渦旋光束產生方法、器件及其制備方法技術

一種渦旋光束器件包括：金屬反射鏡(101)、低折射率層(102)以及多個橢圓電介質單元(103)。低折射率層(102)覆蓋在金屬反射鏡(101)上，多個橢圓電介質單元(103)嵌在低折射率層(102)中。多個橢圓電介質單元(103)按陣列方式排布，多個橢圓電介質單元(103)的長軸所處直線平行或重合。多個橢圓電介質單元(103)的厚度相同，低折射率層(102)的厚度大于橢圓電介質單元(103)的厚度。每個橢圓電介質單元(103)的外表面與低折射率層(102)的外表面平齊，橢圓電介質單元(103)的外表面和低折射率層(102)的外表面均為距離金屬反射鏡(101)較遠的一面，低折射率層(102)的折射率小于橢圓電介質單元(103)的折射率。還公開了一種渦旋光束器件制備方法及一種渦旋光束產生方法。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】PCT國內申請，說明書已公開。

【技術保護點】
PCT國內申請，權利要求書已公開。

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】PCT國內申請，...

【專利技術屬性】
技術研發人員：王健，杜竫，賀繼方，
申請(專利權)人：華為技術有限公司，
類型：發明
國別省市：廣東;44