本發明專利技術的目的在于提供一種透明導電體，其可以容易地以均勻的厚度形成導電層，并且在生產率及制造成本的方面優異。本發明專利技術的透明導電體是在經研磨處理的玻璃基材的至少一個面依次層積有粘合層、偏振層和導電層的透明導電體，導電層使用包含導電性高分子的涂布組合物來形成，表面電阻率為102Ω/□～105Ω/□。
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及透明導電體、液晶顯示裝置和透明導電體的制造方法。
技術介紹
以往，智能手機等中所用的顯示器件為在玻璃基材上依次層積有粘合層、導電層和偏振層的層結構。其中，為了防止在顯示器件附近產生的電磁波干擾引起的顯示器件的工作不良，導電層使用ITO(氧化銦錫)等材料形成。近年來，通過利用化學研磨或機械研磨等手段對玻璃基材進行研磨處理，從而顯示器件的進一步薄型化/輕量化不斷推進。另一方面，通過進行研磨處理，有時在玻璃基材表面產生凹痕等損傷。在產生了凹痕等損傷的玻璃基材上設置ITO層的情況下，由于玻璃基材與ITO層的折射率差大，因而形成容易看到損傷的狀態，其結果，顯示品質有時會降低。一般來說，工業上為了將顯示品質維持為一定水平，產生了損傷的玻璃基材被廢棄，但會產生生產率(成品率)降低、或生產成本增大的問題。另外，經研磨處理后的玻璃基材的厚度變得不均勻，因此在以該狀態設置ITO層時，膜厚的面內偏差增大，其結果是在實現顯示裝置的性能進一步提高方面成為阻礙。此外，通常在設置ITO層的情況下進行濺射，會產生下述問題：由于濺射時要施加熱負荷，因而基材限定于耐熱性的基材；濺射需要大型的裝置，因而制造成本高。針對這種問題，例如嘗試了通過在玻璃基材與透明導電膜之間層積折射率調節層而使損傷難以被看到(例如，專利文獻1)，但由于需要另行設置折射率調節層，因而制造成本的降低還留有余地。現有技術文獻專利文獻專利文獻1：日本特開2013-114086號公報
技術實現思路
專利技術所要解決的課題本專利技術的目的在于提供一種透明導電體，其可以容易地以均勻的厚度形成導電層，并且在生產率及制造成本的方面優異。用于解決課題的手段本專利技術人為了解決上述課題進行了深入的研究，結果發現，通過將導電層中所用的材料由以往使用的ITO替換為包含導電性高分子的涂布組合物，并且將使用涂布組合物形成的導電層設置于偏振層上而不是玻璃基材上，從而可容易地形成厚度均勻的導電層，同時可解決生產率及制造成本的問題，由此完成了本專利技術。即，本專利技術的透明導電體的特征在于，其為在經研磨處理的玻璃基材的至少一個面依次層積有粘合層、偏振層和導電層的透明導電體，導電層使用包含導電性高分子的涂布組合物來形成，表面電阻率為102Ω/□～105Ω/□。對于本專利技術的透明導電體而言，導電層的鉛筆硬度優選為H以上。對于本專利技術的透明導電體而言，導電層在80℃、相對濕度85％的環境中保持1000小時后的表面電阻率優選為保持前的表面電阻率的5倍以下。對于本專利技術的透明導電體而言，涂布組合物優選進一步包含選自由烷氧基硅烷低聚物、(甲基)丙烯酸酯和三聚氰胺樹脂組成的組中的至少一種作為粘結劑。對于本專利技術的透明導電體而言，涂布組合物優選進一步包含下述化合物作為導電性提高劑，該化合物的沸點為100℃以上并且在分子內具有至少1個亞磺酰基、至少1個酰胺基或至少2個羥基。對于本專利技術的透明導電體而言，涂布組合物優選進一步包含具有被2個羥基所取代的內酯環的化合物和/或具有2個以上酚羥基的化合物作為水溶性抗氧化劑。本專利技術的液晶顯示裝置的特征在于，其具備本專利技術的透明導電體。本專利技術的液晶顯示裝置優選為IPS(平面轉換)方式液晶顯示裝置。本專利技術的透明導電體的制造方法的特征在于，(i)在經研磨處理的玻璃基材的至少一個面上形成粘合層和偏振層后，使用包含導電性高分子的涂布組合物進一步形成導電層；或者，(ii)使用包含導電性高分子的涂布組合物在偏振層上形成導電層后，籍由粘合層使形成有導電層的面的相反面粘接至經研磨處理的玻璃基材。本專利技術的涂布組合物的特征在于，其用于形成本專利技術的透明導電體中的導電層。專利技術的效果根據本專利技術，可以得到一種透明導電體，其可以容易地以均勻的厚度形成導電層，并且在生產率及制造成本的方面優異。除此以外，通過在偏振層上設置導電層，還可以得到下述效果：屏蔽電磁波干擾的同時，防止偏振層上附著灰塵或組裝顯示器件時等偏振層產生損傷。具體實施方式<<透明導電體>>本專利技術的透明導電體的特征在于，其為在經研磨處理的玻璃基材的至少一個面依次層積有粘合層、偏振層和導電層的透明導電體，導電層使用包含導電性高分子的涂布組合物(下文中也簡稱為涂布組合物)來形成，表面電阻率為102Ω/□～105Ω/□。