顯示基板的制作方法、顯示基板、顯示面板和顯示裝置制造方法及圖紙

本發明專利技術實施例公開了一種顯示基板的制作方法、顯示基板、顯示面板以及顯示裝置。根據本發明專利技術實施例的顯示基板的制作方法包括：形成黑矩陣和多個黑矩陣對位標記；形成多個彩膜層對位標記；以及通過將所述多個黑矩陣對位標記分別與多個關聯的彩膜層對位標記進行N次順序對位，在黑矩陣上形成彩膜層；其中，在黑矩陣的一側邊沿處的兩端各形成N個黑矩陣第一對位標記，N個黑矩陣第一對位標記之間的間距為第一間距；在黑矩陣的相對一側邊沿處的兩端各形成N個黑矩陣第二對位標記，N個黑矩陣第二對位標記之間的間距為第二間距，第一間距與第二間距不相等；分別與N個黑矩陣第一和第二對位標記相關聯地形成N個彩膜層第一和第二對位標記。

Method for manufacturing display substrate, display substrate, display panel and display device

The embodiment of the invention discloses a method for manufacturing a display substrate, a display base board, a display panel and a display device. According to an embodiment of the present invention includes a display substrate production method: forming a black matrix and a plurality of black matrix alignment marks; forming a plurality of color film marks; and through the plurality of black matrix and a plurality of alignment marks are associated with color film alignment mark N sequence alignment, the formation of color film in the black matrix; the ends on the side edge of the black matrix of the N form a black matrix first alignment mark N spacing between the black matrix first alignment mark for the first pitch; both ends in opposite side edges of the black matrix formed a black matrix N second marks, the spacing between N black matrix second marks second spacing, spacing and spacing of second is not equal to the first black matrix and N respectively; the first and the second alignment mark associated with the formation of N color film first and second alignment mark Remember.

