一種印控儀用的印泥臺制造技術

本實用新型專利技術公開了一種印控儀用的印泥臺，包括印泥臺本體，印泥臺本體呈圓柱狀，印泥臺本體的頂部設置有保護蓋，印泥臺本體的內側壁上開設有兩個相對稱的滑槽，印泥臺本體的內底壁上固定連接有固定塊，固定塊的頂部開設有呈圓形狀的凹槽，固定塊的頂部還開設有等距離排布的導流槽，且每個導流槽均與凹槽相連通，固定塊的頂部固定連接有彈簧，彈簧的頂部固定連接有導流室。本實用新型專利技術，有效的避免了大量印液對印章表面的粘附，有效的避免了蓋章的失敗，操作簡單，實用方便，蓋章效率高，有效的避免了印液對蓋章過程的影響，有效的避免了印泥的污染，從而有效的解決了印液容易粘附印章和蓋章效果差的問題。

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及印泥臺
，具體為一種印控儀用的印泥臺。
技術介紹
印控儀是一種自動蓋章的儀器，比傳統手工蓋章具有科學化、正規化的特點，實現了人與印章的分離，以保證印章使用的科學性、安全性和高效性，其能夠有效避免人工蓋章的不規范性，印泥臺是印控儀的重要組件，普通印泥會粘附印章，而泡沫印章能夠彌補這些不足，因此，泡沫印泥得到了廣泛應用。泡沫印泥由泡沫層和印液組成，當印液過多時，進行印章時大量印液會粘附在印章的表面，印液會影響蓋章的效果，蓋章效果差，甚至造成蓋章的失敗，蓋章效率低。
技術實現思路
本技術的目的在于提供一種印控儀用的印泥臺，具備蓋章效率高的優點，解決了印液容易粘附印章和蓋章效果差的問題。為實現上述目的，本技術提供如下技術方案：一種印控儀用的印泥臺，包括印泥臺本體，所述印泥臺本體呈圓柱狀，所述印泥臺本體的頂部設置有保護蓋，所述印泥臺本體的內側壁上開設有兩個相對稱的滑槽，所述印泥臺本體的內底壁上固定連接有固定塊，所述固定塊的頂部開設有呈圓形狀的凹槽，所述固定塊的頂部還開設有等距離排布的導流槽，且每個導流槽均與凹槽相連通，所述固定塊的頂部固定連接有彈簧，所述彈簧的頂部固定連接有導流室。所述導流室的底部開設有等距離排列的第一導流孔，每個所述第一導流孔的內部均固定連接有第一過濾網，所述導流室的外側面開設有兩個相對稱的第二導流孔，每個所述第二導流孔的內部均固定連接有第二過濾網，所述導流室的頂部固定連通有導流管。所述印泥臺本體的內部固定連接有支撐板，且支撐板位于導流室的上方，所述支撐板的中部設置有密封塞，所述導流管貫穿密封塞并與支撐板正上方的墊板固定連接，所述導流管的頂部開設有呈圓環狀排布的第三導流孔，每個所述第三導流孔均位于支撐板和墊板之間，所述墊板上開設有等距離排列的漏孔，所述墊板的頂部固定連接有呈圓盤狀的泡沫印泥層，所述泡沫印泥層的外側面與保護環的內側面固定連接，所述保護環的外側面上固定連接有與滑槽相適配的滑塊，且滑塊放置在滑槽內，兩個所述滑塊的正上方均設置有擋板，兩個所述擋板均與印泥臺本體的內側壁固定連接。優選的，所述墊板所在的水平面和支撐板所在的水平面相平行，且墊板的長度大于密封塞的長度。優選的，所述彈簧的數量至少為四個。優選的，每個所述擋板的大小均大于每個滑塊的大小。優選的，所述固定塊的長度大于導流室的長度，且每個第一導流孔均位于凹槽的正上方。與現有技術相比，本技術的有益效果如下：1、本技術通過設置有滑塊和滑槽，泡沫印泥層能夠進行有效的移動，能夠對印章進行有效的緩沖，通過設置有墊板、密封塞、導流室、導流管和彈簧，能夠對印泥臺本體內的印液進行有效的引流，有效的避免了大量印液對印章表面的粘附，有效的避免了蓋章的失敗，操作簡單，實用方便，達到了蓋章效率高的效果。2、本技術通過設置有第一導流孔、第二導流孔、第三導流孔和漏孔，能夠對印液進行有效的導流，能夠時刻保證泡沫印泥層的濕潤，有效的避免了印液對蓋章過程的影響，保證了蓋章的有效進行，通過設置有保護蓋和擋板，能夠對印泥進行有效的保護，有效的避免了印泥的污染，從而有效的解決了印液容易粘附印章和蓋章效果差的問題。