濕式制程設備制造技術

本實用新型專利技術公開了一種濕式制程設備，包含一腔體、一輸送機構、一噴灑模塊、多個液浮載板以及一盛盤，所述腔體內形成有用以容置一基板的一腔室，所述輸送機構對應所述基板的一側邊部并用以輸送所述基板，所述噴灑模塊設置在所述腔室內并用以對所述基板的一上表面噴灑一處理液，所述多個液浮載板設置在所述噴灑模塊下方并用以對所述基板的一下表面噴射所述處理液，所述盛盤設置在所述多個液浮載板周圍，所述盛盤盛裝所述處理液，使盛裝在所述盛盤的所述處理液漫淹所述基板的所述上表面。

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及一種濕式制程設備，特別涉及一種可對基板進行雙面制程的濕式制程設備。
技術介紹
一般而言，業界多采用濕式制程來對觸控面板的玻璃基板進行加工，濕式制程例如為將玻璃基板經過蝕刻制程進行圖案化的蝕刻或是經過清先制程進行表面清洗等。當玻璃基板在進行上述的濕式制程時，多利用滾輪同時對玻璃基板的板體及從板體延伸的側邊部進行固定與輸送，且利用上噴頭對玻璃基板的上表面噴灑處理液以及利用下噴頭對玻璃基板的下表面噴灑處理液，借此便可對玻璃基板的上下表面進行濕式制程。然而，當上噴頭與下噴頭分別對玻璃基板噴灑處理液時，所噴灑的處理液容易自玻璃基板的上表面及下表面流失，尤其是玻璃基板的下表面，常因重力作用而使噴灑在下表面的處理液離開玻璃基板的下表面，導致噴灑在下表面的處理液未有足夠的反應時間而影響濕式制程的進行。
技術實現思路
因此，本技術提供一種可對基板上下雙面進行有效制程的濕式制程設備，以解決上述問題。為了達成上述目的，本技術揭露一種濕式制程設備，可用以對一基板進行雙面制程，所述基板具有一上表面及一下表面，所述下表面相反于所述上表面，所述濕式制程設備包含一腔體、一輸送機構、一噴灑模塊、多個液浮載板以及一盛盤，所述腔體內形成有用以容置所述基板的一腔室，所述輸送機構對應所述基板的一側邊部并用以輸送所述基板，所述噴灑模塊設置在所述腔室內并用以對所述基板的所述上表面噴灑一處理液，所述多個液浮載板設置在所述噴灑模塊下方并用以對所述基板的所述下表面噴射所述處理液，所述盛盤設置在所述多個液浮載板周圍，所述盛盤盛裝所述處理液，使盛裝在所述盛盤的所述處理液漫淹所述基板的所述上表面。根據本技術其中之一實施方式，所述濕式制程設備還包含一升降機構，耦接于所述盛盤，所述升降機構用以驅動所述盛盤至一作用位置，使盛裝在所述盛盤的所述處理液可漫淹所述基板的所述上表面。根據本技術其中之一實施方式，所述輸送機構包含多個導輪組，沿一輸送方向排列設置，所述多個導輪組對應所述基板的所述側邊部并用以驅動所述基板沿所述輸送方向或沿相反于所述輸送方向的一回復方向移動。根據本技術其中之一實施方式，各導輪組包含一上滾輪以及一下滾輪，所述上滾輪可轉動地抵接所述基板的所述上表面，所述下滾輪可轉動地抵接所述基板的所述下表面。根據本技術其中之一實施方式，所述腔體形成有連通所述腔室的一入口，且所述基板通過所述入口進入所述腔體。根據本技術其中之一實施方式，所述腔體還形成有連通所述腔室的一出口，且所述基板通過所述出口離開所述腔體。根據本技術其中之一實施方式，所述濕式制程設備還包含一入口閘門以及一出口閘門，所述入口閘門樞接于所述腔體鄰近所述入口處并用以關蓋所述入口，所述出口閘門樞接于所述腔體鄰近所述出口處并用以關蓋所述出口。根據本技術其中之一實施方式，所述濕式制程設備還包含一水路模塊以及一水路供液泵，所述水路模塊耦接于所述多個液浮載板，所述處理液通過所述水路模塊由所述多個液浮載板噴出，所述水路供液泵連接于所述水路模塊，所述水路供液泵用以供給所述處理液至所述水路模塊。