【技術實現步驟摘要】
顯示基板的制作方法、顯示基板、顯示面板和顯示裝置
本專利技術的實施例涉及顯示領域，具體地，涉及一種顯示基板的制作方法、一種顯示基板、一種顯示面板和一種顯示裝置。
技術介紹
在液晶顯示領域中，顯示基板是顯示面板實現彩色顯示的重要部件。在傳統顯示基板的制作過程中，通常在例如玻璃的透明基板上形成黑矩陣(BlackMatrix)并在形成有黑矩陣的基板上形成彩膜層。曝光→顯影是彩膜層制作中的重要工藝，通常使用曝光設備來完成，其中通過曝光設備自動實時檢測預先設置的曝光對位標記(mark)，并將設置有彩膜層圖案的掩膜板與對位標記對位。具體地，傳統的對位過程可以包括：將透明基板與曝光設備的機臺(Stage)進行對位并形成黑矩陣和黑矩陣對位標記；將形成有黑矩陣的基板與曝光設備的機臺進行對位；以及將黑矩陣與彩膜層掩膜進行對位，其中通過黑矩陣對位標記與彩膜層對位標記之間的對位來實現黑矩陣與彩膜層掩膜的對位。然而，當黑矩陣對位標記與彩膜層對位標記之間正好錯開整數個對位標記間距時，曝光設備會認為沒有對位誤差，并因此產生誤判。
技術實現思路
本專利技術的至少一個實施例提供了一種顯示基板的制作方法、一種顯示基板、一種顯示面板以及一種顯示裝置，以克服或緩解以上技術問題。根據本專利技術的一個方面，提出了一種顯示基板的制作方法，包括：形成黑矩陣和多個黑矩陣對位標記；形成多個彩膜層對位標記；和通過將所述多個黑矩陣對位標記分別與多個關聯的彩膜層對位標記進行N次順序對位，在黑矩陣上形成彩膜層；其中，在黑矩陣的一側邊沿處的兩端各形成N個黑矩陣第一對位標記，所述N個黑矩陣第一對位標記之間的間距為第一間距；在黑矩陣的相對一側邊沿處的兩端各形成N個黑矩陣第二對位標記，所述N個黑矩陣第二對位標記之間的間距為第二間距，第一間距與第二間距不相等；與所述N個黑矩陣第一對位標記相關聯地形成N個彩膜層第一對位標記以及與所述N個黑矩陣第二對位標記相關聯地形成N個彩膜層第二對位標記，N是大于1的整數。例如，所述N個黑矩陣第一對位標記的中心位于第一直線上，所述N個黑矩陣第二對位標記的中心位于第二直線上，所述第二間距等于第一間距+n*3P，其中n是正整數，P是相鄰子像素中心線之間的間距。例如，所述N個彩膜層第一對位標記位于第三直線上，所述N個彩膜層第二對位標記位于第四直線上，所述N個彩膜層第一對位標記之間的間距為所述第一間距+P或第一間距-P；以及所述N個彩膜層第二對位標記之間的間距為所述第二間距+P或第二間距-P。例如，所述N個彩膜層第一對位標記之間沿所述第一直線方向上的間距為所述第一間距，在與所述第一直線垂直的方向上的間距為P；以及所述N個彩膜層第二對位標記之間沿所述第一直線方向上的間距為所述第二間距，在與所述第一直線垂直的方向上的間距為P。例如，第一間距等于1.5mm，且0.4mm＜n*3P＜1.1mm。根據本專利技術實施例的另一方面，提供了一種顯示基板，包括：黑矩陣；彩膜層；以及形成彩膜層使用的多個黑矩陣對位標記和多個彩膜層對位標記；其中，在黑矩陣的一側邊沿處的兩端各形成有N個黑矩陣第一對位標記，所述N個黑矩陣第一對位標記之間的間距為第一間距；在黑矩陣的相對一側邊沿處的兩端各形成有N個黑矩陣第二對位標記，所述N個黑矩陣第二對位標記之間的間距為第二間距，第一間距與第二間距不相等；N個彩膜層第一對位標記與所述N個黑矩陣第一對位標記相關聯地設置，以及N個彩膜層第二對位標記與所述N個黑矩陣第二對位標記相關聯地設置，N是大于1的整數。根據本專利技術實施例的另一方面，提供了一種顯示面板，包括陣列基板和根據本專利技術實施例的顯示基板。根據本專利技術實施例的另一方面，提了一種顯示裝置，包括根據本專利技術實施例的顯示面板。附圖說明為了更清楚地說明本專利技術實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本專利技術的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖，圖中：圖1A示出了傳統形成黑矩陣對位標記的示意圖；圖1B示出了圖1A中黑矩陣對位標記的詳細示意圖；圖2示出了利用傳感器監控透明基板初對位的示意圖；圖3示出了在黑矩陣上形成彩膜層的示意圖；圖4A示出了傳統彩膜層掩膜與黑矩陣對位的示意圖；圖4B示出了當子像素沿橫向依次排布時圖4A中一組彩膜層對位標記的詳細示意圖；圖4C示出了當子像素沿縱向依次排布時圖4A中一組彩膜層對位標記的詳細示意圖；圖5A示出了黑矩陣對位標記的示例示意圖；圖5B示出了彩膜層對位標記的示例示意圖；圖6A示出了彩膜層對位標記與黑矩陣對位標記對準的顯示示例；圖6B示出了彩膜層對位標記與黑矩陣對位標記沒有對準的一種顯示示例；圖7A示出了彩膜層對位標記與黑矩陣對位標記對準的示意圖；圖7B示出了彩膜層對位標記與黑矩陣對位標記沒有對準的第一示例示意圖；圖7C示出了彩膜層對位標記與黑矩陣對位標記沒有對準的第二示例示意圖；圖7D示出了彩膜層對位標記與黑矩陣對位標記沒有對準的第三示例示意圖；圖7E示出了彩膜層對位標記與黑矩陣對位標記沒有對準的第四示例示意圖；圖8示出了根據本專利技術實施例的顯示基板的制作方法的示意流程圖；圖9A示出了根據本專利技術實施例的黑矩陣對位標記的設置示意圖；圖9B示出了根據本專利技術實施例的第一示例彩膜層對位標記的設置示意圖；圖9C示出了根據本專利技術實施例的第二示例彩膜層對位標記的設置示意圖；圖10示出了根據本專利技術實施例的顯示基板的示意圖；圖11A示出了根據本專利技術實施例彩膜層對位標記與黑矩陣對位標記沒有對準的第一示例示意圖；圖11B示出了根據本專利技術實施例彩膜層對位標記與黑矩陣對位標記沒有對準的第二示例示意圖；圖11C示出了根據本專利技術實施例彩膜層對位標記與黑矩陣對位標記沒有對準的第三示例示意圖；圖12A示出了根據本專利技術實施例在圖11A所示情況下的顯示示例；圖12B示出了根據本專利技術實施例在圖11B所示情況下的顯示示例；以及圖12C示出了根據本專利技術實施例在圖11C所示情況下的顯示示例。具體實施方式為使本專利技術實施例的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合本專利技術實施例中的附圖，對本專利技術實施例中的技術方案進行清楚、完整的描述。顯然，所描述的實施例是本專利技術的一部分實施例，而不是全部。基于所描述的本專利技術的實施例，本領域普通技術人員在無需創造性勞動的前提下獲得的所有其他實施例都屬于本專利技術保護的范圍。應注意，貫穿附圖，相同的元素由相同或相近的附圖標記來表示。在以下描述中，一些具體實施例僅用于描述目的，而不應該理解為對本專利技術有任何限制，而只是本專利技術實施例的示例。在可能導致對本專利技術的理解造成混淆時，將省略常規結構或構造。應注意，圖中各部件的形狀和尺寸不反映真實大小和比例，而僅示意本專利技術實施例的內容。除非另外定義，本專利技術實施例使用的技術術語或科學術語應當是本領域技術人員所理解的通常意義。本專利技術實施例中使用的“第一”、“第二”以及類似詞語并不表示任何順序、數量或重要性，而只是用于區分不同的組成部分。此外，在本專利技術實施例的附圖中，只涉及到與本專利技術實施例涉及的結構，其他結構可參考通常設計。此外，可以理解，當下文中諸如層、膜、區域或基板之類的元件被稱作位于另一元件“上”或“下”時，該元件可以“直接”位于另一元本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種顯示基板的制作方法，包括：形成黑矩陣和多個黑矩陣對位標記；形成多個彩膜層對位標記；和通過將所述多個黑矩陣對位標記分別與多個關聯的彩膜層對位標記進行N次順序對位，在黑矩陣上形成彩膜層；其中，在黑矩陣的一側邊沿處的兩端各形成N個黑矩陣第一對位標記，所述N個黑矩陣第一對位標記之間的間距為第一間距；在黑矩陣的相對一側邊沿處的兩端各形成N個黑矩陣第二對位標記，所述N個黑矩陣第二對位標記之間的間距為第二間距，第一間距與第二間距不相等；與所述N個黑矩陣第一對位標記相關聯地形成N個彩膜層第一對位標記以及與所述N個黑矩陣第二對位標記相關聯地形成N個彩膜層第二對位標記，N是大于1的整數。

