成像薄膜及其制備方法技術

本申請實施例公開了一種成像薄膜及其制備方法。該成像薄膜包括：由同一種聚合物制成的本體；在所述本體的一表面上形成有聚焦結構；在所述本體的內部形成有圖文結構，所述圖文結構通過所述聚焦結構成像。本申請實施例所提供的技術方案，可以減小成像薄膜的厚度，有利于成像薄膜的轉印。

Imaging film and preparation method thereof

The embodiment of the invention discloses an imaging film and a preparation method thereof. The imaging film includes: made of the same polymer body; focus structure is formed on a surface of the body; a graphic structure is formed in the interior of the body, the graphic structure through the focusing structure imaging. The technical proposal provided by the embodiment of the invention can reduce the thickness of the imaging film and is favorable for the transfer of the imaging film.

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及光學薄膜
，尤其涉及一種成像薄膜及其制備方法。
技術介紹
莫爾技術是一類引人注目的新型視覺安全技術。它利用微透鏡陣列的聚焦作用將微圖案高效率地放大,實現具有一定景深并呈現奇特動態效果的圖案。現有技術中帶有微透鏡的薄膜包括基底、微透鏡以及圖案層。這樣的薄膜首先是含有基底從而導致厚度增加，并且圖案層裸露或者需要保護層。專利文件200480040733.2公開了一種應用于鈔票等有價證券開窗安全線的微透鏡陣列安全元件。它的基本結構為：在透明基層的上表面設置周期性微透鏡陣列，在透明基層的下表面設置對應的周期型微圖案陣列，微圖案陣列位于微透鏡陣列的焦平面或其附近，微圖案陣列與微透鏡陣列排列大致相同，通過微透鏡陣列對微圖案陣列的莫爾放大作用。該專利公開了兩種制作微圖案的方法：由選自噴墨、激光、凸版印刷、膠版印刷、照相凹版印刷、及凹版印刷法所組成的群組的印刷方法，在透明基層下表面設置凸出的微圖案油墨；或者在透明基層下表面形成有圖案的凹陷，并在凹陷中填充油墨進而形成微圖案。后者具有幾乎無限空間解析度的優點。因此，分別在透明基層上下表面設置微透鏡和凹陷型微圖案具有最優的圖形復雜度和解析度有利于最大化提高該安全器件的仿制難度。然而這種安全元件目前的使用方法主要是整體嵌入紙張或者粘合于印刷品表面。燙印是目前將局部安全元件設置于產品包裝的一種主流的方法。然而燙印技術要求安全元件是一層很薄且可以切斷的薄膜。當前的工業界，具有實際加工可行性的最小透明基層厚度是23um，再加上微透鏡和凹陷結構的厚度，整體安全元件的厚度一般會增加到40um以上。因此，如此厚的整體結構極不利于高速燙印時及時切斷。此外透明基材往往具有良好的機械性能，這也不利于燙印的切斷要求。為了將安全元件與主流的燙印方式相適應，必須去除該安全元件中的透明基層。專利文件200480040733.2在圖13-14中公開了一種可篡改標示材料實施例。即剝離覆蓋在微透鏡表面的可剝離層時，微圖案的放大效果會在剝離前后發生變化。值得一提的是：從圖14看，為“剝離改變”膜結構，該結構包括一可剝離微透鏡、第二微透鏡、第一圖案層以及第二圖案層，可以在第二微透鏡背面直接印刷第一圖案層，第一圖案層與第二圖案層之間還設有光學間隔器244，此時第二微透鏡與第一圖案層之間進而排除了透明基材，但是此時的第二微透鏡并不能顯示第一圖案層的影像(見說明書第20頁第二段)。再者，該專利說明書第29～30頁公開了該專利中的結構制備方法，基本包括以下步驟：S01一個或多個光學間隔器；S02微透鏡以及圖案層分別位于光學間隔器表面。其中光學間隔器表面設可固化樹脂制備微透鏡以及圖案層。所以無論是圖13與圖14中的結構還是說明書29～30頁公開的制備方法，微透鏡以及圖案層的顯示影像務必都要設置光學間隔器層，制備的方法為在光學間隔器表面涂布可固化樹脂，以備制備微透鏡與圖案層；但是就是該種結構造成如此厚的整體結構極不利于高速燙印時及時切斷。此外，透明基材往往具有良好的機械性能，這也不利于燙印的切斷要求。因此，有必要采用新的方案，來減小具有微透鏡和凹陷型微圖案的可轉印莫爾安全元件的厚度，即減小成像薄膜的厚度。
技術實現思路
本申請實施例的目的是提供一種成像薄膜及其制備方法，以實現減小成像薄膜的厚度的目的。為解決上述技術問題，本申請實施例提供一種成像薄膜及其制備方法是這樣實現的：本申請實施例提供了一種成像薄膜，包括：由一種聚合物制成的本體；所述本體的一表面上形成有聚焦結構；所述本體的內部形成有圖文結構，所述圖文結構能通過所述聚焦結構成像；所述本體是通過在所述聚合物的第一部分上形成所述圖文結構后，將所述聚合物的第二部分與所述聚合物的第一部分中所述圖文結構所在側相融合而成。在一實施例中，所述本體和所述聚焦結構為一體結構。在一實施例中，所述本體由第一聚合物制成，所述聚焦結構由材質與第一聚合物不同的第二聚合物制成，在所述本體與所述聚焦結構之間形成有融合部。在一實施例中，所述聚焦結構包括一個或多個聚焦單元，多個所述聚焦單元之間的間距為1微米～200微米。在一實施例中，所述聚焦結構包括一個或多個聚焦單元，多個所述聚焦單元中的至少一個為微透鏡或菲涅爾透鏡。在一實施例中，所述聚焦結構的外表面上設置有反射結構。在一實施例中，所述反射結構的厚度為0.02微米～5微米。本申請實施例還提供了另一種成像薄膜，包括：由一種聚合物制成的本體；所述本體的一表面上形成有聚焦結構，所述聚焦結構包括至少兩個呈不對稱排布的聚焦單元；所述本體的內部形成有圖文結構，所述圖文結構包括至少兩個圖文單元，所述圖文單元包括具有接通和/或斷開狀態的點陣；所述圖文單元的位置坐標與所述聚焦單元的位置坐標相關聯，以使所有處于接通狀態的點陣通過所述聚焦單元形成至少一個懸浮影像；所述本體是通過在所述聚合物的第一部分上形成所述圖文結構后，將所述聚合物的第二部分與所述聚合物的第一部分中所述圖文結構所在側相融合而成。在一實施例中，所述本體和所述聚焦結構為一體結構。在一實施例中，所述本體由第一聚合物制成，所述聚焦結構由材質不同于第一聚合物的第二聚合物制成，在所述本體與所述聚焦結構之間形成有融合部。在一實施例中，所述圖文單元的位置坐標與所述聚焦單元的位置坐標相關聯包括所述圖文單元的位置坐標能由對應的聚焦單元的位置坐標經過預設變換獲得。在一實施例中，所述預設變換包括坐標縮放變換和/或坐標旋轉變換。在一實施例中，所述聚焦結構的外表面上設置有反射結構。本申請實施例還提供了一種成像薄膜的制備方法，包括：獲取相背對側形成有聚焦結構和容納結構的聚合物的第一部分；在所述容納結構中填入填充物以形成圖文結構，所述填充物與所述聚合物對光的折射率不同；將所獲取的所述聚合物的第二部分與所述聚合物的第一部分中所述圖文結構所在側相融合以形成本體。本申請實施例還提供了另一種成像薄膜的制備方法，包括：獲取形成有容納結構的聚合物的第一部分；在所述容納結構中填入填充物以形成圖文結構，所述填充物與所述聚合物對光的折射率不同；將所獲取的所述聚合物的第二部分的第一側與所述聚合物的第一部分中所述圖文結構所在側相融合以形成本體，在所述相融合的過程中，在所述聚合物的第二部分中與所述第一側相背對的第二側形成聚焦結構。本申請實施例還提供了另一種成像薄膜的制備方法，包括：獲取形成有容納結構的聚合物的第一部分；在所述容納結構中填入填充物以形成圖文結構，所述填充物與所述聚合物對光的折射率不同；獲取形成有聚焦初步結構的所述聚合物的第二部分；將所述聚合物的第二部分中與所述聚焦初步結構相背對的一側與所述聚合物的第一部分中所述圖文結構所在側相融合以形成本體，在所述相融合的過程中，所述聚焦初步結構形成為聚焦結構。由以上本申請實施例提供的技術方案可見，本申請實施例通過在本體內部形成圖文結構，從而實現了減小成像薄膜厚度的目的。附圖說明為了更清楚地說明本申請實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本申請中記載的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。圖1是本申請實施例所提供的成像薄本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種成像薄膜，其特征在于，包括：由一種聚合物制成的本體；所述本體的一表面上形成有聚焦結構；所述本體的內部形成有圖文結構，所述圖文結構能通過所述聚焦結構成像；所述本體是通過在所述聚合物的第一部分上形成所述圖文結構后，將所述聚合物的第二部分與所述聚合物的第一部分中所述圖文結構所在側相融合而成。

