而提高了COF測試的準確性和可靠性。本專利技術的另一目的在于提供一種防止測量偏差的治具，其提供一治具本體，具有至少一定位槽，適于容納COF測試工件，從而穩定固定測試工件，在測試開始或者測試結束的過程中，防止外部因素使得COF工件不必要的滑動。本專利技術的另一目的在于提供一種防止測量偏差的治具，其提供一治具本體，具有至少一定位槽，適于容納COF測試工件，適合不同工位的工作，也就是說，水平放置，傾斜放置，或者豎直放置等不同測試工位時，都可以使得COF穩定固定地完成測試過程。本專利技術的另一目的在于提供一種防止測量偏差的治具，其提供一治具本體和一真空吸附裝置，所述治具本體具有多個開孔，和真空吸附裝置形成真空吸附結構，利用真空吸附技術，使得COF工件穩定地固定。本專利技術的另一目的在于提供一種防止測量偏差的治具，其提供一治具本體和真空吸附裝置，所述治具本體具有多個開孔，形成真空吸附結構，在測試開始與結束過程中，用于固定的吸附力可以快速形成和撤消，可以快速的完成工件的測試，連續的測試過程之間，互相不會產生影響。本專利技術的另一目的在于提供一種防止測量偏差的治具，結構簡單，操作方便，連續的測試過程相對獨立。本專利技術的另一目的在于提供一種防止測量偏差的治具，減少了不必要的手工作業，節省了工作時間，提高了工作效率。本專利技術的另一目的在于提供一種防止測量偏差的治具，其提供一治具本體，具有多個定位槽，適于不同COF測試工件的測試。本專利技術的另一目的在于提供一種防止測量偏差的治具，其提供一治具本體，具有一組耳朵槽，方便COF工件的取放。本專利技術的另一目的在于提供一種防止測量偏差的治具，其提供一治具本體，具有多個相互連通的定位槽，適于不同COF工件，充分利用治具本體，提高通用性，同時，方便不同測試工件的取放。本專利技術的另一目的在于提供一種防止測量偏差的治具，其提供一治具本體，具有多個均勻分布的開孔，形成均勻的吸附作用，使得COF工件在測試過程中，受到均勻的吸附力，保證COF工件的平整度。本專利技術的另一目的在于提供一種防止測量偏差的治具，其提供一種治具本體，具有多個開孔與真空吸附裝置形成真空吸附結構，通過氣體吸附力固定COF工件，不需要添加其他物體，如膠水等而影響COF工件的平整度，從而保證了COF工件測試的準確性。本專利技術的另一目的在于提供一種防止測量偏差的治具，其提供一種方法，形成真空吸附結構，解決了COF工件在測試過程中的固定問題，提高了COF測試的準確性。本專利技術的另一目的在于提供一種防止測量偏差的治具，其提供一種方法，對普通COF測量治具進行改進，利用真空吸附技術，解決業界COF測試準確性問題。本專利技術的另一目的在于提供一種防止測量偏差的治具，其提供一種方法，提供一治具本體，具有至少一定位槽，適于容納COF測試工件。本專利技術的另一目的在于提供一種防止測量偏差的治具，提高測量準確性，操作方便，通用性強，降低生產成本投入，提高了生產效率。本專利技術的另一目的在于提供一種防止測量偏差治具的設計方法。為了實現以上專利技術目的，本專利技術提供一種防止測量偏差的治具的方法，包括如下步驟：(A)提供一治具本體，設置至少一定位槽于所述治具本體，形成一底部；(B)在所述定位槽所在的所述底部，設置多個開孔；(C)提供一真空吸附裝置，連接于所述治具本體，與所述多個開孔形成真空吸附結構。根據本專利技術的一優選實施例，所述防止測量偏差的治具及其制造方法，還包括如下步驟：(D)在所述治具本體，開至少一組耳朵槽。根據本專利技術的一優選實施例，所述步驟(A)中的所述定位槽形狀適于容納一COF工件，所述定位槽與所述COF工件相匹配。根據本專利技術的一優選實施例，所述防止測量偏差的治具及其制造方法中，所述步驟(B)中的所述開孔均勻設置于所述底部。根據本專利技術的一優選實施例，所述防止測量偏差的治具及其制造方法中，其提供多個所述定位槽，相互獨立，適于容納多個所述COF工件。根據本專利技術的一優選實施例，所述防止測量偏差的治具及其制造方法中，其提供多個所述定位槽，相互連通，適于不同形狀的COF工件測試。根據本專利技術的一優選實施例，所述防止測量偏差的治具及其制造方法中，所...

【技術保護點】
一種防止測量偏差治具的制造方法，其特征在于，包括如下步驟：?(A)提供一治具本體，設置至少一定位槽于所述治具本體，形成一底部；?(B)在所述定位槽所在的所述底部，設置多個開孔；?(C)提供一真空吸附裝置，連接于所述治具本體，與所述多個開孔形成真空吸附結構。

【技術特征摘要】
1.一種防止測量偏差治具的制造方法，其特征在于，包括如下步驟：
(A)提供一治具本體，設置至少一定位槽于所述治具本體，形成一底部；
(B)在所述定位槽所在的所述底部，設置多個開孔；
(C)提供一真空吸附裝置，連接于所述治具本體，與所述多個開孔形成真空吸附結構。
2.如權利要求1所述方法，還包括如下步驟：
(D)在所述治具本體，開至少一組耳朵槽。
3.如權利要求1或2所述方法，所述步驟(A)中的所述定位槽形狀適于容納一COF工件，所述定位槽與所述COF工件相匹配。
4.如權利要求3所述方法，所述步驟(A)包括：提供多個阻擋板，連接于所述治具本體，形成一定位槽和一底部。
5.如權利要求3所述方法，所述步驟(B)中的所述開孔均勻設置于所述底部。
6.如權利要求3所述方法，其提供多個所述定位槽，相互獨立，適于容納多個所述COF工件。
7.如權利要求3所述方法，其提供多個所述定位槽，相互連通，適于不同形狀的COF工件測試。
8.如權利要求2或4所述方法，所述步驟(C)中的真空吸附裝置，包括一開關元件，控制所述真空吸附裝置的工作。
9.如權利要求8所述方法，所述開關元件具有一打開狀態和一閉合狀態，當所述開關元件處于打開狀態時，所述真空吸附裝置工作，所述COF工件吸附于所述治具本體，當所述開關元件閉合狀態時，所述真空吸附裝置不工作，所述COF工件不受吸附力作用。
10.如權利要求3所述方法，所述定位槽的尺寸約為170mm*70mm。
11.如權利要求3所述方法，所述開孔的孔徑內徑約為2mm。
12.如權利要求4至7任一所述方法，所述定位槽為一凹槽，內凹地形成于所述治具本體。
13.一種防止測量偏差的治具，其特征在于，包括：
一治具本體；和
一真空吸...

【專利技術屬性】
技術研發人員：王碧濤，周志陽，樊利權，王燕山，劉鋒利，白軍偉，李燃，宋丙獻，何益君，
申請(專利權)人：寧波舜宇光電信息有限公司，
類型：發明
國別省市：浙江;33