偏光板用粘著劑組成物、偏光板用粘著膜、偏光板及光學顯示器制造技術

本文中公開一種偏光板用粘著劑組成物、偏光板用粘著膜、偏光板以及光學顯示器。所述偏光板用粘著劑組成物包含(甲基)丙烯酸共聚物、異氰酸酯交聯劑以及硅烷偶合劑，其中按硅烷偶合劑的烷氧基硅烷基團及異氰酸酯交聯劑的異氰酸酯基的總摩爾數計，(甲基)丙烯酸共聚物的羥基的摩爾數比率(A)可以介于2.5摩爾％到4摩爾％范圍內，并且其中硅烷偶合劑的烷氧基硅烷基團的摩爾數比率(B)可以介于50摩爾％到80摩爾％范圍內，并且異氰酸酯交聯劑的異氰酸酯基的摩爾數比率(C)可以介于20摩爾％到50摩爾％范圍內。所述粘著劑組成物應用于偏光板，對偏光片具有高粘著力，且具有極佳耐濕熱性、可靠性及低翹曲值。

【技術實現步驟摘要】
相關申請的交叉引用本專利技術要求2014年11月28日在韓國知識產權局提交的韓國專利申請第10-2014-0169207號的優先權及權益，所述專利申請的全部內容以引用的方式并入本文中。
本專利技術涉及一種偏光板用粘著劑組成物、使用其的粘著膜、包含其的偏光板以及包含其的光學顯示器。
技術介紹
液晶顯示器包含堆疊在液晶顯示面板的每個表面上的偏光板。偏光板包含偏光片及形成于偏光片的每個表面上的保護膜。偏光板可以經由形成于保護膜的一個表面上的粘著劑層而堆疊在液晶顯示面板上。有利的是，僅在偏光片的一個表面上形成有保護膜的偏光板(當所述保護膜是三乙酰纖維素(triacetylcellulose；TAC)膜時，被稱為無TAC偏光板(TAClesspolarizingplate))可以減少材料費用同時具有薄厚度。僅在偏光片的一個表面上形成有保護膜的此類無TAC偏光板可能具有高翹曲值(warpagevalue)并且展現不良耐久性及可靠性。為了增強耐久性及可靠性，粘著劑層可以包含通過包含含羧酸基的單體的單體混合物的聚合獲得的(甲基)丙烯酸共聚物。然而，當用于氧化銦錫(indiumtinoxide；ITO)金屬涂布的面線轉換(plane-to-lineswitching；PLS)或平面轉換(in-planeswitching；IPS)液晶面板時，此類粘著劑層可能由于其中的羧酸基而造成金屬涂層的腐蝕。此外，因為在無TAC偏光板中，偏光片直接鄰接粘著劑層，所以有必要確保偏光片與粘著劑層之間的粘著力以提供可再加工性。然而，典型的粘著劑層在增強偏光片與粘著劑層之間的粘著力方面具有局限性。另外，因為在無TAC偏光板中，偏光片直接鄰接粘著劑層，所以偏光片在如高溫及/或高濕環境的惡劣環境中可能遭受開裂。為了解決這些問題，粘著劑層對偏光片必須具有極佳的粘著力。如上所述，典型的粘著劑層在增強偏光片與粘著劑層之間的粘著力方面具有局限性。在現有技術中，日本專利公開第2012-067275A號公開了一種偏光板用粘著劑及一種包含使用其形成的粘著劑層的偏光板。
技術實現思路
本專利技術的一個方面是提供一種可以實現對偏光片具有高粘著力的粘著膜的偏光板用粘著劑組成物。根據本專利技術的一個方面，偏光板用粘著劑組成物包含：(甲基)丙烯酸共聚物、異氰酸酯交聯劑以及硅烷偶合劑，其中按硅烷偶合劑的烷氧基硅烷基團及異氰酸酯交聯劑的異氰酸酯基的總摩爾數計，(甲基)丙烯酸共聚物的羥基的摩爾數比率A可以介于2.5摩爾％到4摩爾％范圍內，硅烷偶合劑的烷氧基硅烷基團的摩爾數比率B可以介于50摩爾％到80摩爾％范圍內，并且異氰酸酯交聯劑的異氰酸酯基的摩爾數比率C可以介于20摩爾％到50摩爾％范圍內。根據本專利技術的另一個方面，偏光板用粘著膜可以具有1,000克力/英寸或大于1,000克力/英寸的對偏光片的粘著強度。根據本專利技術的另一個方面，偏光板可以包含如上文所述的偏光板用粘著膜。