一種直線往復式磁瓦形狀測量裝置制造方法及圖紙

本實用新型專利技術涉及一種直線往復式磁瓦形狀測量裝置，屬于無損檢測技術領域。本實用新型專利技術包括磁瓦傳輸裝置、磁瓦定位裝置、測量裝置；磁瓦傳輸裝置包括輸入傳輸帶、輸出傳輸帶、后直線模組、前直線模組、搬運機械手；所述磁瓦定位裝置包括后定位裝置安裝板、測量定位裝置、前定位裝置安裝板、后模組滑塊、前模組滑塊；所述測量裝置包括后光源支架、后位面光源、頂光源、頂視相機、相機支架、頂光源支架、標準尺、標準尺支架、前視相機、前位面光源、前光源支架、點光源、點光源支架。本實用新型專利技術能實現磁瓦的外弧、內弧以及長寬等尺寸測量。

Linear reciprocating type magnetic tile shape measuring device

The utility model relates to a linear reciprocating magnetic tile shape measuring device, which belongs to the technical field of nondestructive testing. The utility model comprises a transmission device, the measurement of magnetic tile magnetic tile positioning device, device; magnetic tile transmission device comprises an input transmission belt, transmission belt, line output module, module, front linear manipulator; the magnetic tile positioning device comprises a positioning device mounting plate, measurement positioning device, positioning device before mounting plate and after the module block, before the module slide; the measuring device comprises a light source bracket, after after a surface light source, a light top, top view camera, camera frame, light top bracket, standard size, standard ruler frame, forward-looking camera, front surface light source, the light source bracket, point source, point source support. The utility model can realize the measurement of the outer arc, the inner arc and the length and width of the magnetic tile.

