一種金屬殼體及其制備方法、通訊設備技術

為克服現有技術中的金屬殼體外觀品質差的問題，本發明專利技術提供了一種金屬殼體，包括鋁合金件、塑膠件和絕緣膜；所述鋁合金件上開設有貫穿鋁合金件內外的通訊槽，所述塑膠件填充于所述通訊槽內；所述絕緣膜同時覆蓋于所述鋁合金件及位于通訊槽內的塑膠件的外表面上；所述絕緣膜為陽極氧化膜。同時，本發明專利技術還公開了上述金屬殼體的制備方法以及一種通訊設備。本發明專利技術提供的金屬殼體整體具有全金屬外觀，并且不會對殼體內部的天線產生干擾。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種通訊設備金屬殼體及其制備方法，以及采用該金屬殼體的通訊設備。
技術介紹
由于現代科技發達，人們之間要進行聯絡的器具也從傳統的室內電話、一般手機發展到智能型手機，使手機不但具有通話的功能、更具有上網、看影片、聽音樂或處理個人文件等功能，讓使用者可以更便利的掌握各種資訊。隨著各種便攜式通訊設備的廣泛使用，人們對其外觀要求也越來越高。其中，金屬外殼由于具有塑料等其他外殼無法比擬的性能及金屬質感而備受重視。然而，由于金屬殼體導電，會對封裝于金屬殼體內的用于通訊的天線產生屏蔽效應，對通訊設備的正常使用產生較大負面影響。為克服上述問題，現有技術中通常在金屬殼體上與天線對應的部位開口，從而避免對通訊設備的信號接收和發射產生干擾。但是，上述開口對金屬殼體的外觀品質產生較大負面影響。
技術實現思路
本專利技術所要解決的技術問題是針對現有技術中的金屬殼體外觀品質差的問題，提供一種金屬殼體。本專利技術解決上述技術問題所采用的技術方案如下：提供一種金屬殼體，包括鋁合金件、塑膠件和絕緣膜；所述鋁合金件上開設有貫穿鋁合金件內外的通訊槽，所述塑膠件填充于所述通訊槽內；所述絕緣膜同時覆蓋于所述鋁合金件及位于通訊槽內的塑膠件的外表面上；所述絕緣膜為陽極氧化膜。同時，本專利技術還提供了上述金屬殼體的制備方法，包括如下步驟：S1、提供一鋁合金基材；所述鋁合金基材上具有通訊槽，所述通訊槽為盲槽；S2、在所述通訊槽內形成塑膠件；S3、對所述鋁合金基材進行陽極氧化處理；S4、對經過陽極氧化處理的鋁合金基材進行退鍍處理；S5、對經過退鍍處理的的鋁合金基材進行陽極氧化處理；S6、重復所述步驟S4和S5n次，其中n為0或自然數，直至所述通訊槽底部的鋁合金全部轉換為陽極氧化膜，得到絕緣膜；S7、對所述絕緣膜進行封孔處理，得到所述金屬殼體。另外，本專利技術還提供了一種通訊設備，包括金屬殼體及位于金屬殼體內的設備主體，所述設備主體包括通訊天線；所述金屬殼體為如前所述的金屬殼體；所述通訊天線正對所述金屬殼體的塑膠件。本專利技術提供的金屬殼體中，鋁合金件上具有通訊槽，通訊槽內填充有絕緣的塑膠件，并且通訊槽底部為絕緣的膜，可有效的保證通訊信號的傳輸。同時，由于絕緣膜為陽極氧化膜(即氧化鋁膜)，并且該絕緣膜同時覆蓋于鋁合金件和塑膠件的整個外表面，使金屬殼體具有全金屬外觀的觀感以及手感，外觀品質高。并且金屬殼體的強度以及硬度也大大提高。具體實施方式為了使本專利技術所解決的技術問題、技術方案及有益效果更加清楚明白，以下結合實施例，對本專利技術進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本專利技術，并不用于限定本專利技術。