附圖說明圖1為本技術印泥臺本體剖視圖；圖2為本技術導流室剖視圖；圖3為本技術固定塊俯視圖；圖4為本技術滑槽結構示意圖。圖中：1印泥臺本體、2固定塊、3彈簧、4導流室、5導流管、6密封塞、7支撐板、8保護環、9滑塊、10擋板、11泡沫印泥層、12墊板、13漏孔、14保護蓋、15第三導流孔、16第二導流孔、17第二過濾網、18第一過濾網、19第一導流孔、20導流槽、21凹槽、22滑槽。具體實施方式下面將結合本技術實施例中的附圖，對本技術實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本技術一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本技術中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本技術保護的范圍。請參閱圖1-4，一種印控儀用的印泥臺，包括印泥臺本體1，印泥臺本體1呈圓柱狀，印泥臺本體1的頂部設置有保護蓋14，能夠對印泥臺本體1進行有效的保護，有效的避免了印泥的污染，印泥臺本體1的內側壁上開設有兩個相對稱的滑槽22，印泥臺本體1的內底壁上固定連接有固定塊2，保證了固定塊2的穩定性，固定塊2的頂部開設有呈圓形狀的凹槽21，能夠有效的容納印液，保證了印液的有效流動，固定塊2的頂部還開設有等距離排布的導流槽20，保證了印液的有效流動，能夠對印液進行有效的引導，且每個導流槽20均與凹槽21相連通，保證了印液的有效流動，固定塊2的頂部固定連接有彈簧3，保證了彈簧3的穩定性，彈簧3的數量至少為四個，保證了導流室4和密封塞6能夠進行更加靈活的移動，彈簧3的頂部固定連接有導流室4，保證了導流室4的靈活性，能夠對印液進行有效的流動。導流室4的底部開設有等距離排列的第一導流孔19，保證了印液的有效流動，有效的避免了印液過多的粘附印章，固定塊2的長度大于導流室4的長度，在導流室4進行移動時，固定塊2能夠有效的支撐導流室4，且每個第一導流孔19均位于凹槽21的正上方，保證了印液的有效流動，每個第一導流孔19的內部均固定連接有第一過濾網18，保證了第一過濾網18的穩定性，能夠對雜質進行有效的過濾，有效的避免了導流管5的堵塞，導流室4的外側面開設有兩個相對稱的第二導流孔16，能夠對印液進行很好的引流，每個第二導流孔16的內部均固定連接有第二過濾網17，保證了第二過濾網17的穩定性，導流室4的頂部固定連通有導流管5，保證了導流管5的穩定性。印泥臺本體1的內部固定連接有支撐板7，保證了支撐板7的穩定性，且支撐板7位于導流室4的上方，保證了支撐板7能夠對印液進行很好的阻擋，保證了印泥臺的有效使用，支撐板7的中部設置有密封塞6，能夠對支撐板7進行有效的密封，能夠有效的限制印液的位置，導流管5貫穿密封塞6并與支撐板7正上方的墊板12固定連接，保證了密封塞6和導流室4的靈動性，墊板12進行下移時，在導流管5的作用下，能夠帶動密封塞6和導流室4進行下移，墊板12所在的水平面和支撐板6所在的水平面相平行，保證了墊板12的有效移動，能夠對印液進行有效的導流，且墊板12的長度大于密封塞6的長度，保證了墊板12的穩定性，支撐板7能夠對墊板12進行有效的阻擋，導流管5的頂部開設有呈圓環狀排布的第三導流孔15，能夠對印液進行有效的引導，每個第三導流孔15均位于支撐板7和墊板12之間，印液能夠通過第三導流孔15噴灑在泡沫印泥層11上，墊板12上開設有等距離排列的漏孔13，保證了印液對泡沫印泥層11的有效濕潤，墊板12的頂部固定連接有呈圓盤狀的泡沫印泥層11，保證了泡沫印泥層11的穩定性，墊板12能夠對泡沫印泥