真空紫外成像光譜儀校準裝置制造方法及圖紙

本發(fā)明專利技術提供一種真空紫外成像光譜儀校準裝置，包括：真空紫外光源，用于產(chǎn)生不同波段的紫外光；真空紫外光處理模塊，用于將所述紫外光進行分光和均勻處理；真空紫外靶標模塊，用于提供特征靶標，將所述紫外光轉換為具有相應特征的紫外光，并發(fā)送至標準紫外成像光譜儀或被校準紫外成像光譜儀；標準紫外成像光譜儀，用于接收靶標模塊輸出的紫外光并輸出標準光輻射功率；控制模塊，用于接收所述標準光輻射功率和被校準紫外成像光譜儀輸出的光輻射功率，并輸出校準結果；本發(fā)明專利技術提供的真空紫外成像光譜儀校準裝置，能夠在發(fā)射前對真空紫外成像光譜儀進行校準，保證真空紫外成像光譜儀在空間站的正常運行。

Calibration device of vacuum ultraviolet imaging spectrometer

The invention provides a vacuum ultraviolet imaging spectrometer calibration device includes a vacuum ultraviolet light source for ultraviolet light generating different wavelengths; vacuum ultraviolet processing module, the UV light and uniform treatment; vacuum ultraviolet target module is used to provide the characteristic target to convert the ultraviolet ultraviolet light with the corresponding the characteristics, and sent to the standard ultraviolet imaging spectrometer or calibrated ultraviolet imaging spectrometer; standard ultraviolet imaging spectrometer, UV light and output standard for receiving the target module output light radiation power; the control module, for receiving the standard light radiation and ultraviolet imaging spectrometer is calibrated light output power and radiation. Output calibration results; vacuum ultraviolet imaging spectrometer calibration device provided by the invention can before the launch of the vacuum ultraviolet imaging The spectrometer is calibrated to ensure the normal operation of the vacuum ultraviolet imaging spectrometer at the space station.