根據本專利技術的另一個方面，光學顯示器可以包含如上文所述的偏光板。本專利技術提供一種偏光板用粘著劑組成物，其用于包含偏光片及僅形成于偏光片的一個表面上的保護膜的偏光板中，并且可以實現具有極佳耐濕熱性、可靠性及低翹曲值的粘著膜。另外，本專利技術提供一種當用于液晶顯示面板中時可以實現不會造成金屬涂層的腐蝕的粘著膜的偏光板用粘著劑組成物。此外，本專利技術提供一種可以實現對偏光片具有高粘著力的粘著膜的偏光板用粘著劑組成物。附圖說明圖1是根據本專利技術的一個實施例的偏光板的截面視圖。圖2是根據本專利技術的一個實施例的液晶顯示器的截面視圖。具體實施方式將參考附圖詳細描述本專利技術的實施例。應了解，本專利技術可以按不同方式實施并且不限于以下實施例。在圖式中，為清楚起見將省去與描述無關的部分。在本說明書通篇中，類似組件將由類似圖式元件符號表示。如本文所用，術語“(甲基)丙烯酸”可以指丙烯酸及/或甲基丙烯酸，并且術語“(甲基)丙烯酸酯”可以指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。如本文所用，如“上”及“下”的方向性術語參考附圖來定義。因此，應了解，術語“上側”可以與術語“下側”互換使用。如本文所用，“(甲基)丙烯酸共聚物的羥基的摩爾數比率A”由方程式1表示：(甲基)丙烯酸共聚物的羥基的摩爾數比率A＝(a2/a1)×100其中在方程式1中，a1表示用于(甲基)丙烯酸共聚物的單體混合物中所含的單體的總摩爾數(單位：摩爾)，并且a2表示含羥基的(甲基)丙烯酸單體的摩爾數(單位：摩爾)。如本文所用，“硅烷偶合劑的烷氧基硅烷基團的摩爾數的比率(B)”由方程式2表示：硅烷偶合劑的烷氧基硅烷基團的摩爾數比率B＝{b/(b+c)本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種偏光板用粘著劑組成物，其特征在于，包括(甲基)丙烯酸共聚物、異氰酸酯交聯劑以及硅烷偶合劑，其中由方程式1表示的所述(甲基)丙烯酸共聚物的羥基的摩爾數比率A介于2.5摩爾％到4摩爾％范圍內，由方程式2表示的所述硅烷偶合劑的烷氧基硅烷基團的摩爾數比率B介于50摩爾％到80摩爾％范圍內，以及由方程式3表示的所述異氰酸酯交聯劑的異氰酸酯基的摩爾數比率C介于20摩爾％到50摩爾％范圍內，<方程式1>(甲基)丙烯酸共聚物的羥基的摩爾數比率A＝(a2/a1)×100其中a1表示用于(甲基)丙烯酸共聚物的單體混合物中所包含的單體的總摩爾數，并且a2表示含羥基的(甲基)丙烯酸單體的摩爾數，<方程式2>硅烷偶合劑的烷氧基硅烷基團的摩爾數比率B＝{b/(b+c)}×100<方程式3>異氰酸酯交聯劑的異氰酸酯基的摩爾數比率C＝{c/(b+c)}×100其中b表示(粘著劑組成物的硅烷偶合劑的摩爾數)×(一分子的硅烷偶合劑中所含的烷氧基硅烷基團的數量)，并且c表示(粘著劑組成物的異氰酸酯交聯劑的摩爾數)×(一分子的異氰酸酯交聯劑中所含的異氰酸酯基的數量)。

【技術特征摘要】
2014.11.28 KR 10-2014-01692071.一種偏光板用粘著劑組成物，其特征在于，包括(甲基)丙烯酸共聚物、
異氰酸酯交聯劑以及硅烷偶合劑，
其中由方程式1表示的所述(甲基)丙烯酸共聚物的羥基的摩爾數比率A
介于2.5摩爾％到4摩爾％范圍內，
由方程式2表示的所述硅烷偶合劑的烷氧基硅烷基團的摩爾數比率B介
于50摩爾％到80摩爾％范圍內，以及<...

【專利技術屬性】
技術研發人員：金源，趙河潤，金已恩，李昇勳，韓仁天，
申請(專利權)人：三星SDI株式會社，
類型：發明
國別省市：韓國;KR