一種收放片方法技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)提供了一種收放片方法。該收放片方法包括以下步驟：S1，在放片時實時存儲腔室的狀態(tài)信息，所述狀態(tài)信息包括其內(nèi)每個基片的當(dāng)前位置和預(yù)設(shè)收片目標位置；在接收到收片命令后，執(zhí)行以下步驟：S2，自動讀取并解析所述狀態(tài)信息，根據(jù)解析結(jié)果獲取該腔室內(nèi)每個基片的當(dāng)前位置和預(yù)設(shè)收片目標位置。本發(fā)明專利技術(shù)提供的收放片方法，可以實現(xiàn)快速準確地獲得收片進程的起始位置和目的位置，從而可以提高收片效率和準確度。

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

本專利技術(shù)屬于微電子加工
，具體涉及一種收放片方法。
技術(shù)介紹
物理氣相沉積設(shè)備(簡稱PVD)被廣泛地應(yīng)用于集成電路、太陽能電池、LED和平板顯示等半導(dǎo)體領(lǐng)域，主要用于沉積各種不同材料的薄膜。PVD設(shè)備的工作過程具體為：通過機械手將裝卸載腔的片槽內(nèi)的待加工基片按照一定順序在多個工藝腔室之間傳輸，以按照一定順序進行相應(yīng)的工藝(稱之為“放片”)，待各個工藝完成后再通過機械手將已加工基片傳回至裝卸載腔的片槽內(nèi)。在PVD的工作過程中設(shè)備難免會出現(xiàn)故障。例如，某個腔室的硬件發(fā)生故障，若造成對位于該腔室的基片不能進行相應(yīng)的工藝，則需要將PVD設(shè)備的基片收回至裝載載腔的片槽內(nèi)(稱之為“收片”)，一般為：將在發(fā)生故障腔室內(nèi)的已完成相應(yīng)工藝的基片繼續(xù)依次完成后續(xù)的所有工藝，之后采用人為控制方式將PVD設(shè)備中剩下的基片傳回至裝卸載腔的片槽內(nèi)。具體地，人為根據(jù)操作面上的顯示信息指定基片的起始位置(也就是，基片的當(dāng)前位置)和目標位置，并設(shè)置自起始位置傳輸至目標位置的傳輸路徑，以此人為創(chuàng)建多個收片任務(wù)，再人為發(fā)出執(zhí)行收片任務(wù)命令，控制系統(tǒng)接收該執(zhí)行收片任務(wù)命令并執(zhí)行。然而，采用上述人為控制方式收片在實際應(yīng)用中往往會存在以下問題：采用人為控制方式進行收片比較費時和費力，造成收片效率低；而且過多的人為控制操作失誤率高，造成成本增加；另外，由于操作面顯示的基片當(dāng)前位置為理論位置，在發(fā)生故障的情況下基片實際位置往往與理論位置不一致，為此，在設(shè)置起始位置時需要進行進一步確定，也就進一步造成收片過程費時和費力，進一步造成生產(chǎn)效率低。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本專利技術(shù)旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一，提出了一種收放片方法，可以實現(xiàn)快速準確地獲得收片進程的起始位置和目的位置，從而可以提高收片效率和準確度。為解決上述問題之一，本專利技術(shù)提供了一種收放片方法，包括以下步驟：S1，在放片時實時存儲腔室的狀態(tài)信息，所述狀態(tài)信息包括其內(nèi)每個基片的當(dāng)前位置和預(yù)設(shè)收片目標位置；在接收到收片命令后，執(zhí)行以下步驟：S2，自動讀取并解析所述狀態(tài)信息，根據(jù)解析結(jié)果獲取該腔室內(nèi)每個基片的當(dāng)前位置和預(yù)設(shè)收片目標位置。優(yōu)選地，所述步驟S2包括以下子步驟：S21，自動讀取并解析所述狀態(tài)信息，根據(jù)解析結(jié)果判斷當(dāng)前腔室的當(dāng)前位置是否存在基片，若存在，則執(zhí)行步驟S22；S22，根據(jù)解析結(jié)果判斷是否能獲取當(dāng)前基片的所述當(dāng)前位置和所述預(yù)設(shè)收片目標位置，若是，則執(zhí)行步驟S23；S23，根據(jù)解析結(jié)果獲取當(dāng)前基片的所述當(dāng)前位置和所述預(yù)設(shè)收片目標位置。優(yōu)選地，所述步驟S22還包括，若否，則執(zhí)行步驟S5或步驟S6；S5，采用人為控制方式創(chuàng)建當(dāng)前基片的傳片任務(wù)，創(chuàng)建完成之后并確認，而后自動執(zhí)行每個所述收片任務(wù)；S6，修改當(dāng)前腔室內(nèi)的當(dāng)前基片對應(yīng)的所述狀態(tài)信息，以使基于修改后的所述狀態(tài)信息能夠獲取當(dāng)前基片的當(dāng)前位置和預(yù)設(shè)收片目標位置，完成之后轉(zhuǎn)至步驟S21。