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及一種直線往復式磁瓦形狀測量裝置，屬于無損檢測

技術介紹
目前磁瓦尺寸測量主要采用離線方式進行，在線對磁瓦的測量僅限于采用通規進行。隨著電機生產企業對磁瓦尺寸精度要求的提高，磁瓦生產廠家相應也要提高磁瓦的外形尺寸測量，而適用于生產線的在線測量裝置是提高測量效率的合適設備。磁瓦生產過程中內弧和外弧的圓弧半徑，以及長寬尺寸是重要尺寸，但是磁瓦生產過程中，由于工藝因素，磁瓦端面和內外弧軸線的垂直度精度不高，因此，以被測表面本身進行定位，或者以與被測表面相對位置公差較小其它表面來測量就很重要了，本技術所設計的工藝裝備可以實現磁瓦內弧、外弧以及長寬尺寸測量。
技術實現思路
本技術的目的在于，針對上述存在的問題，提供一種使用較少設備，測量效率較高，并且在一個位置能夠同時對磁瓦外弧、內弧以及長寬尺寸進行測量的裝置。本技術技術方案是：一種直線往復式磁瓦形狀測量裝置，包括磁瓦傳輸裝置1、磁瓦定位裝置2、測量裝置3；所述磁瓦傳輸裝置1包括輸入傳輸帶22、輸出傳輸帶23、后直線模組24、前直線模組25、搬運機械手26；所述輸入傳輸帶22與輸出傳輸帶23傳輸方向一致，所述后直線模組24與前直線模組25安裝在測量裝置支架4上，所述后直線模組24與前直線模組25輸送磁瓦29的方向與輸入傳輸帶22的輸送方向垂直，所述搬運機械手26布置在輸入傳輸帶22、輸出傳輸帶23與測量裝置支架4之間；搬運機械手26將未測量的磁瓦29從輸入傳輸帶22吸取，然后放入測量定位裝置6，將測量過的磁瓦29從輸出傳輸帶23上吸取，放入輸出傳輸帶23；后直線模組24和前直線模組25均內含伺服電機和滾珠絲杠驅動裝置，能驅動后模組滑塊20和前模組滑塊21快速運動；所述磁瓦定位裝置2包括后定位裝置安裝板5、測量定位裝置6、前定位裝置安裝板16、后模組滑塊20、前模組滑塊21；所述后定位裝置安裝板5安裝在后模組滑塊20上，所述后模組滑塊20安裝在后直線模組24上，所述前定位裝置安裝板16安裝在前模組滑塊21上，所述前模組滑塊21安裝在前直線模組25上，所述測量定位裝置6安裝在后定位裝置安裝板5和前定位裝置安裝板16上；后定位裝置安裝板5和前定位裝置安裝板16分別安裝后有高度差，在后直線模組24和前直線模組25工作時，后定位裝置安裝板5和前定位裝置安裝板16之間不會發生干涉，后定位裝置安裝板5和前定位裝置安裝板16上安裝的測量定位裝置6在位置上要保證外弧定位塊27或者內弧定位塊31的端面在同一平面內，從而保證被測量磁瓦29端面在同一平面上完成測量；所述測量裝置3包括后光源支架7、后位面光源8、頂光源9、頂視相機10、相機支架11、頂光源支架12、標準尺13、標準尺支架14、前視相機15、前位面光源17、前光源支架18、點光源19、點光源支架30；所述后位面光源8安裝在后光源支架7上，所述頂光源9安裝在頂光源支架12上，所述標準尺13安裝在標準尺支架14上，所述頂視相機10和前視相機15安裝在相機支架11上，所述前位面光源17安裝在前光源支架18上，所述點光源19安裝在點光源支架30上，所述頂光源支架12安裝在相機支架11上，所述后光源支架7、標準尺支架14、前光源支架18和點光源支架30安裝在測量裝置支架4上，后位面光源8是用來測量后定位裝置安裝板5上的磁瓦內外弧尺寸照明用的，前位面光源17是用來測量前定位裝置安裝板16上的磁瓦內外弧尺寸照明用的，頂光源9是用來測量磁瓦長寬尺寸照明用的，頂視相機10是用來測量磁瓦長寬尺寸的，前視相機15是用來測量磁瓦內外弧尺寸的，標準尺13是用來校正前視相機15軸線安裝與外弧定位塊弧面32或者內弧定位塊弧面33軸線不平行誤差的；所述磁瓦內外弧測量定位方法是：利用外弧定位同時測量外弧尺寸和內弧尺寸或者利用內弧定位同時測量內弧尺寸和外弧尺寸；在本技術所述的測量定位裝置上，既可以采用外弧定位塊27對磁瓦進行定位，也可以采用內弧定位塊31對磁瓦進行定位，無論采用哪種定位方式，前視相機15都可以在一次成像中測量出磁瓦的內弧和外弧尺寸；利用內弧定位測量內弧尺寸時，點光源19發出的光從內弧縫隙37透過，進入前視相機15，利用外弧定位測量外弧尺寸時，點光源19發出的光從外弧縫隙38透過，進入前視相機15，測量內弧縫隙37或外弧縫隙38尺寸，并利用外弧定位塊弧面32或內弧定位塊弧面33的尺寸，可以計算出磁瓦內弧尺寸和外弧尺寸。所述直線往復式磁瓦測量運輸方法是：前直線模組25運輸的磁瓦29測量尺寸時，搬運機械手26為后直線模組24卸載已經測量的磁瓦29，并加載待測量的磁瓦29，同樣，后直線模組24運輸的磁瓦29測量尺寸時，搬運機械手26為前直線模組25卸載已經測量的磁瓦29，并加載待測量的磁瓦29；前直線模組25和后直線模組24交替進行磁瓦測量，可以合理利用裝載磁瓦時間，減少整個測量過程的中的等待時間，同時只需要一臺前視相機15和一臺頂視相機10即可完成磁瓦尺寸測量；磁瓦的徑向截面中，外弧線只由一段圓弧構成，而對于內弧截面弧線，有時由一段圓弧構成，有時為三段圓弧構成，即磁瓦內弧面由三段圓弧面構成。所述測量定位裝置6包括外弧測量定位裝置或內弧測量定位裝置；外弧測量定位裝置包括外弧定位塊27、磁瓦擋塊28；內弧測量定位裝置包括內弧定位塊31、磁瓦擋塊28；所述磁瓦擋塊28安裝在外弧定位塊27或者內弧定位塊31的兩側，磁瓦29測量時放置在外弧定位塊27或者內弧定位塊31上，磁瓦29端面與外弧定位塊27或者內弧定位塊31的端面對齊。所述外弧定位塊27的外弧定位塊弧面32的弧面形狀尺寸與磁瓦29的外弧面形狀尺寸相同；對于由三段圓弧面組成內弧面的磁瓦29，本技術所述內弧定位塊弧面33的截面圓弧半徑與磁瓦29的內弧外側弧線34的半徑相同；對于由單一弧面組成磁瓦內弧面的磁瓦29，內弧定位塊弧面33的弧面形狀尺寸與磁瓦29的內弧面形狀尺寸相同。所述測量定位裝置6采用外弧定位塊27測量外弧尺寸時，使用點光源19照明；測量定位裝置6采用內弧定位塊31測量內弧尺寸時，使用點光源19照明。點光源19的工作時間段與后位面光源8和前位面光源17的工作時間段錯開。所述測量定位裝置6采用外弧定位塊27測量內弧尺寸與采用內弧定位塊31測量外弧尺寸時，裝載在前直線模組25上的磁瓦29使用前位面光源17照明，裝載在后直線模組24上的磁瓦29使用后位面光源8照明，前位面光源17與后位面光源8分時工作。本技術在前直線模組25和后直線模組24上安裝多個測量定位裝置。本技術的工作過程是：對于采用內弧定位的磁瓦測量過程如下：磁瓦經輸入傳輸帶到達搬運機械手吸取區域，搬運機械手將磁瓦吸取到前定位裝置安裝板上的外弧定位塊或者內弧定位塊上，前直線模組動作，將磁瓦運輸至前視相機相機處，開始測量第一塊磁瓦，點光源打開，測量內弧尺寸，點光源關閉，前位面光源打開，測量磁瓦外弧尺寸，前位面光源關閉，頂光源打開，測量磁瓦長寬尺寸，頂光源，第一塊磁瓦測量完之后，前直線模組繼續動作將第二塊磁瓦輸送至前視相機相機處，開始測量第二塊磁瓦，測量動作順序與第一塊磁瓦測量相同，當所有磁瓦測量完畢，前直線模組向相反方向動作，將測量完的磁瓦送回取磁瓦區域。在前直線模組載著磁瓦尺寸本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種直線往復式磁瓦形狀測量裝置，其特征在于：包括磁瓦傳輸裝置（1）、磁瓦定位裝置（2）、測量裝置（3）；所述磁瓦傳輸裝置（1）包括輸入傳輸帶（22）、輸出傳輸帶（23）、后直線模組（24）、前直線模組（25）、搬運機械手（26）；所述輸入傳輸帶（22）與輸出傳輸帶（23）傳輸方向一致，所述后直線模組（24）與前直線模組（25）安裝在測量裝置支架（4）上，所述后直線模組（24）與前直線模組（25）輸送磁瓦（29）的方向與輸入傳輸帶（22）的輸送方向垂直，所述搬運機械手（26）布置在輸入傳輸帶（22）、輸出傳輸帶（23）與測量裝置支架（4）之間；所述磁瓦定位裝置（2）包括后定位裝置安裝板（5）、測量定位裝置（6）、前定位裝置安裝板（16）、后模組滑塊（20）、前模組滑塊（21）；所述后定位裝置安裝板（5）安裝在后模組滑塊（20）上，所述后模組滑塊（20）安裝在后直線模組（24）上，所述前定位裝置安裝板（16）安裝在前模組滑塊（21）上，所述前模組滑塊（21）安裝在前直線模組（25）上，所述測量定位裝置（6）安裝在后定位裝置安裝板（5）和前定位裝置安裝板（16）上；所述測量裝置（3）包括后光源支架（7）、后位面光源（8）、頂光源（9）、頂視相機（10）、相機支架（11）、頂光源支架（12）、標準尺（13）、標準尺支架（14）、前視相機（15）、前位面光源（17）、前光源支架（18）、點光源（19）、點光源支架（30）；所述后位面光源（8）安裝在后光源支架（7）上，所述頂光源（9）安裝在頂光源支架（12）上，所述標準尺（13）安裝在標準尺支架（14）上，所述頂視相機（10）和前視相機（15）安裝在相機支架（11）上，所述前位面光源（17）安裝在前光源支架（18）上，所述點光源（19）安裝在點光源支架（30）上，所述頂光源支架（12）安裝在相機支架（11）上，所述后光源支架（7）、標準尺支架（14）、前光源支架（18）和點光源支架（30）安裝在測量裝置支架（4）上。...