<玻璃基材>作為玻璃基材的材料，沒有特別限定，可以使用市售的材料。作為市售的材料，可以舉出例如無堿玻璃等，特別優選鋁硅酸鹽玻璃和鋁硼硅酸鹽玻璃。作為玻璃基材的研磨處理，沒有特別限定，可以使用化學研磨或機械研磨等該領域中通常所用的手段。作為化學研磨的方法，沒有特別限定，可以舉出例如下述方法等：將市售的玻璃基材浸漬到蝕刻液中，通過化學反應將表面溶解。另外，作為與化學研磨同時進行機械研磨的方法，沒有特別限定，可以舉出例如使用氧化鈰的化學機械研磨(CMP)等。對玻璃基材的表面的算術平均粗糙度(Ra)沒有特別限定，優選為20nm以下、更優選為15nm以下、進一步優選為10nm以下。若算術平均粗糙度(Ra)超過20nm，則有時無法維持透明性。對算術平均粗糙度(Ra)的下限沒有特別限定，例如為0.7nm。需要說明的是，本專利技術中，算術平均粗糙度(Ra)是指利用原子力顯微鏡(AFM)所測得的值。對研磨處理后的玻璃基材的厚度沒有特別限定，優選為10μm～10000μm、更優選為25μm～5000μm。另外，玻璃基材的全光線透過率只要為60％以上就沒有特別限定，優選為70％以上、更優選為80％以上。對玻璃基材的霧度沒有特別限定，優選為3％以下、更優選為1％以下。需要說明的是，對霧度的下限沒有特別限定，例如為0.01％。<粘合層>粘合層使用含有粘合劑的粘合劑組合物來形成。作為粘合劑，沒有特別限定，可以使用以往公知的粘合劑，具體可以舉出例如將各種(甲基)丙烯酸酯單體均聚或共聚而得到的(甲基)丙烯酸系樹脂、乙烯/乙酸乙烯酯共聚系樹脂、具有二甲基硅氧烷骨架的硅酮橡膠等硅系樹脂、將多元醇和多異氰酸酯加聚而得到的聚氨酯系樹脂、天然橡膠、苯乙烯-異戊二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SIS嵌段共聚物)、苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS嵌段共聚物)、苯乙烯-乙烯·丁烯-苯乙烯嵌段共聚物(SEBS嵌段共聚物)、丁苯橡膠、聚丁二烯、聚異戊二烯、聚異丁烯、丁基橡膠、氯丁二烯橡膠等橡膠系樹脂等。其中，優選化學穩定性特別優異、化學結構設計的自由度高、粘合力的調整容易的(甲基)丙烯酸系樹脂、硅系樹脂、聚氨酯系樹脂。此外，從透明性特別優異的方面出發，優選(甲基)丙烯酸系樹脂和聚氨酯系樹脂。作為粘合層的形成方法，可以使用現有公知的方法，可以舉出例如下述方法：將含有粘合劑的粘合劑組合物涂布至玻璃基材上并進行交聯或加熱干燥的方法；將經交聯或加熱干燥的粘合層轉印至玻璃基材上的方法；等等。需要說明的是，除了粘合劑以外，粘合劑組合物還可以含有交聯劑。作為涂布粘合劑組合物的方法，可以使用現有公知的方法，具體可以使用例如輥涂法、凹版涂布法、逆向涂布法、輥刷法、噴涂法、氣刀涂布法等。<偏振層>作為偏振層，只要至少具備偏振膜就沒有特別限定，可以使用例如偏振板等。偏振板是用于液晶顯示裝置(LCD)、電致發光顯示裝置(ELD)等圖像顯示裝置的部件，通常使本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種透明導電體，其為在經研磨處理的玻璃基材的至少一個面依次層積有粘合層、偏振層和導電層的透明導電體，導電層使用包含導電性高分子的涂布組合物來形成，表面電阻率為102Ω/□～105Ω/□。
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2014.08.08 JP 2014-163009;2015.04.23 JP 2015-088591.一種透明導電體，其為在經研磨處理的玻璃基材的至少一個面依次層積有粘合層、偏振層和導電層的透明導電體，導電層使用包含導電性高分子的涂布組合物來形成，表面電阻率為102Ω/□～105Ω/□。2.如權利要求1所述的透明導電體，其中，導電層的鉛筆硬度為H以上。3.如權利要求1或2所述的透明導電體，其中，導電層在80℃、相對濕度85％的環境中保持1000小時后的表面電阻率為保持前的表面電阻率的5倍以下。4.如權利要求1～3中任一項所述的透明導電體，其中，涂布組合物進一步包含選自由烷氧基硅烷低聚物、(甲基)丙烯酸酯和三聚氰胺樹脂組成的組中的至少一種作為粘結劑。5.如權利要求1～4中任一項所述的透明導電體，其中，涂布組...
【專利技術屬性】
技術研發人員：大堀達也，久留島康功，常田義真，
申請(專利權)人：長瀨化成株式會社，
類型：發明
國別省市：日本;JP
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