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    環形真空電阻爐制造技術

    技術編號:15030011 閱讀:111 留言:0更新日期:2017-04-05 07:51
    本實用新型專利技術公開一種環形真空電阻爐,包括殼體、蓋體、抽真空機構和水冷機構,蓋體包括上蓋和下蓋,殼體包括環狀內殼和環狀外殼,環狀內殼和環狀外殼圍成的環形空腔內壁設置多個殼體支撐機構,抽真空機構通過真空管道與所述環形空腔相連通,殼體支撐機構的另一端設置殼體電加熱機構,殼體電加熱機構與環狀內殼和環狀外殼之間均設置殼體隔熱層,上蓋和下蓋內側均設置蓋體隔熱層,殼體隔熱層與蓋體隔熱層相接觸后圍成加熱腔體。本實用新型專利技術通過設置環狀殼體結構,有利于電加熱機構的支撐結構的空間布置,而且在殼體中間設置水冷通道對殼體進行降溫,有效增加本實用新型專利技術的使用壽命。

    【技術實現步驟摘要】

    本技術屬于真空爐
    ,尤其涉及一種環形真空電阻爐。
    技術介紹
    真空爐通常有工頻式、感應式、電阻式,工頻式和感應式通常用于金屬的熔化,電阻式通常用于熱處理或燒結,電阻式真空爐的電阻絲或電阻帶通常沿爐體內壁布置,對于爐體不是太大的電阻式真空爐,爐體較小中間通常是沒有加熱電阻絲的,而且爐體內的溫度可看作是均勻的,可滿足工件對爐體內溫度要求是嚴格一致的要求,但對于爐體較大真空爐,為保證爐體內溫度分布均勻,需要在爐體中間增設電加熱機構,此時在真空爐中間部位設置占位較大的支撐機構用于支撐電加熱機構,由于支撐機構難以承受長時間的高溫,需頻繁的檢修、更換,所以該方法可以解決短時所需,不利于大規模批量生產。
    技術實現思路
    有鑒于此,本技術的目的是針對現有技術的不足,提供一種環形真空電阻爐,通過設置環狀殼體結構,有利于電加熱機構的支撐結構的空間布置,而且在殼體中間設置水冷通道對殼體進行降溫,有效增加本技術的使用壽命。為達到上述目的,本技術采用以下技術方案:環形真空電阻爐,包括殼體、蓋體、抽真空機構和水冷機構,所述蓋體包括上蓋和下蓋,所述殼體包括環狀內殼和環狀外殼,所述上蓋為在環狀外殼和環狀外殼之間形成的向上凸起的弧形環狀結構,下蓋為在環狀內殼和環狀外殼之間形成的向下凸起的弧形環狀結構,所述環狀內殼、環狀外殼、上蓋和下蓋均為雙層結構,雙層結構的中間為水冷通道,所述水冷通道通過水冷管道與所述水冷機構連通,所述上蓋和下蓋通過法蘭與所述環狀內殼和環狀外殼密封連接,所述環狀內殼和環狀外殼圍成的環形空腔內壁設置多個殼體支撐機構,所述抽真空機構通過真空管道與所述環形空腔相連通,所述殼體支撐機構的另一端設置殼體電加熱機構,所述殼體電加熱機構與所述環狀內殼和環狀外殼之間均設置殼體隔熱層,所述上蓋和下蓋內側均設置蓋體隔熱層,所述殼體隔熱層與蓋體隔熱層相接觸后圍成加熱腔體。進一步的,所述殼體隔熱層和蓋體隔熱層為多層金屬反射屏或多層碳氈。進一步的,所述上蓋和/或所述下蓋內側設置多個蓋體支撐機構,所述蓋體支撐機構遠離所述蓋體的另一端設置蓋體電加熱結構,所述蓋體隔熱層位于所述蓋體與所述蓋體電加熱機構之間。進一步的,所述環形空腔內壁設置多個溫度感應模塊,所述溫度感應模塊連接溫度顯示模塊,所述溫度顯示模塊設置在所述殼體外。進一步的,還包括設置在所述環形真空電阻爐下方的升降機構,所述升降機構用于升降所述下蓋。進一步的,所述升降機構下端設置用于平移所述下蓋的平移機構。進一步的,所述環狀內殼、環狀外殼與上蓋和下蓋之間設置的法蘭之間均設有密封圈。進一步的,所述下蓋與所述環狀內殼和環狀外殼法蘭外側設置液壓夾緊裝置。本技術的有益效果是:1.環形真空電阻爐,包括殼體、蓋體、抽真空機構和水冷機構,蓋體包括上蓋和下蓋,殼體包括環狀內殼和環狀外殼,環狀內殼和環狀外殼可以采用同軸設置的敞口筒狀結構,環狀內殼和環狀外殼之間為環形腔體用于容納電加熱機構和需要加熱的原料;上蓋與環狀內殼和環狀外殼之間法蘭密封連接,下蓋與環狀內殼和環狀外殼之間法蘭密封連接,環狀內殼和環狀外殼圍成的環形空腔內壁均設置多個殼體支撐機構,殼體支撐機構的另一端設置殼體電加熱機構。