優(yōu)選地，所述狀態(tài)信息包括與每個基片一一對應(yīng)的基片名稱，所述基片名稱根據(jù)預(yù)設(shè)規(guī)則設(shè)置，所述預(yù)設(shè)規(guī)則是指所述基片名稱的取名與所述預(yù)設(shè)收片目標位置和所述當(dāng)前位置中至少一個的對應(yīng)關(guān)系；所述步驟S22包括，通過根據(jù)所述基片名稱的解析結(jié)果判斷每個所述基片名稱是否符合所述預(yù)設(shè)規(guī)則，來判斷是否能獲取該基片的所述預(yù)設(shè)收片目標位置和所述當(dāng)前位置中至少一個；所述步驟S23包括，根據(jù)所述基片名稱的解析結(jié)果和所述預(yù)設(shè)規(guī)則獲取每個基片的所述預(yù)設(shè)收片目標位置和所述當(dāng)前位置中的至少一個；所述步驟S6包括，修改當(dāng)前腔室內(nèi)當(dāng)前基片的所述基片名稱，以使修改后的所述基片名稱符合所述預(yù)設(shè)規(guī)則。優(yōu)選地，所述步驟S22還包括，若是，則該基片為合法基片，保存該合法基片的與之一一對應(yīng)的信息，重復(fù)所述步驟S21和所述步驟S22，直至完成對所有的腔室內(nèi)所有位置進行判斷，而后執(zhí)行步驟S221；S221，顯示已保存的所述合法基片的與之一一對應(yīng)的信息；S222，根據(jù)顯示的信息，選擇確認需要被收片的所述合法基片，而后執(zhí)行步驟S23；所述步驟S23包括，根據(jù)解析結(jié)果獲取每個已選擇的所述合法基片的所述當(dāng)前位置和所述預(yù)設(shè)收片目標位置。優(yōu)選地，所述步驟S21還包括：若存在，則累計基片數(shù)量；所述步驟S221還包括，顯示累計的基片總數(shù)。優(yōu)選地，所述步驟S22還包括，若是，累計所述合法基片數(shù)量；所述步驟S221還包括，顯示累計的所述合法基片總數(shù)。優(yōu)選地，所述預(yù)設(shè)規(guī)則是指所述基片名稱取名與所述預(yù)設(shè)收片目標位置的對應(yīng)關(guān)系；所述預(yù)設(shè)規(guī)則為：若所述預(yù)設(shè)收片目標位置為目標裝卸載腔室的目標槽位時，則所述基片名稱取名為：目標裝卸載腔室.目標槽位號。優(yōu)選地，在所述步驟S2之后還包括以下步驟：S3，自動根據(jù)獲取的每個基片的所述當(dāng)前位置和所述預(yù)設(shè)收片目標位置創(chuàng)建其收片任務(wù)；S4，自動執(zhí)行每個所述收片任務(wù)。優(yōu)選地，所述步驟S3包括，自動根據(jù)獲取的至少兩個基片的當(dāng)前位置和預(yù)設(shè)收片目標位置創(chuàng)建包括該至少兩個基片的收片任務(wù)的任務(wù)序列；所述步驟S4包括，基于所述任務(wù)序列，自動執(zhí)行每個所述收片任務(wù)。本專利技術(shù)具有以下有益效果：本專利技術(shù)提供的收放片方法，借助步驟S1在放片時實時存儲腔室的狀態(tài)信息，狀態(tài)信息包括其內(nèi)每個基片的當(dāng)前位置和預(yù)設(shè)收片目標位置；在接收到收片命令后，借助執(zhí)行步驟S2，自動讀取并解析在步驟S1中存儲的狀態(tài)信息，并根據(jù)狀態(tài)信息獲取與之對應(yīng)的腔室內(nèi)每個基片的當(dāng)前位置(即，收片起始位置)和預(yù)設(shè)收片目標位置(即，收片目的位置)，可實現(xiàn)自動獲取收片進程的起始位置和目的位置，這與現(xiàn)有技術(shù)中需要人為獲得相比，可快速獲得；另外，由于在步驟S1中實時存儲的是腔室的實際狀態(tài)信息，這樣，在步驟S2中獲取基片的當(dāng)前位置即為基片的實際當(dāng)前位置，這與現(xiàn)有技術(shù)相比，還可以準確地獲得收片進程的起始位置，故本專利技術(shù)提供的收放片方法相對現(xiàn)有技術(shù)而言，可以實現(xiàn)快速準確地獲得收片進程的起始位置和目的位置，從而可以提高收片效率和準確度。附圖說明圖1為本專利技術(shù)第一實施例提供的收放片方法的流程圖；圖2為本專利技術(shù)第二實施例提供的收放片方法的流程圖；以及圖3為圖2中步驟S221顯示的界面圖。具體實施方式為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本專利技術(shù)的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖來對本專利技術(shù)提供的收放片方法進行詳細描述。在本專利技術(shù)中，收放片方法包括放片進程和收片進程。其中，放片進程一般是指將裝卸載腔室內(nèi)的基片傳輸至工藝腔室的進程，以實現(xiàn)在該工藝腔室對基片進行相應(yīng)工藝；收片進程一般是指將位于工藝腔室內(nèi)的基片收回至裝卸載腔室的過程，在本實施例中，在設(shè)備發(fā)生故障的情況下執(zhí)行該收片進程，以在收片完成后對設(shè)備進行檢修。