CMP后清洗設備清洗刷惰軸結構及使用方法技術

一種CMP后清洗設備清洗刷惰軸結構及使用方法，該結構包括腔體單元以及與腔體單元呈套接組合的惰軸單元。腔體單元包括腔座、組合軸承、外隔圈、內隔圈、壓蓋和直角接頭。惰軸單元包括惰軸、格萊圈、隔套、鎖母。惰軸單元呈孔軸定位方式穿入腔體單元的組合軸承，且使組合軸承位于惰軸單元的鎖母和隔套之間。由惰軸單元中的鎖母與腔體單元中的壓蓋配合軸承之間的內隔圈和外隔圈，實現對組合軸承的軸向消隙。本發明專利技術的腔體單元可為清洗刷浸潤的純水提供引入，并對旋轉軸承提供支撐定位。惰軸單元的外部工作環境處于純水介質中，惰軸單元可有效對清洗刷進行在線浸潤，并對清洗刷旋轉提供定心支撐及定心卡接。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種CMP后清洗設備中的清洗刷惰軸結構，以及該惰軸結構的使用方法。
技術介紹
CMP(chemicalmechanicalPolishing)后清洗設備,是在電子器件晶片表面進行高精度拋光處理后，進行表面精密清洗的設備。CMP后清洗工藝中，通過刷子結合噴劑介質進行擦洗，是清除晶片表面污染物的有效方式。目前的國外后清洗設備原型機，對清洗刷浸潤時純水引入方式為：呈徑向進水，通過環形間隔孔進入惰軸內腔通道。該方式流暢性不足，對清洗刷浸潤效果不好。此外，現有后清洗設備原型機選用塑料軸承，不僅剛性差且無消隙處理，造成惰軸定心旋轉時偏擺及軸竄。尤其與清洗刷對接的惰軸采用四方定位造成同心度偏值較大。
技術實現思路
本專利技術提供一種CMP后清洗設備清洗刷惰軸結構及使用方法，要解決現有CMP后清洗設備清洗刷惰軸結構進水方式流暢性不足、軸承剛性差且無消隙處理，惰軸同心度偏值大，對清洗刷浸潤效果不好的技術問題。本專利技術解決其技術問題所采用的技術方案是：這種CMP后清洗設備清洗刷惰軸結構包括腔體單元以及與腔體單元呈套接組合的惰軸單元。所述腔體單元包括腔座、組合軸承、外隔圈、內隔圈、壓蓋和直角接頭；所述組合軸承呈孔軸定位方式壓入腔座內；所述外隔圈和內隔圈在組合軸承的軸承之間，對軸承進行軸向消隙；所述壓蓋前端口與腔座后端口呈螺紋方式旋緊密封；所述直角接頭穿入壓蓋后端口內并與壓蓋呈螺紋方式旋緊密封。所述惰軸單元包括惰軸、格萊圈、隔套、鎖母；所述惰軸頭部開有卡接清洗刷用的矩形槽，并在矩形槽中心設有與惰軸內腔連通的定心錐孔，惰軸頸部有一圈套接格萊圈用的箍環槽；所述格萊圈卡套于惰軸的箍環槽上；所述隔套套穿于惰軸外側，隔套與格萊圈端面貼合；所述鎖母套于惰軸后端并呈螺紋方式旋緊。所述惰軸單元呈孔軸定位方式穿入腔體單元的組合軸承，且使組合軸承位于惰軸單元的鎖母和隔套之間；由惰軸單元中的鎖母與腔體單元中的壓蓋配合軸承之間的內隔圈和外隔圈，實現對組合軸承的軸向消隙。所述壓蓋前端口與腔座后端口之間設有O形圈，并由O形圈貼合旋緊密封。所述格萊圈由與腔座呈孔軸方式配合的耐磨外圈和卡套于惰軸的箍環槽上的內O形圈構成。所述組合軸承采用陶瓷材質。所述腔座前部為圓筒形，腔座后部外形為矩形。所述腔座內壁帶有臺階狀卡口，組合軸承前部與腔座內壁的臺階狀卡口相抵。