層11進行有效的保護，有效的避免了泡沫印泥層11的損壞，泡沫印泥層11的外側面與保護環8的內側面固定連接，保護環8能夠對泡沫印泥層11進行有效的保護，保證了泡沫印泥層11的靈活移動，保護環8的外側面上固定連接有與滑槽22相適配的滑塊9，保證了滑塊9的穩定性，且滑塊9放置在滑槽22內，兩個滑塊9的正上方均設置有擋板10，擋板10能夠對泡沫印泥層11進行有效的阻擋，每個擋板10的大本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種印控儀用的印泥臺，包括印泥臺本體(1)，其特征在于：所述印泥臺本體(1)呈圓柱狀，所述印泥臺本體(1)的頂部設置有保護蓋(14)，所述印泥臺本體(1)的內側壁上開設有兩個相對稱的滑槽(22)，所述印泥臺本體(1)的內底壁上固定連接有固定塊(2)，所述固定塊(2)的頂部開設有呈圓形狀的凹槽(21)，所述固定塊(2)的頂部還開設有等距離排布的導流槽(20)，且每個導流槽(20)均與凹槽(21)相連通，所述固定塊(2)的頂部固定連接有彈簧(3)，所述彈簧(3)的頂部固定連接有導流室(4)；所述導流室(4)的底部開設有等距離排列的第一導流孔(19)，每個所述第一導流孔(19)的內部均固定連接有第一過濾網(18)，所述導流室(4)的外側面開設有兩個相對稱的第二導流孔(16)，每個所述第二導流孔(16)的內部均固定連接有第二過濾網(17)，所述導流室(4)的頂部固定連通有導流管(5)；所述印泥臺本體(1)的內部固定連接有支撐板(7)，且支撐板(7)位于導流室(4)的上方，所述支撐板(7)的中部設置有密封塞(6)，所述導流管(5)貫穿密封塞(6)并與支撐板(7)正上方的墊板(12)固定連接，所述導流管(5)的頂部開設有呈圓環狀排布的第三導流孔(15)，每個所述第三導流孔(15)均位于支撐板(7)和墊板(12)之間，所述墊板(12)上開設有等距離排列的漏孔(13)，所述墊板(12)的頂部固定連接有呈圓盤狀的泡沫印泥層(11)，所述泡沫印泥層(11)的外側面與保護環(8)的內側面固定連接，所述保護環(8)的外側面上固定連接有與滑槽(22)相適配的滑塊(9)，且滑塊(9)放置在滑槽(22)內，兩個所述滑塊(9)的正上方均設置有擋板(10)，兩個所述擋板(10)均與印泥臺本體(1)的內側壁固定連接。...

【技術特征摘要】
1.一種印控儀用的印泥臺，包括印泥臺本體(1)，其特征在于：所述印泥臺本體(1)呈圓柱狀，所述印泥臺本體(1)的頂部設置有保護蓋(14)，所述印泥臺本體(1)的內側壁上開設有兩個相對稱的滑槽(22)，所述印泥臺本體(1)的內底壁上固定連接有固定塊(2)，所述固定塊(2)的頂部開設有呈圓形狀的凹槽(21)，所述固定塊(2)的頂部還開設有等距離排布的導流槽(20)，且每個導流槽(20)均與凹槽(21)相連通，所述固定塊(2)的頂部固定連接有彈簧(3)，所述彈簧(3)的頂部固定連接有導流室(4)；所述導流室(4)的底部開設有等距離排列的第一導流孔(19)，每個所述第一導流孔(19)的內部均固定連接有第一過濾網(18)，所述導流室(4)的外側面開設有兩個相對稱的第二導流孔(16)，每個所述第二導流孔(16)的內部均固定連接有第二過濾網(17)，所述導流室(4)的頂部固定連通有導流管(5)；所述印泥臺本體(1)的內部固定連接有支撐板(7)，且支撐板(7)位于導流室(4)的上方，所述支撐板(7)的中部設置有密封塞(6)，所述導流管(5)貫穿密封塞(6)并與支撐板(7)正上方的墊板(12)固定連接，所述導流管(5)...

【專利技術屬性】
技術研發人員：魏偉，胡遠遠，蔡耀準，鄭周，張小平，
申請(專利權)人：浙江維融電子科技股份有限公司，
類型：新型
國別省市：浙江;33