本技術的環形結構設計不僅避免了在現有技術中大型真空爐的中間部位因增加支撐機構而產生的結構空間,從而減少了真空爐的立體真空空間,有效降低電加熱機構、抽真空機構和水冷機構的動力消耗;而且,將支撐機構分別固定在環狀內殼和環狀外殼上,不僅有效保證支撐機構的穩定強度,即可實現真空電阻爐可長周期連續使用,而且可以使殼體電加熱機構得到有效的空間布置,進而實現單獨控制使真空爐內的不同溫度區間的溫度。另外,殼體電加熱機構與環狀內殼和環狀外殼之間均設置殼體隔熱層,上蓋和下蓋內側均設置蓋體隔熱層,殼體隔熱層與蓋體隔熱層相接觸,殼體隔熱層和蓋體隔熱層可以采用多層金屬反射屏或多層碳氈。當蓋體與殼體密封連接后,殼體隔熱層與蓋體隔熱層圍合組成本技術的加熱腔體并包裹該加熱腔體,殼體隔熱層與蓋體隔熱層搭配本技術的環形結構設計,一是起到減小加熱腔體熱量散失,使加熱腔體內溫度更加均勻,二是減小加熱腔體對殼體的熱輻射,增加本技術的使用過程中的結構穩定性、延長本技術的使用壽命,水冷機構更易得到保障。2.上蓋和/或下蓋內側設置蓋體支撐機構,蓋體支撐機構另一端設置蓋體電加熱結構,蓋體隔熱層位于蓋體與蓋體電加熱機構之間,本機構設計有利于整個加熱空間的溫度均勻性,提高加熱腔體的整體溫度,進一步提高加熱效率。3.環形空腔內壁均設置多個溫度感應模塊,溫度感應模塊電連接溫度顯示模塊,溫度顯示模塊設置在殼體外,通過設置溫度感應模塊有利于隨時監控爐溫,有利于調控爐溫。4.環形真空電阻爐還包括設置在下蓋下端的升降機構,升降機構用于升降下蓋,升降機構的設置是為了更加方便地在真空爐外取放工件,提高使用過程中的工作效率。5.升降機構下端設置平移機構,平移機構可以采用滾輪,將下蓋平移到真空爐外,增大了取放工件的空間,進一步提高取放工件的便捷性。6.環狀內殼、環狀外殼與下蓋之間的法蘭外側設置液壓夾緊裝置,使用時根據不同的使用情況,法蘭連接與液壓夾緊裝置的搭配使用,不僅可以提高拆裝效率,同時也增加了操作過程中的安全性。附圖說明圖1為本技術實施例一的結構示意圖;圖2為本技術實施例二的結構示意圖;圖3為本技術實施例三的結構示意圖;圖中:1-抽真空機構,2-水冷機構,3-環狀內殼,4-環狀外殼,5-上蓋,6-下蓋,7-真空管道,8-水冷通道,9-水冷管道,10-殼體支撐機構,11-殼體電加熱機構,12-殼體隔熱層,13-蓋體支撐機構,14-蓋體電加熱機構,15-載物臺,16-蓋體隔熱層,17-加熱腔體,18-液壓夾緊裝置,19-溫度感應模塊,20-溫度顯示模塊,21-平移機構,22-支撐底座,23-支架,24-螺桿,25-支撐塊。具體實施方式下面結合附圖和實施例對本技術作進一步描述。實施例一如圖1所示,本技術包括殼體、蓋體、抽真空機構1和水冷機構2,殼體包括同軸設置的環狀內殼3和環狀外殼4,蓋體包括上蓋5和下蓋6,上蓋5為在環狀內殼3和環狀外殼4之間形成的向上凸起的弧形環狀結構,下蓋6為在環狀內殼3和環狀外殼4之間形成的向下凸起的弧形環狀結構,上蓋5和下蓋6通過法蘭與環狀內殼3和環狀外殼4密封連接;環狀內殼3、環狀外殼4、上蓋5和下蓋6均為雙層結構,雙層結構的中間為水冷通道8(圖中僅示出下蓋6的水冷通道),水冷通道8通過水冷管道9與水冷機構2連通,對其進行降溫,水冷管道9包括進水管和出水管,冷卻水采用下進上出的方法;環狀內殼3和環狀外殼4圍成環形空腔的內壁設置多個殼體支撐機構10,抽真空機構1采用現有技術中的裝置通過真空管道7與環形空腔相連通,殼體支撐機構10的另一端設置殼體電加熱機構11,殼體電加熱機構11與環狀內殼3和環狀外殼4之間均設置殼體隔熱層12,殼體隔熱層12可以套設在殼體支撐機構10上;上蓋5和下蓋6內側均焊接蓋體支撐機構13,蓋體支撐機構13另一端固定連接蓋體電加熱機構14,下蓋6上的蓋體電加熱機構14的上方設置載物臺15,載物臺15的下端與蓋體支撐機構13固定連接,蓋體支撐機構13套設蓋體隔熱層16,蓋體隔熱層本文檔來自技高網...