這種CMP后清洗設備清洗刷惰軸結構的使用方法步驟如下：步驟一：用直角接頭接通水源，純水經惰軸單元中惰軸頭部的出口引出；步驟二：將惰軸單元與清洗刷定心卡接；步驟三：純水在線浸潤清洗刷。本專利技術的有益效果如下：本專利技術的腔體單元可為清洗刷浸潤的純水提供引入，并對旋轉軸承提供支撐定位。惰軸單元的外部工作環境處于純水介質中，惰軸單元可有效對清洗刷進行在線浸潤，并對清洗刷旋轉提供定心支撐及定心卡接。本專利技術以軸向引入純水的方式，可顯著提高其流暢性以便高效浸潤清洗刷。本專利技術在軸向加裝消隙措施，惰軸單元后端的鎖母與腔體單元中壓蓋配合內隔圈和外隔圈，可實現對組合軸承的軸向消隙，顯著提升了惰軸的軸向剛度。惰軸頸部的箍環槽上卡套有格萊圈，即能夠確保密封性，又可起到輔助惰軸定心旋轉支撐的作用。惰軸結構與清洗刷卡接方式為定心卡接，可明顯提升其同心度。腔體單元中定心旋轉支撐組合軸承采用陶瓷材質，能夠確保防水特性又提高其剛性。由上述幾種措施的綜合優勢可有效對清洗刷進行在線浸潤及定心卡接。附圖說明下面結合附圖和實施例對本專利技術進一步說明。圖1是本專利技術的結構軸測示意圖。圖2是本專利技術的結構剖面示意圖。圖3是腔體單元的剖面結構示意圖。圖4是惰軸單元的剖面結構示意圖。圖5是惰軸的結構示意圖。附圖標記：1－腔體單元、2－惰軸單元、3－腔座、4－壓蓋、5－外隔圈、6－內隔圈、7－組合軸承、8－O形圈、9－直角接頭、10－惰軸、10.1-定心錐孔、10.2-矩形槽、10.3-箍環槽、11-隔套、12-鎖母、13-格萊圈。具體實施方式實施例參見圖1、圖2所示，這種CMP后清洗設備清洗刷惰軸結構包括腔體單元1以及與腔體單元1呈套接組合的惰軸單元2。參見圖3所示，所述腔體單元1包括腔座3、組合軸承7、外隔圈5、內隔圈6、壓蓋4和直角接頭9。所述組合軸承7采用陶瓷材質，組合軸承7呈孔軸定位方式壓入腔座3內。所述外隔圈5和內隔圈6在組合軸承7的軸承之間，對軸承進行軸向消隙。所述壓蓋4前端口與腔座3后端口之間設有O形圈8，并由O形圈8貼合旋緊密封。所述直角接頭9穿入壓蓋4后端口內并與壓蓋4呈螺紋方式旋緊密封。參見圖4所示，所述惰軸單元2包括惰軸10、格萊圈13、隔套11、鎖母12。所述惰軸10頭部開有卡接清洗刷用的矩形槽10.2，并在矩形槽10.2中心設有與惰軸內腔連通的定心錐孔10.1，惰軸10頸部有一圈套接格萊圈13用的箍環槽10.3。所述格萊圈13由與腔座3呈孔軸方式配合的耐磨外圈和卡套于惰軸10的箍環槽10.3上的內O形圈構成。所述隔套11套穿于惰軸10外側，隔套11與格萊圈13端面貼合。所述鎖母12套于惰軸10后端并呈螺紋方式旋緊。參見圖1所示，所述腔座3前部可為圓筒形，腔座3后部外形可為矩形。參見圖2所示，所述惰軸單元2呈孔軸定位方式穿入腔體單元1的組合軸承7，且使組合軸承7位于惰軸單元2的鎖母12和隔套11之間。所述腔座3內壁帶有臺階狀卡口，組合軸承7前部可與腔座3內壁的臺階狀卡口相抵。由惰軸單元2中的鎖母12與腔體單元1中的壓蓋4配合軸承之間的內隔圈6和外隔圈5，實現對組合軸承7的軸向消隙。這種CMP后清洗設備清洗刷惰軸結構的使用方法步驟如下：步驟一：用直角接頭9接通水源，純水經惰軸單元2中惰軸10頭部的出口引出；步驟二：將惰軸單元2與清洗刷定心卡接；步驟三：純水在線浸潤清洗刷。