The invention provides a hole filling line for vertical continuous plating PCB processing board, including a plurality of lines arranged in parallel, which is characterized in that each line are orderly comprises a feeding mechanism, a pre treating device, loading device, forward electroplating pretreatment device, several levels of copper cylinder, after shifting device and postprocessing device and a stripping device, feeding and feeding mechanism is connected with the automatic plate device, automatic feeding end plate device with a plate on the conveyor belt, postprocessing device of the discharge end is sequentially connected with a central positioning machine, angle machine, dry machine and automatic level receiving machine. The invention provides a vertical continuous plating hole filling line, coating thickness which are located in the high density circuit board blind hole, buried hole filled hole uniformity, deep plating ability, hole filling ability and good adhesion, beautiful appearance and good hole wall coating and surface coating thickness, operation and maintenance more convenient, compact structure, less occupied space, less gas, more environmentally friendly.
【技術實現步驟摘要】
一種垂直連續電鍍填孔線
本專利技術涉及線路板的電鍍技術,尤其是一種應用于高密度線路板/積層多層板的垂直連續電鍍填孔線。
技術介紹
在高密度互連板的電鍍中,為實現高密度化的要求,隨著板的層數不斷增加,孔的不斷縮小,孔的厚徑比也在增大。目前,這些微孔已經普遍小于0.15mm,乃至小于30~50μm,對于這樣微小且高厚徑比的孔中進行電鍍,與常規印制電路板的孔電鍍有較大的區別。當不通孔的孔深度深或厚徑比大時,如采用水平式電鍍,位于高密度互連板下表面的不通孔因難于趕走孔內氣體,鍍液很難進入孔內,因此現有水平式電鍍技術存在的問題為:填孔外觀不均勻、細致,有麻點和針孔,鍍層厚度不均勻,孔壁鍍層的厚度與板面鍍層厚度相差太大,并產生鍍層與基體結合不牢固等不良現象。
技術實現思路
針對現有技術存在的問題,本專利技術提供一種垂直連續電鍍填孔線,其應用于高密度互連板(HDI)/積層多層板(BUM)的填孔電鍍中,具有良好的電鍍分布、灌孔和填孔能力,并能獲得穩定的電鍍質量。本專利技術的技術方案為:一種垂直連續電鍍填孔線,包括并列設置的若干條分線,其特征在于:每條分線均包括依次連接的送料機構、前處理裝置、前移載裝置、電鍍預處理裝置、若干級電鍍銅缸、后移載裝置、后處理裝置和退鍍裝置。所述的前處理裝置包括入料機構、除油機構和分級前處理機構,所述的入料機構包括導柱A和導軌A,所述的導軌A由動力機構驅動能在導柱A上進行升降,除油機構包括導柱B、導軌B、撥塊安裝架組件一,所述的導軌B下方設有除油槽,撥塊安裝架組件一安裝在導柱B上,在撥塊安裝架組件一中,撥塊安裝架一能在推移馬達驅動下橫向運動,撥塊安裝 ...
【技術保護點】
一種垂直連續電鍍填孔線,包括并列設置的若干條分線,其特征在于:每條分線均包括依次連接的送料機構、前處理裝置、前移載裝置、電鍍預處理裝置、若干級電鍍銅缸、后移載裝置、后處理裝置和退鍍裝置。
【技術特征摘要】
1.一種垂直連續電鍍填孔線,包括并列設置的若干條分線,其特征在于:每條分線均包括依次連接的送料機構、前處理裝置、前移載裝置、電鍍預處理裝置、若干級電鍍銅缸、后移載裝置、后處理裝置和退鍍裝置。2.根據權利要求1所述的垂直連續電鍍填孔線,其特征在于:所述的前處理裝置包括入料機構、除油機構和分級前處理機構,所述的入料機構包括導柱A和導軌A,所述的導軌A由動力機構驅動能在導柱A上進行升降,除油機構包括導柱B、導軌B、撥塊安裝架組件一,所述的導軌B下方設有除油槽,分級前處理機構包括前處理支撐架、立柱、導軌C、撥塊安裝架組件二,所述的導軌C下方自右向左依次設置有若干級處理槽,導軌C由動力機構驅動能沿立柱上下升降。3.根據權利要求2所述的垂直連續電鍍填孔線,其特征在于:所述的分級前處理機構中,立柱分為立柱一和立柱二,立柱一上安裝有滑架組件一,立柱二上安裝有滑架組件二,滑架組件一和滑架組件二之間固定有吊臂,前處理支撐架上安裝有升降馬達和鏈輪,吊臂上安裝有鏈輪和導軌C,鏈條穿過各個鏈輪并由升降馬達驅動而實現吊臂及導軌C的上下運動。4.根據權利要求1所述的垂直連續電鍍填孔線,其特征在于:所述的前移載裝置包括移載支撐架、移載導軌和若干個移載機構,所述的移載導軌位于移載支撐架上,移載機構包括基座、安裝在基座上的導柱D、驅動基座和導柱D沿移載導軌運動的橫移電機、安裝在導柱D上的臺車和導軌D、驅動臺車和導軌D上下運動的升降電機。5.根據權利要求1所述的垂直連續電鍍填孔線,其特征在于:所述的電鍍預處理裝置包括分級預處理機構,分級預處理機構包括預處理支撐架、導柱E、導軌E、撥塊安裝架組件三,所述的導軌E下方自左向右依次設置有若干級處理槽,導軌E由動力機構驅動能沿導柱E上下升降。6.根據權利要求1所述的垂直連續電鍍填孔線,其特征在于:所述的分線中,各級電鍍銅缸上方均安裝有電鍍銅缸送板裝置,電鍍銅缸送板裝置包括傳送支撐架和安裝在傳送支撐架上的帶電導軌、動力機構、輸送鏈輪、輸送鏈條,所述的動力機構驅動輸送鏈條使得掛具沿輸送鏈條和帶電導軌進行同步傳送,各級電鍍銅缸上均設有噴流機構和整流機構,整流機構包括整流機和與整流機連接的陽極組件,整流機與帶電導軌連接并使得帶電導軌上的掛具導電,噴流機構包括噴管和設置在噴管上的混流噴咀,噴流機構通過噴流管路與外部的電鍍銅缸主槽和電鍍銅缸副槽連通,電鍍銅缸主槽上設有銅粉添加機,噴流管路上...
【專利技術屬性】
技術研發人員:鄧志堅,彭云,韋萬禮,
申請(專利權)人:東莞市希銳自動化科技股份有限公司,
類型:發明
國別省市:廣東,44
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