本專利技術提供的金屬殼體包括鋁合金件、塑膠件和絕緣膜；所述鋁合金件上開設有貫穿鋁合金件內外的通訊槽，所述塑膠件填充于所述通訊槽內；所述絕緣膜同時覆蓋于所述鋁合金件及位于通訊槽內的塑膠件的外表面上；所述絕緣膜為陽極氧化膜。上述金屬殼體中，鋁合金件的材質為本領域常用的鋁合金，例如可以為6系鋁合金6061或者6063。鋁合金件為金屬殼體的主體，采用鋁合金材料加工成目標形狀。鋁合金件上開設有通訊槽。在本專利技術提供的金屬殼體中，通訊槽貫穿鋁合金件內外。上述通訊槽用于容納塑膠件，并為天線通訊信號的傳輸提供窗口。本專利技術中，可以理解的，上述內外定義如下：上述金屬殼體使用時，鋁合金件臨近通訊設備內部元器件的方向為內，鋁合金件朝向外界的方向為外。根據本專利技術，上述金屬殼體的絕緣膜同時覆蓋于鋁合金件和塑膠件的外表面上。本專利技術中，上述絕緣膜為陽極氧化膜。眾所周知，陽極氧化膜通常通過鋁合金的陽極氧化得到。因此，本專利技術中，上述作為絕緣膜的陽極氧化膜實際由鋁合金件的外表面通過陽極氧化得到。需要注意的是，鋁合金件上具有通訊槽。而上述絕緣膜同時覆蓋所述通訊槽。此時，作為金屬殼體整體而言，上述通訊槽底部被絕緣膜封閉，并未貫穿整個金屬殼體。對于上述絕緣膜，位于鋁合金件底部的區域的厚度可在較大范圍內變動，本專利技術中沒有特殊限定。對于絕緣膜位于所述通訊槽底部的區域，為利于有效制備，其厚度為0.004-0.005mm。上述通訊槽底部定義為，該通訊槽朝內開口的方向為該通訊槽的頂部，與通訊槽頂部相對的方向為通訊槽底部。根據本專利技術，上述金屬殼體的絕緣膜同時覆蓋于鋁合金件和塑膠件的外表面上，即所述絕緣膜覆蓋于通訊槽底部的鋁合金件外表面上，同時還覆蓋于位于通訊槽內的塑膠件的外表面上，所述絕緣膜與所述鋁合金件的外表面成一體。本專利技術中，上述塑膠件固定于鋁合金件上的通訊槽內。塑膠件在通訊槽內固定的具體方法可以有多種，本專利技術中，為保證塑膠件在通訊槽內的牢固固定，優選情況下，所述通訊槽內壁覆蓋有陽極氧化膜，并且所述塑膠件至少部分填充所述通訊槽內壁的陽極氧化膜的孔隙。此時，塑膠件于通訊槽內壁上的陽極氧化膜接觸并固定。如本領域技術人員所公知的，陽極氧化膜微觀上實際為多孔的陶瓷膜，其具有高硬度和多孔的特性。所述塑膠件至少部分填充所述通訊槽內壁的陽極氧化膜的孔隙，可與該陽極氧化膜實現更牢固的結合。對于上述塑膠件，其材質可以為常規的各種高分子塑料，優選情況下，所述塑膠件為聚苯硫醚。同時，本專利技術還提供了上述金屬殼體的制備方法，具體包括如下步驟：S1、提供一鋁合金基材；所述鋁合金基材上具有通訊槽，所述通訊槽為盲槽；S2、在所述通訊槽內形成塑膠件；S3、對所述鋁合金基材進行陽極氧化處理；S4、對經過陽極氧化處理的鋁合金基材進行退鍍處理；S5、對經過退鍍處理的的鋁合金基材進行陽極氧化處理；S6、重復所述步驟S4和S5n次，其中n為0或自然數，直至所述通訊槽底部的鋁合金全部轉換為陽極氧化膜，形成絕緣膜；S7、對所述絕緣膜進行封孔處理，得到所述金屬殼體。根據本專利技術，首選需提供一具有盲槽作為通訊槽的鋁合金基體。此時，通訊槽底部為鋁合金金屬。本專利技術中，需要將該通訊槽底部的鋁合金加工為絕緣的氧化鋁陽極氧化膜。上述盲槽為機械領域所公知的結構，具體為，某一基材表面局部凹陷形成槽體，并且該槽體在基材的厚度方向上未貫穿整個基材。本專利技術中，為避免通訊槽底部的鋁合金發生變形，其厚度不宜過?。