圖1為本專利技術(shù)第一實施例提供的收放片方法的流程圖。請參閱圖1，本專利技術(shù)實施例提供的收放片方法包括以下步驟：S1，在放片時實時存儲腔室的狀態(tài)信息。具體地，在采用調(diào)度算法進行放片時實時存儲腔室的狀態(tài)信息，該狀態(tài)信息包括但不限于腔室的工藝狀態(tài)信息和其內(nèi)每個基片的基片信息等，其中，基片信息包括基片的當(dāng)前位置和預(yù)先收片目標位置，也就是說，狀態(tài)信息包括其內(nèi)每個基片的當(dāng)前位置(即，收片起始位置)和預(yù)設(shè)收片目標位置(即，收片目的位置)。在接收到收片命令后，執(zhí)行以下步驟：S2，自動讀取并解析狀態(tài)信息，根據(jù)解析結(jié)果獲取該腔室內(nèi)每個基片的當(dāng)前位置和預(yù)設(shè)收片目標位置。在此值的說明的是，本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】
一種收放片方法，其特征在于，包括以下步驟：S1，在放片時實時存儲腔室的狀態(tài)信息，所述狀態(tài)信息包括其內(nèi)每個基片的當(dāng)前位置和預(yù)設(shè)收片目標位置；在接收到收片命令后，執(zhí)行以下步驟：S2，自動讀取并解析所述狀態(tài)信息，根據(jù)解析結(jié)果獲取該腔室內(nèi)每個基片的當(dāng)前位置和預(yù)設(shè)收片目標位置。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種收放片方法，其特征在于，包括以下步驟：S1，在放片時實時存儲腔室的狀態(tài)信息，所述狀態(tài)信息包括其內(nèi)每個基片的當(dāng)前位置和預(yù)設(shè)收片目標位置；在接收到收片命令后，執(zhí)行以下步驟：S2，自動讀取并解析所述狀態(tài)信息，根據(jù)解析結(jié)果獲取該腔室內(nèi)每個基片的當(dāng)前位置和預(yù)設(shè)收片目標位置。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的收放片方法，其特征在于，所述步驟S2包括以下子步驟：S21，自動讀取并解析所述狀態(tài)信息，根據(jù)解析結(jié)果判斷當(dāng)前腔室的當(dāng)前位置是否存在基片，若存在，則執(zhí)行步驟S22；S22，根據(jù)解析結(jié)果判斷是否能獲取當(dāng)前基片的所述當(dāng)前位置和所述預(yù)設(shè)收片目標位置，若是，則執(zhí)行步驟S23；S23，根據(jù)解析結(jié)果獲取當(dāng)前基片的所述當(dāng)前位置和所述預(yù)設(shè)收片目標位置。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的收放片方法，其特征在于，所述步驟S22還包括，若否，則執(zhí)行步驟S5或步驟S6；S5，采用人為控制方式創(chuàng)建當(dāng)前基片的傳片任務(wù)，創(chuàng)建完成之后并確認，而后自動執(zhí)行每個所述收片任務(wù)；S6，修改當(dāng)前腔室內(nèi)的當(dāng)前基片對應(yīng)的所述狀態(tài)信息，以使基于修改后的所述狀態(tài)信息能夠獲取當(dāng)前基片的當(dāng)前位置和預(yù)設(shè)收片目標位置，完成之后轉(zhuǎn)至步驟S21。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的收放片方法，其特征在于，所述狀態(tài)信息包括與每個基片一一對應(yīng)的基片名稱，所述基片名稱根據(jù)預(yù)設(shè)規(guī)則設(shè)置，所述預(yù)設(shè)規(guī)則是指所述基片名稱的取名與所述預(yù)設(shè)收片目標位置和所述當(dāng)前位置中至少一個的對應(yīng)關(guān)系；所述步驟S22包括，通過根據(jù)所述基片名稱的解析結(jié)果判斷每個所述基片名稱是否符合所述預(yù)設(shè)規(guī)則，來判斷是否能獲取該基片的所述預(yù)設(shè)收片目標位置和所述當(dāng)前位置中至少一個；所述步驟S23包括，根據(jù)所述基片名稱的解析結(jié)果和所述預(yù)設(shè)規(guī)則獲取每個基片的所述預(yù)設(shè)收片目標位置和所述當(dāng)前位置中的至少一個；所述步驟S6包括，修改當(dāng)...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：相會鳳，
申請(專利權(quán))人：北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司，
類型：發(fā)明
國別省市：北京;11