分瓣式天線反射面及其設計方法技術

本發明專利技術涉及分瓣式天線反射面及其設計方法。分瓣式天線反射面包括連接在一起的至少兩個分瓣，在相鄰的兩個分瓣的相對的兩個側面之間設有三維定位機構，該三維定位機構對所述相鄰的兩個分瓣進行三維定位并將所述相對的兩個側面彼此間隔開。分瓣式天線反射面的相鄰的兩個分瓣之間具有高定位精度，通過分瓣式天線反射面的設計方法能夠使相鄰的兩個分瓣之間具有高定位精度。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及天線，尤其涉及分瓣式天線反射面及其設計方法。
技術介紹
反射面是天線的一個重要組成部分，它利用聚焦原理，將由焦點發出的球面波經其反射后變換成平面波；反之，當它用于接收時，它能將沿其軸向傳來的平面波經反射后聚焦到焦點上。目前，反射面主要包括整體式天線反射面和分瓣式天線反射面。其中，分瓣式天線反射面是由多個分瓣連接在一起形成的。目前的分瓣式天線反射面一般采用相鄰的兩個分瓣的相對兩個側面對齊、每套反射面分別調整等辦法進行裝配。在實際加工中，分瓣是存在誤差的，其側面不可能是完全平滑的，這樣的反射面的均方根誤差σ≥0.5mm。所以，由于分瓣的加工誤差以及裝配誤差，對相對于同口徑的反射面來說，分瓣式天線反射面的誤差比整體式天線反射面的誤差更大。這種誤差會使遠旁瓣電平升高，使天線增益下降。總體而言，從使用效果來看，現有的分瓣式天線反射面主要存在以下幾個問題：1、利用相鄰的兩個分瓣的相對的兩個側面定位，受整個側面平面度、法向位移尺寸的誤差的影響，使得相鄰的兩個分瓣之間的定位不準確；2、在相鄰的兩個分瓣連接時，每套反射面分別進行調整，導致相同的分瓣在不同反射面之間沒有互換性；3、定位基準不精確，導致裝配誤差過大。
技術實現思路
(一)要解決的技術問題本專利技術要解決的技術問題是提供一種相鄰的兩個分瓣之間具有高定位精度的分瓣式天線反射面及其設計方法。(二)技術方案為了解決上述技術問題，本專利技術一方面提供一種分瓣式天線反射面，包括連接在一起的主瓣和至少一個側瓣至少兩個分瓣，在相鄰的兩個分瓣的相對的兩個側面之間設有三維定位機構，該三維定位機構對相鄰的兩個分瓣進行三維定位并將相對的兩個側面彼此間隔開。根據本專利技術，三維定位機構包括第一定位結構和第二定位結構；其中，第一定位結構和第二定位結構分別設置在相對的兩個側面上，第一定位結構和第二定位結構相配合對相鄰的兩個分瓣進行三維定位。根據本專利技術，第一定位結構包括第一凸起和第一定位件，第一凸起由第一定位結構所在的側面延伸出，第一凸起的端面構造為其向第一凸起所在的側面偏移第一距離時能夠與該側面重合；第二定位結構包括第二凸起和第二定位件，第二凸起由第二定位結構所在的側面延伸出，第二凸起的端面構造為其向第二凸起所在的側面偏移第二距離時能夠與該側面重合；其中，第一凸起的端面與第二凸起的端面相抵靠，對相鄰的兩個分瓣在相對的兩個側面的法向方向上進行定位，第一定位件和第二定位件配合，對相鄰的兩個分瓣在同時垂直于法向方向并彼此垂直的兩個方向上進行定位。根據本專利技術，第一定位件設置在第一凸起的端面上，第二定位件設置在第二凸起的端面上；和/或第一定位件和第二定位件中的一個為定位銷，另一個為定位銷孔；和/或第一凸起和第二凸起均為預埋塊；和/或第一凸起和第二凸起的材料為金屬。根據本專利技術，第一定位件設置在第一凸起的端面上，第二定位件設置在第二凸起的端面上。根據本專利技術，第一定位件和第二定位件中的一個為定位銷，另一個為定位銷孔。