【技術特征摘要】
1.一種顯示基板的制作方法，包括：形成黑矩陣和多個黑矩陣對位標記；形成多個彩膜層對位標記；和通過將所述多個黑矩陣對位標記分別與多個關聯的彩膜層對位標記進行N次順序對位，在黑矩陣上形成彩膜層；其中，在黑矩陣的一側邊沿處的兩端各形成N個黑矩陣第一對位標記，所述N個黑矩陣第一對位標記之間的間距為第一間距；在黑矩陣的相對一側邊沿處的兩端各形成N個黑矩陣第二對位標記，所述N個黑矩陣第二對位標記之間的間距為第二間距，第一間距與第二間距不相等；與所述N個黑矩陣第一對位標記相關聯地形成N個彩膜層第一對位標記以及與所述N個黑矩陣第二對位標記相關聯地形成N個彩膜層第二對位標記，N是大于1的整數。2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述N個黑矩陣第一對位標記的中心位于第一直線上，所述N個黑矩陣第二對位標記的中心位于第二直線上，所述第二間距等于第一間距+n*3P，其中n是正整數，P是相鄰子像素中心線之間的間距。3.根據權利要求2所述的方法，其中，所述N個彩膜層第一對位標記位于第三直線上，所述N個彩膜層第二對位標記位于第四直線上，所述N個彩膜層第一對位標記之間的間距為所述第一間距+P或第一間距-P；以及所述N個彩膜層第二對位標記之間的間距為所述第二間距+P或第二間距-P。4.根據權利要求2所述的方法，其中，所述N個彩膜層第一對位標記之間沿所述第一直線方向上的間距為所述第一間距，在與所述第一直線垂直的方向上的間距為P；以及所述N個彩膜層第二對位標記之間沿所述第一直線方向上的間距為所述第二間距，在與所述第一直線垂直的方向上的間距為P。5.根據權利要求2-4之一所述的方法，其中，第一間距等于1.5mm，且0.4mm＜n*3P＜1.1mm。6.一種顯示基板，包括：黑矩陣...

【專利技術屬性】
技術研發人員：李丹輝，隆清德，楊澤榮，葉超，傅昌余，熊小蛟，
申請(專利權)人：京東方科技集團股份有限公司，成都京東方光電科技有限公司，
類型：發明
國別省市：北京,11