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種CMP后清洗設備清洗刷惰軸結構，其特征在于：包括腔體單元（1）以及與腔體單元（1）呈套接組合的惰軸單元（2）；所述腔體單元（1）包括腔座（3）、組合軸承（7）、外隔圈（5）、內隔圈（6）、壓蓋（4）和直角接頭（9）；所述組合軸承（7）呈孔軸定位方式壓入腔座（3）內；所述外隔圈（5）和內隔圈（6）在組合軸承（7）的軸承之間，對軸承進行軸向消隙；所述壓蓋（4）前端口與腔座（3）后端口呈螺紋方式旋緊密封；所述直角接頭（9）穿入壓蓋（4）后端口內并與壓蓋（4）呈螺紋方式旋緊密封；所述惰軸單元（2）包括惰軸（10）、格萊圈（13）、隔套（11）、鎖母（12）；所述惰軸（10）頭部開有卡接清洗刷用的矩形槽（10.2），并在矩形槽（10.2）中心設有與惰軸內腔連通的定心錐孔（10.1），惰軸（10）頸部有一圈套接格萊圈（13）用的箍環槽（10.3）；所述格萊圈（13）卡套于惰軸（10）的箍環槽（10.3）上；所述隔套（11）套穿于惰軸（10）外側，隔套（11）與格萊圈（13）端面貼合；所述鎖母（12）套于惰軸（10）后端并呈螺紋方式旋緊；所述惰軸單元（2）呈孔軸定位方式穿入腔體單元（1）的組合軸承（7），且使組合軸承（7）位于惰軸單元（2）的鎖母（12）和隔套（11）之間；由惰軸單元（2）中的鎖母（12）與腔體單元（1）中的壓蓋（4）配合軸承之間的內隔圈（6）和外隔圈（5），實現對組合軸承（7）的軸向消隙。...

【技術特征摘要】
1.一種CMP后清洗設備清洗刷惰軸結構，其特征在于：包括腔體單元（1）以及與腔體單元（1）呈套接組合的惰軸單元（2）；所述腔體單元（1）包括腔座（3）、組合軸承（7）、外隔圈（5）、內隔圈（6）、壓蓋（4）和直角接頭（9）；所述組合軸承（7）呈孔軸定位方式壓入腔座（3）內；所述外隔圈（5）和內隔圈（6）在組合軸承（7）的軸承之間，對軸承進行軸向消隙；所述壓蓋（4）前端口與腔座（3）后端口呈螺紋方式旋緊密封；所述直角接頭（9）穿入壓蓋（4）后端口內并與壓蓋（4）呈螺紋方式旋緊密封；所述惰軸單元（2）包括惰軸（10）、格萊圈（13）、隔套（11）、鎖母（12）；所述惰軸（10）頭部開有卡接清洗刷用的矩形槽（10.2），并在矩形槽（10.2）中心設有與惰軸內腔連通的定心錐孔（10.1），惰軸（10）頸部有一圈套接格萊圈（13）用的箍環槽（10.3）；所述格萊圈（13）卡套于惰軸（10）的箍環槽（10.3）上；所述隔套（11）套穿于惰軸（10）外側，隔套（11）與格萊圈（13）端面貼合；所述鎖母（12）套于惰軸（10）后端并呈螺紋方式旋緊；所述惰軸單元（2）呈孔軸定位方式穿入腔體單元（1）的組合軸承（7），且使組合軸承（7）位于惰軸單元（2）的鎖母（12）和隔套（11）之間；由惰軸單元...

【專利技術屬性】
技術研發人員：陶利權，柳濱，史霄，蒲繼祖，
申請(專利權)人：北京半導體專用設備研究所中國電子科技集團公司第四十五研究所，
類型：發明
國別省市：北京;11