【技術特征摘要】
1.一種成像薄膜，其特征在于，包括：由一種聚合物制成的本體；所述本體的一表面上形成有聚焦結構；所述本體的內部形成有圖文結構，所述圖文結構能通過所述聚焦結構成像；所述本體是通過在所述聚合物的第一部分上形成所述圖文結構后，將所述聚合物的第二部分與所述聚合物的第一部分中所述圖文結構所在側相融合而成。2.根據權利要求1所述的成像薄膜，其特征在于，所述本體和所述聚焦結構為一體結構。3.根據權利要求2所述的成像薄膜，其特征在于，所述本體由第一聚合物制成，所述聚焦結構由材質與第一聚合物不同的第二聚合物制成，在所述本體與所述聚焦結構之間形成有融合部。4.根據權利要求1或2所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦結構包括一個或多個聚焦單元，多個所述聚焦單元之間的間距為1微米～200微米。5.根據權利要求1或2所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦結構包括一個或多個聚焦單元，多個所述聚焦單元中的至少一個為微透鏡或菲涅爾透鏡。6.根據權利要求1或2所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦結構的外表面上設置有反射結構。7.根據權利要求6所述的成像薄膜，其特征在于，所述反射結構的厚度為0.02微米～5微米。8.一種成像薄膜，其特征在于，包括：由一種聚合物制成的本體；所述本體的一表面上形成有聚焦結構，所述聚焦結構包括至少兩個呈不對稱排布的聚焦單元；所述本體的內部形成有圖文結構，所述圖文結構包括至少兩個圖文單元，所述圖文單元包括具有接通和/或斷開狀態的點陣；所述圖文單元的位置坐標與所述聚焦單元的位置坐標相關聯，以使所有處于接通狀態的點陣通過所述聚焦單元形成至少一個懸浮影像；所述本體是通過在所述聚合物的第一部分上形成所述圖文結構后，將所述聚合物的第二部分與所述聚合物的第一部分中所述圖文結構所在側相融合而成。9.根據權利要求8所述的成像薄膜，其特征在于，所述本體和所述聚焦結構為一...

【專利技術屬性】
技術研發人員：張健，
申請(專利權)人：昇印光電昆山股份有限公司，
類型：發明
國別省市：江蘇;32