根據本技術其中之一實施方式，所述濕式制程設備還包含一液面傳感器以及一控制單元，所述液面傳感器設置在所述盛盤并用以感測盛裝在所述盛盤的所述處理液的一液面，所述控制單元耦接于所述液面傳感器與所述水路供液泵，所述控制單元在所述液面傳感器感測到盛裝在所述盛盤的所述處理液的所述液面時，控制所述水路供液泵持續供給所述處理液至所述水路模塊，或控制所述水路供液泵停止供給所述處理液至所述水路模塊。根據本技術其中之一實施方式，所述噴灑模塊包含多個水刀噴頭以及一噴灑供液泵，所述多個水刀噴頭設置在所述多個導輪組上方，所述噴灑供液泵連接于所述多個水刀噴頭且耦接于所述控制單元，所述噴灑供液泵用以供給所述處理液至所述多個水刀噴頭，其中所述控制單元在所述液面傳感器感測到盛裝在所述盛盤的所述處理液的所述液面時，還控制所述噴灑供液泵持續供給所述處理液至所述多個水刀噴頭，或還控制所述噴灑供液泵停止供給所述處理液至所述多個水刀噴頭。根據本技術其中之一實施方式，所述濕式制程設備還包含一液面傳感器以及一控制單元，所述液面傳感器設置在所述盛盤并用以感測盛裝在所述盛盤的所述處理液的一液面，所述控制單元耦接于所述液面傳感器與所述輸送機構，所述控制單元在所述液面傳感器感測到盛裝在所述盛盤的所述處理液的所述液面時，控制所述輸送機構往復移動所述基板。根據本技術其中之一實施方式，所述腔體形成有連通所述腔室的一入口，所述基板通過所述入口進入所述腔體，所述噴灑模塊包含一噴嘴，設置在所述腔體鄰近所述入口處，所述噴嘴在所述基板通過所述入口進入所述腔體時，朝所述基板的所述上表面噴灑所述處理液。根據本技術其中之一實施方式，所述噴灑模塊包含多個水刀噴頭，設置在所述多個導輪組上方，所述多個水刀噴頭在所述基板進入所述腔體時，朝所述基板的所述上表面噴灑所述處理液。根據本技術其中之一實施方式，所述盛盤用以盛裝所述多個液浮載板噴射且由所述下表面滴落的所述處理液與所述噴灑模塊所噴灑的所述處理液的至少其中之一。綜上所述，本技術除利用噴灑模塊及液浮載板分別對基板的上表面及下表面施予處理液外，本技術還利用盛盤盛裝液浮載板噴射且由下表面滴落的處理液，使盛裝在盛盤的處理液可漫淹基板。這樣一來，本技術便可利用盛盤，使漫淹基板的處理液能持續對基板的上表面及下表面進行雙面制程。有關本技術的前述及其他
技術實現思路
、特點與功效，在以下配合參考附圖的實施例的詳細說明中，將可清楚的呈現。附圖說明圖1為本技術第一實施例濕式制程設備的示意圖。圖2為圖1所示濕式制程設備沿剖面線X-X的剖面示意圖。圖3為本技術第一實施例濕式制程設備的功能方塊示意圖。圖4為本技術第一實施例基板送入腔室內的示意圖。圖5為本技術第一實施例盛盤位在作用位置的示意圖。圖6為本技術第二實施例濕式制程設備的功能方塊示意圖。圖7為本技術第三實施例濕式制程設備的功能方塊示意圖。其中，附圖標記說明如下：1000、1000'、1000”濕式制程設備1基板10上表面11下表面12側邊部2腔體20腔室21入口22出口3輸送機構30導輪組301上滾輪302下滾輪4噴灑模塊40水刀噴頭41噴灑供液泵42噴嘴5液浮載板6盛盤7升降機構8入口閘門9出口閘門A水路模塊B水路供液泵C液面傳感器D控制單元E處理液X1輸送方向X2回復方向X-X剖面線具體實施方式以下實施例中所提到的方向用語，例如：上、下、左、右、前或后等，僅是參考附加附圖的方向。因此，使用的方向用語是用來說明并非用來限制本技術。