    【技術保護點】
    環形真空電阻爐,包括殼體、蓋體、抽真空機構和水冷機構,所述蓋體包括上蓋和下蓋,其特征在于:所述殼體包括環狀內殼和環狀外殼,所述上蓋為在環狀外殼和環狀外殼之間形成的向上凸起的弧形環狀結構,下蓋為在環狀內殼和環狀外殼之間形成的向下凸起的弧形環狀結構,所述環狀內殼、環狀外殼、上蓋和下蓋均為雙層結構,雙層結構的中間為水冷通道,所述水冷通道通過水冷管道與所述水冷機構連通,所述上蓋和下蓋通過法蘭與所述環狀內殼和環狀外殼密封連接,所述環狀內殼和環狀外殼圍成的環形空腔內壁設置多個殼體支撐機構,所述抽真空機構通過真空管道與所述環形空腔相連通,所述殼體支撐機構的另一端設置殼體電加熱機構,所述殼體電加熱機構與所述環狀內殼和環狀外殼之間均設置殼體隔熱層,所述上蓋和下蓋內側均設置蓋體隔熱層,所述殼體隔熱層與蓋體隔熱層相接觸后圍成加熱腔體。

    【技術特征摘要】
    1.環形真空電阻爐,包括殼體、蓋體、抽真空機構和水冷機構,所述蓋體包括上蓋和下蓋,其特征在于:所述殼體包括環狀內殼和環狀外殼,所述上蓋為在環狀外殼和環狀外殼之間形成的向上凸起的弧形環狀結構,下蓋為在環狀內殼和環狀外殼之間形成的向下凸起的弧形環狀結構,所述環狀內殼、環狀外殼、上蓋和下蓋均為雙層結構,雙層結構的中間為水冷通道,所述水冷通道通過水冷管道與所述水冷機構連通,所述上蓋和下蓋通過法蘭與所述環狀內殼和環狀外殼密封連接,所述環狀內殼和環狀外殼圍成的環形空腔內壁設置多個殼體支撐機構,所述抽真空機構通過真空管道與所述環形空腔相連通,所述殼體支撐機構的另一端設置殼體電加熱機構,所述殼體電加熱機構與所述環狀內殼和環狀外殼之間均設置殼體隔熱層,所述上蓋和下蓋內側均設置蓋體隔熱層,所述殼體隔熱層與蓋體隔熱層相接觸后圍成加熱腔體。2.根據權利要求1所述的環形真空電阻爐,其特征在于:所述殼體隔熱層和蓋體隔熱層為多層金屬反射屏或多層碳氈...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:朱書成趙家亮王希彬
    申請(專利權)人:西峽龍成特種材料有限公司
    類型:新型
    國別省市:河南;41

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