一種金剛石研磨液專用的水基清洗劑及其制備方法技術

本發(fā)明專利技術提供一種金剛石研磨液專用的水基清洗劑及其制備方法，金剛石研磨液專用的水基清洗劑包括第一清洗劑和第二清洗劑，第一清洗劑的組分包括：強堿、復配絡合劑、乙醇胺、分散劑、復配表面活性劑，余量為水，第二清洗劑中的組分包括：弱酸、緩蝕劑、表面活性劑、納米消泡劑、水溶性納米二氧化硅，余量為水。制備方法為：按照比例加入復配絡合劑、強堿和水，攪拌讓其充分反應，然后依次加入乙醇胺、分散劑、復配表面活性劑，攪拌得到第一清洗劑，按照比例加入弱酸和水，攪拌均勻，依次加入緩蝕劑、表面活性劑、納米消泡劑和水溶性納米二氧化硅，攪拌至完全溶解，得到第二清洗劑，第一清洗劑和第二清洗劑組成金剛石研磨液專用的水基清洗劑。

Water base cleaning agent special for diamond grinding liquid and preparation method thereof

The present invention provides a special diamond abrasive liquid water-based cleaning agent and preparation method, diamond grinding liquid special water-based cleaning agent comprises a first cleaning agent and cleaning agent second, the first cleaning agent comprises the following components: alkali, compound complexing agent, ethanolamine, dispersing agent, compound surfactant, balance of water second, the cleaning agent components include: weak acid, corrosion inhibitor, surfactant, nano defoaming agent, water soluble nano silica, the balance of water. The preparation method is as follows: according to the proportion of adding a compound complexing agent, alkali and water, stirring to fully react, followed by adding ethanol amine, dispersing agent, surfactant, stirring the first cleaning agent, in accordance with the proportion of added acid and water, stirring evenly, then add the inhibitor, surfactant, nano. Foaming agent and water soluble silica, stir until completely dissolved, second cleaning agent, cleaning agent and cleaning agent for the first second components of diamond grinding fluid special water-based cleaning agent.