根據本專利技術，第一凸起和第二凸起均為預埋塊。根據本專利技術，第一凸起和第二凸起的材料為金屬。根據本專利技術，相對的兩個側面之間的垂直距離位于不影響分瓣式天線反射面的電性能的范圍內。根據本專利技術，至少兩個分瓣為至少三個分瓣，至少三個分瓣包括一個主瓣和至少兩個副瓣；副瓣和與其相連的分瓣之間的配合精度與連接于該副瓣的分瓣數量相對應，從連接最多分瓣的副瓣至連接最少分瓣的副瓣，副瓣和與其相連的分瓣之間的配合精度依次遞減，其中，在相連的兩個副瓣各自連接的分瓣數量不同的情況下，這兩個副瓣之間的配合精度等于連接有更多分瓣的副瓣與其他分瓣之間的配合精度。根據本專利技術，配合精度的遞減量大于或等于2級。根據本專利技術，在相鄰的兩個分瓣的外周側設有將二者連接的緊固型連接組件；在主瓣和與其相鄰的副瓣的背面設有將二者連接的可調連接組件。根據本專利技術，緊固型連接組件為緊固搭扣組件，可調連接組件為彈簧搭扣組件。本專利技術的再一方面，涉及一種分瓣式天線反射面的設計方法，包括如下步驟：S1，在反射面上確定分割線的位置；S2，將分割線向其兩側分別平移第一距離和第二距離形成第一側壁線和第二側壁線；S3，分割線兩側的兩個分瓣的相對的兩個側面相應地沿第一側壁線和第二側壁線設置；S4，布置第一凸起和第二凸起，其中，第一凸起從相對的兩個側面中的一個側面延伸出且第一凸起的端面形狀構造為其向第一凸起所在的側面偏移第一距離時能夠與該側面重合，第二凸起從相對的兩個側面中的另一個側面延伸出且第二凸起的端面形狀構造為其向第二凸起所在的側面偏移第二距離時能夠與該側面重合，并且第一凸起和第二凸起的端面在分割線處相抵靠，對相鄰的兩個分瓣在相對的兩個側面的法向方向上進行定位；S5，布置第一定位件和第二定位件，在第一凸起的端面上設置第一定位件，在第一凸起的端面上設置第二定位件，第一定位件和第二定位件配合，對相鄰的兩個分瓣在同時垂直于法向方向并彼此垂直的兩個方向上進行定位；其中，第一凸起、第二凸起、第二定位件和第三定位件構成了三維定位機構，該三維定位機構對分割線兩側的兩個分瓣進行三維定位并將這兩個分瓣的相對的兩個側面彼此間隔開。根據本專利技術，第一距離和第二距離之和位于不影響分瓣式天線反射面的電性能的范圍內。(三)有益效果本專利技術的上述技術方案具有如下優點：本專利技術的分瓣式天線反射面，包括連接在一起的至少兩個分瓣，在相鄰的兩個分瓣的相對的兩個側面之間設有三維定位機構，該三維定位機構對相鄰的兩個分瓣進行三維定位并將相對的兩個側面彼此間隔開。由此，避免了采用由相鄰的兩個分瓣的兩個側面進行定位的方式，而是將相鄰的兩個分瓣的相對的兩個側面彼此間隔開并另外采用三維定位機構進行三維定位，進而避免了受分瓣的整個側面的平面度、法向位移尺寸的誤差的影響而使相鄰的兩個分瓣之間的定位不準確的問題，使得該分瓣式天線反射面較現有技術其相鄰的兩個分瓣之間具有更高的定位精度。本專利技術涉及一種分瓣式天線反射面的設計方法，通過該設計方法設計出的分瓣式天線反射面，避免了采用由相鄰的兩個分瓣的兩個側面進行定位的方式，而是將相鄰的兩個分瓣的相對的兩個側面彼此間隔開并另外采用三維定位機構進行三維定位，進而避免了受分瓣的整個側面的平面度、法向位移尺寸的誤差的影響而使相鄰的兩個分瓣之間的定位不準確的問題，使得該分瓣式天線反射面較現有技術其相鄰的兩個分瓣之間具有更高的定位精度。