【技術實現(xiàn)步驟摘要】
真空紫外成像光譜儀校準裝置
本專利技術涉及光學測試設備校準
，尤其涉及一種真空紫外成像光譜儀校準裝置。
技術介紹
真空紫外成像光譜儀的工作譜段剛好為空間物質(zhì)成分重要的特征譜段，并且能夠同時給出探測目標的真空紫外光譜信息和真空紫外圖像信息、實現(xiàn)圖譜合一，其具有的優(yōu)勢使得真空紫外成像光譜儀在航天技術迅速進步、空間科學研究空前發(fā)展的今天成為了世界各國爭相關注的焦點，其屢被發(fā)射到太空中用以對地球、太陽系乃至整個宇宙進行觀測，通過對這些不同天體目標真空紫外輻射強度和變化的觀測，反演出多種物質(zhì)的含量和變化規(guī)律，從而為日地空間環(huán)境、空間天氣、宇宙起源等許多前沿科學研究提供大量的研究資料和可靠數(shù)據(jù)。校準測試是真空紫外成像光譜儀發(fā)射前的必不可少的重要環(huán)節(jié)，是衡量產(chǎn)品能否正常應用的關鍵。然而，這一關鍵點卻尚未的得到應有的重視，導致在運載至太空中后才發(fā)現(xiàn)問題，嚴重影響空間探測計劃的正常進行。
技術實現(xiàn)思路
在下文中給出關于本專利技術的簡要概述，以便提供關于本專利技術的某些方面的基本理解。應當理解，這個概述并不是關于本專利技術的窮舉性概述。它并不是意圖確定本專利技術的關鍵或重要部分，也不是意圖限定本專利技術的范圍。其目的僅僅是以簡化的形式給出某些概念，以此作為稍后論述的更詳細描述的前序。為解決上述問題，本專利技術提出一種真空紫外成像光譜儀校準裝置，能夠在發(fā)射前對真空紫外成像光譜儀進行校準，保證真空紫外成像光譜儀在空間站的正常運行。一種真空紫外成像光譜儀校準裝置，包括：真空紫外光源，用于產(chǎn)生不同波段的紫外光；真空紫外光處理模塊，用于將所述紫外光進行分光和均勻處理；真空紫外靶標模塊，用于提供特征靶標，將所述紫外光轉換為具有相應特征的紫外光，并發(fā)送至標準紫外成像光譜儀或被校準紫外成像光譜儀；標準紫外成像光譜儀，用于接收靶標模塊輸出的紫外光并輸出標準光輻射功率；控制模塊，用于接收所述標準光輻射功率和被校準紫外成像光譜儀輸出的光輻射功率，并輸出校準結果。本專利技術提供的真空紫外成像光譜儀校準裝置，能夠在發(fā)射前對真空紫外成像光譜儀進行校準，保證真空紫外成像光譜儀在空間站的正常運行。附圖說明為了更清楚地說明本專利技術實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本專利技術的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本專利技術提供的真空紫外成像光譜儀校準裝置一種實施例的結構示意圖。圖2為本專利技術提供的真空紫外成像光譜儀校準裝置第二種實施例的結構示意圖具體實施方式下面參照附圖來說明本專利技術的實施例。在本專利技術的一個附圖或一種實施方式中描述的元素和特征可以與一個或者更多個其他附圖或?qū)嵤┓绞街惺境龅脑睾吞卣飨嘟Y合。應當注意，為了清楚目的，附圖和說明中省略了與本專利技術無關的、本領域普通技術人員已知的部件和處理的表示和描述。參考圖1，本實施例提供一種真空紫外成像光譜儀校準裝置，包括：真空紫外光源101，用于產(chǎn)生不同波段的紫外光；真空紫外光處理模塊102，用于將紫外光進行分光和均勻處理；真空紫外靶標模塊103，用于提供特征靶標，將紫外光轉換為具有相應特征的紫外光，并發(fā)送至標準紫外成像光譜儀104或被校準紫外成像光譜儀105；標準紫外成像光譜儀104，用于接收靶標模塊輸出的紫外光并輸出標準光輻射功率；控制模塊106，用于接收所述標準光輻射功率和被校準紫外成像光譜儀輸出的光輻射功率，并輸出校準結果。進一步地，參考圖2，真空紫外光源101包括氘燈107和氙燈108，氘燈107用于提供120nm-160nm波段的紫外光，氙燈108用于提供160nm-200nm波段的紫外光。進一步地，校準裝置還包括光源切換機構109，氘燈107和氙燈108設置在光源切換機構109上，用于實現(xiàn)氘燈107和氙燈108的切換。氘燈107和氙燈108作為校準裝置的光源，具有高穩(wěn)定性的特點。進一步地，真空紫外光處理模塊102包括分光模塊110和勻光模塊111，分光模塊110用于將紫外光進行分光處理生成單色光；勻光模塊111用于將經(jīng)分光處理后的紫外光進行勻光處理。具體地，分光模塊110包括真空紫外光柵、相應的掃描旋轉機械機構、電機驅(qū)動控制機構、光路偏轉系統(tǒng)等，用來將入射的真空紫外光分為單色光，以進行光譜特性的校準。勻光模塊111包括紫外漫反射板、紫外漫透射板和模塊切換機構，模塊切換機構用于實現(xiàn)所述紫外漫反射板和紫外漫透射板切換。真空紫外漫反射板、真空紫外漫透射板，用來對單色儀出射的真空紫外光輻射進行光均勻化處理，以使得真空紫外靶標模塊得到均勻的照明；同時設計模塊切換機構，實現(xiàn)真空紫外漫反射板與真空紫外漫透射板之間的相互切換，滿足均勻性校準與光譜響應率校準的不同需求。進一步地，真空紫外靶標模塊103包括分辨率靶、方形靶、點陣靶、半圓靶、十字靶以及靶標切換機構，不同特征的靶標生成不同特征的紫外光，靶標切換機構用于實現(xiàn)不同靶標的切換，滿足不同參數(shù)的校準需求。進一步地，校準裝置還包括真空紫外準直模塊112，真空紫外準直模塊112包括離軸拋物面反射鏡和平面反射鏡，離軸拋物面反射鏡和平面反射鏡配合設置對經(jīng)真空紫外靶標模塊輸出的紫外光進行準直處理。離軸拋物面反射鏡和平面反射鏡表面經(jīng)過超光滑表面加工處理，進行真空紫外反射膜系的鍍制；用來將特定的靶標準直形成無窮遠的目標，滿足真空紫外成像光譜儀光譜特性和成像特性高準確度校準的需求。紫外光由真空紫外光源101發(fā)出后經(jīng)分光模塊110分離出所需波長部分，再由勻光模塊111作勻光處理后經(jīng)真空紫外靶標模塊103繼而經(jīng)準直模塊112進行準直處理后發(fā)射給標準紫外成像光譜儀104或被校準紫外成像光譜儀105。作為一種優(yōu)選的實施方式，標準紫外成像光譜儀104選用AXUV100G紫外增強型真空紫外探測器，波段范圍涵蓋120nm～200nm，在真空紫外波段具有良好的輸出和線性，用來測量準直模塊輸出的光輻射功率，以進行真空紫外成像光譜儀光譜響應率的校準，通過NIST進行校準得到標準的光譜響應率數(shù)據(jù)。進一步地，校準裝置還包括旋轉平臺113，標準紫外成像光譜儀104和被校準紫外成像光譜儀105設置在旋轉平臺113上，旋轉平臺113通過旋轉使得標準紫外成像光譜儀或被校準紫外成像光譜儀對準準直模塊輸出的紫外光，實現(xiàn)標準紫外成像光譜儀104和被校準紫外成像光譜儀105的切換。進一步地，校準裝置還包括用于調(diào)整所述旋轉平臺113與準直模塊112之間距離的平移機構114，旋轉平臺113與平移機構114配合設置，平移機構主要包括平移導軌，通過控制平移導軌，調(diào)節(jié)被校真空紫外成像光譜儀與光管的距離，滿足多參數(shù)的校準需求。進一步地，校準裝置還包括真空倉115，勻光模塊111、真空紫外靶標模塊103、真空紫外準直模塊112、旋轉平臺113、標準紫外成像光譜儀104、被校準紫外成像光譜儀105以及平移機構114置于真空倉115內(nèi)。真空倉115滿足一定的真空度要求，同時屏蔽紅外輻射及可見光輻射等雜光干擾，真空倉外部配有各種接口，實現(xiàn)與抽真空系統(tǒng)、電纜和數(shù)據(jù)線的連接，用來為真空紫外成像光譜儀的多參數(shù)校準提供一個潔凈真空環(huán)境。控制模塊106包括工業(yè)控制計算機、數(shù)據(jù)采集電路、綜合控制器及系統(tǒng)軟件等，用本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術保護點】
一種真空紫外成像光譜儀校準裝置，其特征在于，包括：真空紫外光源，用于產(chǎn)生不同波段的紫外光；真空紫外光處理模塊，用于將所述紫外光進行分光和均勻處理；真空紫外靶標模塊，用于提供特征靶標，將所述紫外光轉換為具有相應特征的紫外光，并發(fā)送至標準紫外成像光譜儀或被校準紫外成像光譜儀；標準紫外成像光譜儀，用于接收靶標模塊輸出的紫外光并輸出標準光輻射功率；控制模塊，用于接收所述標準光輻射功率和被校準紫外成像光譜儀輸出的光輻射功率，并輸出校準結果。