【技術實現步驟摘要】
一種金剛石研磨液專用的水基清洗劑及其制備方法
本專利技術屬于清洗劑材料
，具體涉及一種金剛石研磨液專用的水基清洗劑及其制備方法。
技術介紹
清洗劑是用于清除污垢的化學品，通常分為工業(yè)清洗劑和日用清洗劑。在工業(yè)生產中，金屬制件上常會留有灰塵、切削物、磨料、研磨液、手汗、鹽跡、酸堿、動植物油脂和礦物油等殘留物，隨著科學技術的不斷提高，殘留物的品種越來越多，對清洗劑的清洗程度的要求也越來越高，既要將納米級的粉末清除，也不能使金屬制件生銹。水基清洗劑依據應用場合、洗滌對象以及殘留物的性質，洗滌機理也比較復雜，一般的水基清洗劑包括表面活性劑、緩蝕劑、pH調節(jié)劑、穩(wěn)定劑、溶劑和其他助劑，一般把洗滌過程分為三部分：一是浸透過程，二是擴張、分散、浮化和可溶化過程，三是除去過程。目前，研磨液根據磨料的不同可分為金剛石研磨液、二氧化硅研磨液、氧化鈰研磨液等，金剛石研磨液中含有許多細小的礦物質粉，這些礦物質粉在研磨過程中會殘留在金屬制件的表面，形成非常細小的納米級粉末，如果不把這些細小的納米級粉末及時清理，金屬制件在使用的過程中，金屬制件的表面會受到磨損，繼而可能影響產品的性能，因此制備針對納米級粉末殘留物的清洗劑顯得十分必要。中國專利CN105925389A公開的稀土研磨液專用清洗劑，主要包括NTA或者EDTA絡合劑、烷基酚聚氧乙烯醚、高碳脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪酸聚氧乙烯酯、脂肪酸甲酯乙基氧化物、失水山梨醇酯表面活性劑、碳酸鈉和碳酸氫鈉的緩沖劑和水組成，制備的清洗劑分散性和吸附性好，清洗效果顯著，對油脂的清洗率提高，對工件表面無明顯的研磨液殘留。但是針對納米級的殘留的清洗效果并不顯著。中國專利CN102816660A公開的一種納米水基清洗劑及其制備方法，該納米水基清洗劑包括碳酸鈉、碳酸氫鈉、氫氧化鈉、三聚磷酸鈉、磷酸二氫鈉或者五水偏硅酸鈉皂化劑、聚乙二醇、辛基酚聚氧乙烯醚、十二烷基磺酸鈉等表面活性劑、三乙醇胺等緩蝕劑、硅醚或者聚醚有機硅納米消泡劑、水溶性納米二氧化硅和水，該清洗劑的適用范圍廣泛，不含揮發(fā)性有機溶劑，清洗過程泡沫少、不輔食被清洗物件，但是很對細小的納米級粉末的清洗能力依然有限。
技術實現思路
本專利技術要解決的技術問題是提供一種金剛石研磨液專用的水基清洗劑及其制備方法，該水基清洗劑包括第一清洗劑和第二清洗劑，第一清洗劑的組分包括：強堿、復配絡合劑、乙醇胺、分散劑、復配表面活性劑，余量為水，第二清洗劑中的組分包括：弱酸、緩蝕劑、表面活性劑、納米消泡劑、水溶性納米二氧化硅，余量為水。采用兩種清潔劑，清洗效果更佳徹底，對細小的納米級粉末的清除率高，且不對工件設備造成腐蝕和污染，清洗效果好。為解決上述技術問題，本專利技術的技術方案是：一種金剛石研磨液專用的水基清洗劑，所述金剛石研磨液專用的水基清洗劑包括第一清洗劑和第二清洗劑，所述第一清洗劑包括強堿、復配絡合劑、乙醇胺、分散劑、復配表面活性劑和水，所述第一清洗劑的組分，按重量百分比計，包括：強堿3-10％、復配絡合劑3-8％、乙醇胺1-5％、分散劑1-5％、復配表面活性劑3-7％，余量為水，所述強堿為氫氧化鈉或/和氫氧化鉀，所述復配絡合劑為HEDP、ATMP、EDTMPA、PAPEMP、PBTCA中的一種或者幾種，所述乙醇胺為一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺中的一種或者幾種，所述分散劑為聚馬來酸、聚馬來酸丙烯酸、聚馬來酸鹽、聚馬來酸丙烯酸鹽中的一種或者幾種，所述復配表面活性劑為RD129B、RD127、脂肪醇聚氧乙烯醚三醚、脂肪醇聚氧乙烯醚九醚中的一種或者幾種。作為上述技術方案的優(yōu)選，所述第二清洗劑的使用在第一清洗劑之后。作為上述技術方案的優(yōu)選，所述第二清洗劑包括弱酸、緩蝕劑、表面活性劑、納米消泡劑和水溶性納米二氧化硅，所述第二清洗劑的組分，按重量百分比計，包括：弱酸2-10％、緩蝕劑0.5-2％、表面活性劑5-10％、納米消泡劑0.5-3％和水溶性納米二氧化硅1-5％，余量為水，所述弱酸為亞硫酸鈉、緩蝕劑為乙醇胺，所述表面活性劑為烷基基酚聚氧乙烯醚，所述納米消泡劑為納米硅醚消泡劑。本專利技術還提供一種金剛石研磨液專用的水基清洗劑的制備方法，包括以下步驟：(1)按照比例加入3-8％的復配絡合劑、3-10％的強堿和水，攪拌15-20min，讓其充分反應，然后依次加入1-5％的乙醇胺、1-5％的分散劑、3-7％的復配表面活性劑，攪拌10-15min，得到第一清洗劑；(2)按照比例加入2-10％的弱酸和水，攪拌15-20min，攪拌均勻，依次加入0.5-2％的緩蝕劑、5-10％的表面活性劑、0.5-3％的納米消泡劑和1-5％的水溶性納米二氧化硅，攪拌至完全溶解，得到第二清洗劑；(3)步驟(1)制備的第一清洗劑和步驟(2)制備的第二清洗劑組成金剛石研磨液專用的水基清洗劑。作為上述技術方案的優(yōu)選，所述步驟(1)中，所述強堿為氫氧化鈉或/和氫氧化鉀，所述復配絡合劑為HEDP、ATMP、EDTMPA、PAPEMP、PBTCA中的一種或者幾種，所述乙醇胺為一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺中的一種或者幾種，所述分散劑為聚馬來酸、聚馬來酸丙烯酸、聚馬來酸鹽、聚馬來酸丙烯酸鹽中的一種或者幾種，所述復配表面活性劑為RD129B、RD127、脂肪醇聚氧乙烯醚三醚、脂肪醇聚氧乙烯醚九醚中的一種或者幾種。作為上述技術方案的優(yōu)選，所述步驟(2)中，所述弱酸為亞硫酸鈉、緩蝕劑為乙醇胺，所述表面活性劑為烷基基酚聚氧乙烯醚，所述納米消泡劑為納米硅醚消泡劑。作為上述技術方案的優(yōu)選，所述金剛石研磨液專用的水基清洗劑的使用方法為：(1)將第一清洗劑注入需要清洗的工件設備中，在30-55℃下，正向循環(huán)擦拭1-3min，再反向循環(huán)擦拭1-3min；(2)將步驟(1)倒入的第一清洗劑排除需要清洗的工件設備，加入第二清洗劑，在50-80℃下，正向循環(huán)擦拭1-3min，再反向循環(huán)擦拭1-3min；(3)將步驟(2)倒入的第二清洗劑排除需要清洗的工件設備，加入水，沖洗2-3次，將工件設備吹干。作為上述技術方案的優(yōu)選，所述步驟(1)和步驟(2)組成一個周期，所述周期可循環(huán)2-3次。作為上述技術方案的優(yōu)選，所述吹干的方法為空氣或者氮氣吹干。與現有技術相比，本專利技術具有以下有益效果：(1)本專利技術制備的金剛石研磨液專用的水基清洗劑包括第一清洗劑和第二清洗劑，第一清洗劑中含有強堿、復配絡合劑、乙醇胺、分散劑和復配表面活性劑，強堿可以對研磨液的溶解能力高，易于漂洗，復配絡合劑可以與細小的金屬顆粒絡合，增加金屬顆粒的溶解性，提高清洗效率，乙醇胺可防止工件被腐蝕，分散劑和復配表面活性劑有利于提高清洗劑的分散性和穩(wěn)定性，第一清洗劑可以使可溶性和不溶性化合物殘留物部分溶解和松動，第二清洗劑中含有弱酸、緩蝕劑、表面活性劑、納米消泡劑、水溶性納米二氧化硅，弱酸可再次對殘留物進行溶解和松散，緩蝕劑可保護工件被腐蝕，納米消泡劑可消除氣泡，保證清洗劑在清洗過程的穩(wěn)定性，而且還有的水溶性納米二氧化硅可以防止清洗劑的殘留，防止造成二次污染。(2)本專利技術制備的金剛石研磨液專用的水基清洗劑利用第二清洗劑再次對殘留物進行溶解和松動，有利于殘留物的溶解和剝落，第一清洗劑中含有堿性物質，第二清洗劑中含有酸性物質，兩者結合最大范圍的對工件表面的研磨液殘留物進行清洗，清洗效果好本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種金剛石研磨液專用的水基清洗劑，其特征在于：所述金剛石研磨液專用的水基清洗劑包括第一清洗劑和第二清洗劑，所述第一清洗劑包括強堿、復配絡合劑、乙醇胺、分散劑、復配表面活性劑和水，所述第一清洗劑的組分，按重量百分比計，包括：強堿3?10％、復配絡合劑3?8％、乙醇胺1?5％、分散劑1?5％、復配表面活性劑3?7％，余量為水，所述強堿為氫氧化鈉或/和氫氧化鉀，所述復配絡合劑為HEDP、ATMP、EDTMPA、PAPEMP、PBTCA中的一種或者幾種，所述乙醇胺為一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺中的一種或者幾種，所述分散劑為聚馬來酸、聚馬來酸丙烯酸、聚馬來酸鹽、聚馬來酸丙烯酸鹽中的一種或者幾種，所述復配表面活性劑為RD129B、RD127、脂肪醇聚氧乙烯醚三醚、脂肪醇聚氧乙烯醚九醚中的一種或者幾種。