請參閱圖1至圖3，圖1為本技術第一實施例一濕式制程設備1000的示意圖，圖2為圖1所示濕式制程設備1000沿剖面線X-X的剖面示意圖，圖3為本技術第一實施例濕式制程設備1000的功能方塊示意圖。如圖1至圖3所示，濕式制程設備1000可用以對一基板1進行雙面制程，基板1具有一上表面10、相對于上表面10的一下表面11以及一側邊部12。在此實施例中，基板1可為一觸控面板的玻璃基板，而濕式制程設備1000可用以對所述玻璃基板進行一濕式制程，所述濕式制程例如可為將所述玻璃基板經過蝕刻本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種濕式制程設備，可用以對一基板進行雙面制程，所述基板具有一上表面及一下表面，所述下表面相反于所述上表面，其特征在于，所述濕式制程設備包含：一腔體，其內形成有一腔室，所述腔室用以容置所述基板；一輸送機構，對應所述基板的一側邊部，所述輸送機構用以輸送所述基板；一噴灑模塊，設置在所述腔室內，所述噴灑模塊用以對所述基板的所述上表面噴灑一處理液；多個液浮載板，設置在所述噴灑模塊下方，所述多個液浮載板用以對所述基板的所述下表面噴射所述處理液；以及一盛盤，設置在所述多個液浮載板周圍，所述盛盤盛裝所述處理液，使盛裝在所述盛盤的所述處理液漫淹所述基板的所述上表面。

【技術特征摘要】
2016.09.30 TW 1051314461.一種濕式制程設備，可用以對一基板進行雙面制程，所述基板具有一上表面及一下表面，所述下表面相反于所述上表面，其特征在于，所述濕式制程設備包含：一腔體，其內形成有一腔室，所述腔室用以容置所述基板；一輸送機構，對應所述基板的一側邊部，所述輸送機構用以輸送所述基板；一噴灑模塊，設置在所述腔室內，所述噴灑模塊用以對所述基板的所述上表面噴灑一處理液；多個液浮載板，設置在所述噴灑模塊下方，所述多個液浮載板用以對所述基板的所述下表面噴射所述處理液；以及一盛盤，設置在所述多個液浮載板周圍，所述盛盤盛裝所述處理液，使盛裝在所述盛盤的所述處理液漫淹所述基板的所述上表面。2.如權利要求1所述的濕式制程設備，其特征在于，還包含：一升降機構，耦接于所述盛盤，所述升降機構用以驅動所述盛盤至一作用位置，使盛裝在所述盛盤的所述處理液可漫淹所述基板的所述上表面。3.如權利要求1所述的濕式制程設備，其特征在于，所述輸送機構包含：多個導輪組，沿一輸送方向排列設置，所述多個導輪組對應所述基板的所述側邊部并用以驅動所述基板沿所述輸送方向或沿相反于所述輸送方向的一回復方向移動。4.如權利要求3所述的濕式制程設備，其特征在于，各導輪組包含：一上滾輪，可轉動地抵接所述基板的所述上表面；以及一下滾輪，可轉動地抵接所述基板的所述下表面。5.如權利要求1所述的濕式制程設備，其特征在于，所述腔體形成有連通所述腔室的一入口，且所述基板通過所述入口進入所述腔體。6.如權利要求5所述的濕式制程設備，其特征在于，所述腔體還形成有連通所述腔室的一出口，且所述基板通過所述出口離開所述腔體。7.如權利要求6所述的濕式制程設備，其特征在于，還包含：一入口閘門，樞接于所述腔體鄰近所述入口處，所述入口閘門用以關蓋所述入口；以及一出口閘門，樞接于所述腔體鄰近所述出口處，所述出口閘門用以關蓋所述出口。8.如權利要求1所述的濕式制程設備，其特征在于，還包含：一水路模塊，耦接于所述多個液浮載板，所述處理液通過所述水路模塊由所述多個液浮載板...

【專利技術屬性】
技術研發人員：黃榮龍，呂峻杰，陳瀅如，
申請(專利權)人：盟立自動化股份有限公司，
類型：新型
國別省市：中國臺灣;71