【技術特征摘要】
1.一種直線往復式磁瓦形狀測量裝置，其特征在于：包括磁瓦傳輸裝置（1）、磁瓦定位裝置（2）、測量裝置（3）；所述磁瓦傳輸裝置（1）包括輸入傳輸帶（22）、輸出傳輸帶（23）、后直線模組（24）、前直線模組（25）、搬運機械手（26）；所述輸入傳輸帶（22）與輸出傳輸帶（23）傳輸方向一致，所述后直線模組（24）與前直線模組（25）安裝在測量裝置支架（4）上，所述后直線模組（24）與前直線模組（25）輸送磁瓦（29）的方向與輸入傳輸帶（22）的輸送方向垂直，所述搬運機械手（26）布置在輸入傳輸帶（22）、輸出傳輸帶（23）與測量裝置支架（4）之間；所述磁瓦定位裝置（2）包括后定位裝置安裝板（5）、測量定位裝置（6）、前定位裝置安裝板（16）、后模組滑塊（20）、前模組滑塊（21）；所述后定位裝置安裝板（5）安裝在后模組滑塊（20）上，所述后模組滑塊（20）安裝在后直線模組（24）上，所述前定位裝置安裝板（16）安裝在前模組滑塊（21）上，所述前模組滑塊（21）安裝在前直線模組（25）上，所述測量定位裝置（6）安裝在后定位裝置安裝板（5）和前定位裝置安裝板（16）上；所述測量裝置（3）包括后光源支架（7）、后位面光源（8）、頂光源（9）、頂視相機（10）、相機支架（11）、頂光源支架（12）、標準尺（13）、標準尺支架（14）、前視相機（15）、前位面光源（17）、前光源支架（18）、點光源（19）、點光源支架（30）；所述后位面光源（8）安裝在后光源支架（7）上，所述頂光源（9）安裝在頂光源支架（12）上，所述標準尺（13）安裝在標準尺支架（14）上，所述頂視相機（10）和前視相機（15）安裝在相機支架（11）上，所述前位面光源（17）安裝在前光源支架（18）上，所述點光源（19）安裝在點光源支架（30）上，所述頂光...

【專利技術屬性】
技術研發人員：蔣紅海，錢俊兵，楊曉京，袁銳波，羅璟，何祖順，
申請(專利權)人：昆明理工大學，
類型：新型
國別省市：云南;53