【技術特征摘要】
1.一種金剛石研磨液專用的水基清洗劑，其特征在于：所述金剛石研磨液專用的水基清洗劑包括第一清洗劑和第二清洗劑，所述第一清洗劑包括強堿、復配絡合劑、乙醇胺、分散劑、復配表面活性劑和水，所述第一清洗劑的組分，按重量百分比計，包括：強堿3-10％、復配絡合劑3-8％、乙醇胺1-5％、分散劑1-5％、復配表面活性劑3-7％，余量為水，所述強堿為氫氧化鈉或/和氫氧化鉀，所述復配絡合劑為HEDP、ATMP、EDTMPA、PAPEMP、PBTCA中的一種或者幾種，所述乙醇胺為一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺中的一種或者幾種，所述分散劑為聚馬來酸、聚馬來酸丙烯酸、聚馬來酸鹽、聚馬來酸丙烯酸鹽中的一種或者幾種，所述復配表面活性劑為RD129B、RD127、脂肪醇聚氧乙烯醚三醚、脂肪醇聚氧乙烯醚九醚中的一種或者幾種。2.根據權利要求1所述的一種金剛石研磨液專用的水基清洗劑，其特征在于：所述第二清洗劑的使用在第一清洗劑之后。3.根據權利要求1所述的一種金剛石研磨液專用的水基清洗劑，其特征在于：所述第二清洗劑包括弱酸、緩蝕劑、表面活性劑、納米消泡劑和水溶性納米二氧化硅，所述第二清洗劑的組分，按重量百分比計，包括：弱酸2-10％、緩蝕劑0.5-2％、表面活性劑5-10％、納米消泡劑0.5-3％和水溶性納米二氧化硅1-5％，余量為水，所述弱酸為亞硫酸鈉、緩蝕劑為乙醇胺，所述表面活性劑為烷基基酚聚氧乙烯醚，所述納米消泡劑為納米硅醚消泡劑。4.一種金剛石研磨液專用的水基清洗劑的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：(1)按照比例加入3-8％的復配絡合劑、3-10％的強堿和水，攪拌15-20min，讓其充分反應，然后依次加入1-5％的乙醇胺、1-5％的分散劑、3-7％的復配表面活性劑，攪拌10-15min，得到第一清洗劑；(2)按照比例加入2-10％的弱酸和水，攪拌15-20min，攪拌均勻，依次加入0.5-2％...

【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：李風浪，李舒歆，
申請(專利權)人：東莞市聯洲知識產權運營管理有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：廣東,44