綜合功能膜、其制作方法及OLED顯示面板技術

本發明專利技術提供了一種綜合功能膜、其制作方法及具有其的OLED顯示面板。該綜合功能膜包括：線偏光片，包括線偏光功能片層和接觸設置在線偏光功能片層一側表面上的硬化保護層，硬化保護層的硬化強度在鉛筆硬度5H以上；1/4波片，設置在線偏光功能片層的遠離硬化保護層的表面上；具有阻隔功能的觸控膜組，接觸設置在1/4波片的遠離線偏光功能片層的表面上。線偏光片的硬化保護層的鉛筆硬度在5H以上，因此可以作為保護蓋，既省去了現有技術中的玻璃蓋使得OLED顯示面板的厚度減小，而且利用線偏光片實現了柔性封裝。將水氧阻隔功能、觸控功能和偏光功能一體化，從而省去了粘附層，減小了封裝結構的厚度，簡化了工藝流程，保證了成品良率。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及顯示設備領域，具體而言，涉及一種綜合功能膜、其制作方法及具有其的OLED顯示面板。
技術介紹
OLED被視為最具有發展前景的下一代顯示技術，而柔性OLED器件則更被認為是OLED顯示的發展趨勢。由于對水汽與氧氣十分敏感，OLED器件中使用的有機材料如果暴露在外部環境中很容易就被氧化或結晶化，從而嚴重影響OLED器件的性能。因此，需要對OLED器件進行有效的封裝，使OLED的各功能層不接觸大氣中的水汽、氧氣等成分。目前市面上的OLED顯示產品均使用玻璃蓋封裝的方式防止水氧侵蝕，封裝效果可以滿足要求，但無法實現彎曲甚至彎折顯示。同時，為消除環境光的影響、提高對比度，OLED顯示器還使用了圓偏光片貼附在OLED器件的表面，再加上觸控膜組，導致屏體的整體厚度較大，不能凸顯OLED自發光薄型顯示及可柔性彎曲使用的優勢，比如由于圓偏光片、玻璃封蓋和觸控膜組的層疊設置，使工藝流程繁雜，且會導致OLED器件不在顯示結構的中心位置，導致柔性彎折應力較大，進而影響彎折柔性OLED的效果及壽命。另外，上述各層之間采用粘附層進行粘接，每次粘接時需要進行精密對位，否則容易帶來對位偏差，導致成品良率下降。
技術實現思路
本專利技術的主要目的在于提供一種綜合功能膜、其制作方法及具有其的OLED顯示面板，以解決現有技術中OLED顯示面板的圓偏光片、水氧阻隔層、觸控層以及保護蓋分開設置導致其工藝流程繁雜和良率低的問題。為了實現上述目的，根據本專利技術的一個方面，提供了一種綜合功能膜，包括：線偏光片，包括線偏光功能片層和接觸設置在線偏光功能片層一側表面上的硬化保護層，硬化保護層的硬化強度在鉛筆硬度5H以上；1/4波片，設置在線偏光功能片層的遠離硬化保護層的表面上；具有阻隔功能的觸控膜組，接觸設置在1/4波片的遠離線偏光功能片層的表面上。進一步地，上述硬化保護層的厚度為1～10μm，優選形成硬化保護層的材料為聚酯類樹脂，進一步優選為聚氨酯丙烯酸酯或聚酯丙烯酸酯。進一步地，上述觸控膜組包括：預處理層，接觸設置在1/4波片的遠離線偏光功能片層的表面上；水氧阻隔層，接觸設置在預處理層的遠離1/4波片的表面上；保護層，接觸設置在水氧阻隔層的遠離預處理層的表面上；第一觸控功能層，接觸設置在保護層的遠離水氧阻隔層的表面上。進一步地，上述觸控膜組還包括：平坦層，接觸設置在保護層的遠離水氧阻隔層的表面上，并覆蓋第一觸控功能層；以及第二觸控功能層，接觸設置在平坦層的遠離保護層的表面上。進一步地，上述觸控膜組包括：第一觸控功能層，接觸設置在1/4波片的遠離線偏光功能片層的表面上；預處理層，接觸設置在1/4波片的遠離線偏光功能片層的表面上，并覆蓋第一觸控功能層；水氧阻隔層，接觸設置在預處理層的遠離線偏光功能片層的表面上。進一步地，上述觸控膜組還包括：平坦層，接觸設置在水氧阻隔層的遠離預處理層的表面上；以及第二觸控功能層，接觸設置在平坦層的遠離水氧阻隔層的表面上。