煌瑫r，為避免后續將鋁合金轉換為氧化鋁陽極氧化膜的過程過于繁瑣，使成本過高，優選情況下，所述鋁合金基材上，通訊槽底部的鋁合金厚度為0.018-0.022mm。上述步驟S1中，具有通訊槽的鋁合金基材可通過現有的各種方法本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種金屬殼體，其特征在于，包括鋁合金件、塑膠件和絕緣膜；所述鋁合金件上開設有貫穿鋁合金件內外的通訊槽，所述塑膠件填充于所述通訊槽內；所述絕緣膜同時覆蓋于所述鋁合金件及位于通訊槽內的塑膠件的外表面上；所述絕緣膜為陽極氧化膜。

【技術特征摘要】
1.一種金屬殼體，其特征在于，包括鋁合金件、塑膠件和絕緣膜；
所述鋁合金件上開設有貫穿鋁合金件內外的通訊槽，所述塑膠件填充于所
述通訊槽內；所述絕緣膜同時覆蓋于所述鋁合金件及位于通訊槽內的塑膠件的
外表面上；
所述絕緣膜為陽極氧化膜。
2.根據權利要求1所述的金屬殼體，其特征在于，所述絕緣膜位于所述通
訊槽底部的區域的厚度為0.004-0.005mm。
3.根據權利要求1或2所述的金屬殼體，其特征在于，所述通訊槽內壁覆
蓋有陽極氧化膜；所述塑膠件至少部分填充所述通訊槽內壁的陽極氧化膜的孔
隙。
4.根據權利要求3所述的金屬殼體，其特征在于，所述塑膠件為聚苯硫醚。
5.如權利要求1所述的金屬殼體的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：
S1、提供一鋁合金基材；所述鋁合金基材上具有通訊槽，所述通訊槽為盲
槽；
S2、在所述通訊槽內形成塑膠件；
S3、對所述鋁合金基材進行陽極氧化處理；
S4、對經過陽極氧化處理的鋁合金基材進行退鍍處理；
S5、對經過退鍍處理的的鋁合金基材進行陽極氧化處理；
S6、重復所述步驟S4和S5n次，其中n為0或自然數，直至所述通訊槽
底部的鋁合金全部轉換為陽極氧化膜，得到絕緣膜；
S7、對所述絕緣膜進行封孔處理，得到所述金屬殼體。
6.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述鋁合金基材上，通
訊槽底部的鋁合金厚度為0.018-0.022mm。
7.根據權利要求5或6所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S1中，

\t通過機加工在鋁合金材料表面形成所述通訊槽，得到所述鋁合金基材；
然后將所述鋁合金基材置于濃度為40-60g/L的除蠟劑中，在溫度為50-65℃
的條件下處理2-4min，再水洗；然后將所述鋁合金基材置于濃度為40-60g/L的
清洗劑中，在溫度為50-65℃的條件下處理2-4min，再水洗。
8.根據權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S1中還包括：
在60-70℃下，將鋁合金基材于濃度為60-100g/L氫氧化鈉溶液中堿蝕處理
10-20s，然后水洗；再在20-30℃下，于濃度為150-200ml/L的硝酸溶液中中和
處理40-60s，然后水洗。
9.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，在所述步驟S1之后S2
之前還包括對所述鋁合金基材進行前期...

【專利技術屬性】
技術研發人員：王海舟，羅文海，趙麗紅，
申請(專利權)人：比亞迪股份有限公司，
類型：發明
國別省市：廣東;44