附圖說明圖1是本專利技術的分瓣式天線反射面的一個實施例主視示意圖；圖2是圖1中示出的分瓣式天線反射面的第一分解示意圖，主要示出了多個分瓣之間的分解；圖3是圖1中示出的分瓣式天線反射面的分瓣原理示意圖；圖4是圖1中示出的分瓣式天線反射面的第一局部示意圖；圖5是圖1中示出的分瓣式天線反射面的第二局部示意圖；圖6是圖1中示出的分瓣式天線反射面的局部分解示意圖；圖7是圖1中示出的分瓣式天線反射面的后視圖，在該后視圖中，還示出了分瓣式天線反射面的背架，背架在圖本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種分瓣式天線反射面，包括連接在一起的至少兩個分瓣，其特征在于，在相鄰的兩個所述分瓣的相對的兩個側面之間設有三維定位機構(1)，該三維定位機構(1)對所述相鄰的兩個分瓣進行三維定位并將所述相對的兩個側面彼此間隔開。

【技術特征摘要】
1.一種分瓣式天線反射面，包括連接在一起的至少兩個分瓣，其
特征在于，
在相鄰的兩個所述分瓣的相對的兩個側面之間設有三維定位機構
(1)，該三維定位機構(1)對所述相鄰的兩個分瓣進行三維定位并將
所述相對的兩個側面彼此間隔開。
2.根據權利要求1所述的分瓣式天線反射面，其特征在于，
所述三維定位機構(1)包括第一定位結構(11)和第二定位結構
(12)；
其中，所述第一定位結構(11)和所述第二定位結構(12)分別
設置在所述相對的兩個側面上，所述第一定位結構(11)和所述第二
定位結構(12)相配合對所述相鄰的兩個分瓣進行三維定位。
3.根據權利要求2所述的分瓣式天線反射面，其特征在于，
所述第一定位結構(11)包括第一凸起(111)和第一定位件(112)，
所述第一凸起(111)由所述第一定位結構(11)所在的側面延伸出，
所述第一凸起(111)的端面構造為其向所述第一凸起(111)所在的側
面偏移第一距離時能夠與該側面重合；
所述第二定位結構(12)包括第二凸起(121)和第二定位件(122)，
所述第二凸起(121)由所述第二定位結構(12)所在的側面延伸出，
所述第二凸起(121)的端面構造為其向所述第二凸起(121)所在的
側面偏移第二距離時能夠與該側面重合；
其中，所述第一凸起(111)的端面與所述第二凸起(121)的端
面相抵靠，對所述相鄰的兩個分瓣在所述相對的兩個側面的法向方向
上進行定位，所述第一定位件(112)和所述第二定位件(122)配合，
對所述相鄰的兩個分瓣在同時垂直于所述法向方向并彼此垂直的兩個
方向上進行定位。
4.根據權利要求3所述的分瓣式天線反射面，其特征在于，
所述第一定位件(112)設置在所述第一凸起(111)的端面上，
所述第二定位件(122)設置在所述第二凸起(121)的端面上；和/或
所述第一定位件(112)和所述第二定位件(122)中的一個為定
位銷，另一個為定位銷孔；和/或
所述第一凸起(111)和所述第二凸起(121)均為預埋塊；和/或
所述第一凸起(111)和所述第二凸起(121)的材料為金屬。
5.根據權利要求1-4中任一項所述的分瓣式天線反射面，其特征
在于，
所述相對的兩個側面之間的垂直距離位于不影響所述分瓣式天線
反射面的電性能的范圍內。
6.根據權利要求1-4中任一項所述的分瓣式天線反射面，其特征
在于，
所述至少兩個分瓣為至少三個分瓣，所述至少三個分瓣包括一個
主瓣(2)和...

【專利技術屬性】
技術研發人員：陳懷超，
申請(專利權)人：北京愛科迪通信技術股份有限公司，
類型：發明
國別省市：北京;11