進一步地，形成上述預處理層的材料為SiNx、SiOx、HMDSO或聚酯，優選預處理層的厚度為1～3μm；優選形成保護層的材料為SiNX、SiOX、HMDSO或聚酯，進一步優選保護層的厚度為1～3μm，優選形成水氧阻隔層的材料為Al2O3、TiO2、SiN、SiO2、HMDSO或聚酯，進一步優選水氧阻隔層的厚度為10nm～5μm。進一步地，形成上述第一觸控功能層和第二觸控功能層的材料各自獨立地選自ITO、金屬網格、納米銀、石墨烯和碳納米管中的任意一種，優選第一觸控功能層的厚度為10nm～1μm，優選第二觸控功能層的厚度為10nm～1μm；優選形成平坦層的材料為有機樹脂材料，進一步優選平坦層的厚度為5～50μm。進一步地，上述1/4波片通過第一粘附層粘接在線偏光功能片層上。進一步地，上述綜合功能膜還包括第二保護層，第二保護層設置在觸控膜組的遠離1/4波片的表面上。為了實現上述目的，根據本專利技術的另一個方面，提供了一種上述的綜合功能膜的制作方法，該制作方法包括：步驟S1，制作綜合功能膜的線偏光片，線偏光片包括線偏光功能片層和接觸設置在線偏光功能片層一側表面上的硬化保護層，硬化保護層的硬化強度在鉛筆硬度5H以上；步驟S2，在綜合功能膜的1/4波片的一側表面上設置具有水氧阻隔功能的觸控膜組；步驟S3，將具有觸控膜組的1/4波片設置在線偏光功能片層的遠離硬化保護層的表面上，且觸控膜組遠離線偏光功能片層設置。進一步地，上述制作綜合功能膜的線偏光片的步驟包括：在線偏光功能片層的一側表面上通過真空鍍膜或涂布方法設置聚酯類樹脂材料，形成硬化保護層。進一步地，上述步驟S2包括：步驟S21，采用CVD、PVD、iCVD或涂布的方式在1/4波片的一側表面上形成預處理層；步驟S22，在預處理層的遠離1/4波片的表面上設置水氧阻隔材料，形成水氧阻隔層；步驟S23，采用CVD、PVD、iCVD或涂布的方式在水氧阻隔層上形成保護層；步驟S24，在保護層上設置第一觸控功能材料；步驟S25，對第一觸控功能材料進行圖形化處理，得到第一觸控功能層；優選地，步驟S26，在保護層上采用CVD、iCVD或涂布的方式形成覆蓋第一觸控功能層的平坦層；優選地，步驟S27，在平坦層上設置第二觸控功能材料；以及優選地，步驟S28，對第二觸控功能材料進行圖形化處理，得到第二觸控功能層。進一步地，上述步驟S2包括：步驟S21’，在1/4波片的一側表面上設置第一觸控功能材料；步驟S22’，對第一觸控功能材料進行圖形化處理，得到第一觸控功能層；步驟S23’，在1/4波片的一側表面上形成覆蓋第一觸控功能層的預處理層；步驟S24’，在預處理層上設置水氧阻隔材料，形成水氧阻隔層；優選地，步驟S25’，在水氧阻隔層上采用CVD、iCVD或涂布的方式形成平坦層；優選地，步驟S26’，在平坦層上設置第二觸控功能材料；以及優選地，步驟S27’，對第二觸控功能材料進行圖形化處理，得到第二觸控功能層。進一步地，上述水氧阻隔材料采用CVD、PVD、iCVD或ALD的方式設置。進一步地，上述觸控功能材料采用濺射、涂布或印刷的方式進行設置，優選真空濺射。進一步地，上述制作方法采用第一粘附層將具有觸控膜組的1/4波片與線偏光功能片層粘接。根據本專利技術的又一個方面，提供了一種OLED顯示面板，包括OLED組件和保護結構，該保護結構為上述的綜合功能膜，且線偏光片遠離OLED組件設置。進一步地，上述OLED組件包括：柔性襯底，具有第一表面和第二表面本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種綜合功能膜，其特征在于，包括：線偏光片(1)，包括線偏光功能片層(11)和接觸設置在所述線偏光功能片層(11)一側表面上的硬化保護層(12)，所述硬化保護層(12)的硬化強度在鉛筆硬度5H以上；1/4波片(3)，設置在所述線偏光功能片層(11)的遠離所述硬化保護層(12)的表面上；具有阻隔功能的觸控膜組(4)，接觸設置在所述1/4波片(3)的遠離所述線偏光功能片層(11)的表面上。

【技術特征摘要】
1.一種綜合功能膜，其特征在于，包括：