【技術特征摘要】
1.一種真空紫外成像光譜儀校準裝置，其特征在于，包括：真空紫外光源，用于產(chǎn)生不同波段的紫外光；真空紫外光處理模塊，用于將所述紫外光進行分光和均勻處理；真空紫外靶標模塊，用于提供特征靶標，將所述紫外光轉換為具有相應特征的紫外光，并發(fā)送至標準紫外成像光譜儀或被校準紫外成像光譜儀；標準紫外成像光譜儀，用于接收靶標模塊輸出的紫外光并輸出標準光輻射功率；控制模塊，用于接收所述標準光輻射功率和被校準紫外成像光譜儀輸出的光輻射功率，并輸出校準結果。2.根據(jù)權利要求1所述的真空紫外成像光譜儀校準裝置，其特征在于，所述真空紫外光源包括氘燈和氙燈，所述氘燈用于提供120nm-160nm波段的紫外光，所述氙燈用于提供160nm-200nm波段的紫外光。3.根據(jù)權利要求2所述的真空紫外成像光譜儀校準裝置，其特征在于，所述校準裝置還包括光源切換機構，所述氘燈和氙燈設置在所述光源切換機構上，用于實現(xiàn)所述氘燈和氙燈的切換。4.根據(jù)權利要求1所述的真空紫外成像光譜儀校準裝置，其特征在于，所述真空紫外光處理模塊包括分光模塊和勻光模塊，所述分光模塊用于將所述紫外光進行分光處理生成單色光；所述勻光模塊用于將經(jīng)所述分光處理后的紫外光進行勻光處理。5.根據(jù)權利要求4所述的真空紫外成像光譜儀校準裝置，其特征在于，所述勻光模塊包括紫外漫反射板、紫外漫透射板和模塊切換機構，...

【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：孫廣尉，孫紅勝，王加朋，任小婉，吳柯萱，楊旺林，張林軍，
申請(專利權)人：北京振興計量測試研究所，
類型：發(fā)明
國別省市：北京,11