線偏光片(1)，包括線偏光功能片層(11)和接觸設置在所述線偏光功能片層(11)
一側表面上的硬化保護層(12)，所述硬化保護層(12)的硬化強度在鉛筆硬度5H以上；
1/4波片(3)，設置在所述線偏光功能片層(11)的遠離所述硬化保護層(12)的
表面上；
具有阻隔功能的觸控膜組(4)，接觸設置在所述1/4波片(3)的遠離所述線偏光功
能片層(11)的表面上。
2.根據權利要求1所述的綜合功能膜，其特征在于，所述硬化保護層(12)的厚度為1～10μm，
優選形成所述硬化保護層(12)的材料為聚酯類樹脂，進一步優選為聚氨酯丙烯酸酯或
聚酯丙烯酸酯。
3.根據權利要求1所述的綜合功能膜，其特征在于，所述觸控膜組(4)包括：
預處理層(41)，接觸設置在所述1/4波片(3)的遠離所述線偏光功能片層(11)
的表面上；
水氧阻隔層(42)，接觸設置在所述預處理層(41)的遠離所述1/4波片(3)的表
面上；
保護層(43)，接觸設置在所述水氧阻隔層(42)的遠離所述預處理層(41)的表
面上；
第一觸控功能層(44)，接觸設置在所述保護層(43)的遠離所述水氧阻隔層(42)
的表面上。
4.根據權利要求3所述的綜合功能膜，其特征在于，所述觸控膜組(4)還包括：
平坦層(45)，接觸設置在所述保護層(43)的遠離所述水氧阻隔層(42)的表面
上，并覆蓋所述第一觸控功能層(44)；以及
第二觸控功能層(46)，接觸設置在所述平坦層(45)的遠離所述保護層(43)的
表面上。
5.根據權利要求1所述的綜合功能膜，其特征在于，所述觸控膜組(4)包括：
第一觸控功能層(44)，接觸設置在所述1/4波片(3)的遠離所述線偏光功能片層
(11)的表面上；
預處理層(41)，接觸設置在所述1/4波片(3)的遠離所述線偏光功能片層(11)
的表面上，并覆蓋所述第一觸控功能層(44)；
水氧阻隔層(42)，接觸設置在所述預處理層(41)的遠離所述線偏光功能片層(11)

\t的表面上。
6.根據權利要求5所述的綜合功能膜，其特征在于，所述觸控膜組(4)還包括：
平坦層(45)，接觸設置在所述水氧阻隔層(42)的遠離所述預處理層(41)的表
面上；以及
第二觸控功能層(46)，接觸設置在所述平坦層(45)的遠離所述水氧阻隔層(42)
的表面上。
7.根據權利要求3或5所述的綜合功能膜，其特征在于，形成所述預處理層(41)的材料
為SiNx、SiOx、HMDSO或聚酯，優選所述預處理層(41)的厚度為1～3μm；優選形成
所述保護層(43)的材料為SiNX、SiOX、HMDSO或聚酯，進一步優選所述保護層(43)
的厚度為1～3μm，優選形成所述水氧阻隔層(42)的材料為Al2O3、TiO2、SiN、SiO2、
HMDSO或聚酯，進一步優選所述水氧阻隔層(42)的厚度為10nm～5μm。
8.根據權利要求4或6所述的綜合功能膜，其特征在于，形成所述第一觸控功能層(44)
和所述第二觸控功能層(46)的材料各自獨立地選自ITO、金屬網格、納米銀、石墨烯和
碳納米管中的任意一種，優選所述第一觸控功能層(44)的厚度為10nm～1μm，優選所述
第二觸控功能層(46)的厚度為10nm～1μm；優選形成所述平坦層(45)的材料為有機樹
脂材料，進一步優選所述平坦層(45)的厚度為5～50μm。
9.根據權利要求1所述的綜合功能膜，其特征在于，所述1/4波片(3)通過第一粘附層(2)
粘接在所述線偏光功能片層(11)上。
10.根據權利要求1所述的綜合功能膜，其特征在于，所述綜合功能膜還包括第二保護層，
所述第二保護層設置在所述觸控膜組(4)的遠離所述1/4波片(3)的表面上。
11.一種權利要求1至9中任一項所述的綜合功能膜的制作方法，其特征在于，所述制作方
法包括：
步驟S1，制作所述綜合功能膜的線偏光片(1...

【專利技術屬性】
技術研發人員：李碩，劉雪洲，于甄，柯榮鋒，蔣雷，談俊，
申請(專利權)人：張家港康得新光電材料有限公司，
類型：發明
國別省市：江蘇;32