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    高純度喹啉衍生物及其生產方法技術

    技術編號:15340036 閱讀:178 留言:0更新日期:2017-05-16 23:27
    提供了由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽,其中由化學式(I)所表示的化合物的含量按質量計為350ppm或更少。

    【技術實現步驟摘要】
    【國外來華專利技術】高純度喹啉衍生物及其生產方法專利技術的領域本專利技術涉及喹啉衍生物及其生產方法。更確切地說,本專利技術涉及高純度喹啉衍生物和用來有效獲得該喹啉衍生物的生產方法。相關
    技術介紹
    已知由化合物(IV)所表示的喹啉衍生物:展現出優異的抗腫瘤活性(PTL1)。PTL1、2、3、4和5揭露了用于生產這些喹啉衍生物的方法。確切地說,在PTL1的生產方法中(如在實例368中所描述的),將4-氨基-3-氯苯酚鹽酸鹽與4-氯-7-甲氧基-喹啉-6-甲酰胺進行反應(步驟A);將氯甲酸苯酯與所獲得的4-(4-氨基-3-氯苯氧基)-7-甲氧基-喹啉-6-甲酰胺進行反應,并且分離生成的N-{4-(6-胺甲酰-7-甲氧基-4-喹啉基)氧基-2-氯苯基})胺基甲酸苯酯(步驟B);而后將環丙胺進一步與該胺基甲酸酯進行反應(步驟C)來獲得目標化合物4-[3-氯-4-(環丙基氨基羰基)氨基苯氧基]-7-甲氧基-6-喹啉-甲酰胺(下文稱作“化合物(IV)”),其中三個步驟的總產率為25.5%。在PTL2(參考實例1)和PTL4(生產實例1)中所描述的生產方法中,將環丙胺與N-{4-(6-胺甲酰基-7-甲氧基-4-喹啉基)氧基-2-氯苯基}胺基甲酸苯酯進行反應來獲得化合物(IV),其中產率為80.2%。在PTL2(參考實例3)、PTL3(實例4)、PTL4(生產實例3)和PTL5(實例1a)中所描述的生產方法中,從4-氯-7-甲氧基-喹啉-6-甲酰胺由一單獨步驟來獲得目標化合物(IV),其中在PTL2至4中的產率為86.3%并且在PTL5中的產率為91.4%。隨后,將會詳細地描述在PTL1至5中所述的生產方法。在PTL1(實例368等)中所描述的生產方法如以下化學式所述。在PTL2(參考實例1)和PTL4(生產實例1)中的生產方法的反應方案如下。在PTL2(參考實例3)、PTL3(實例4)、PTL4(生產實例3)和PTL5(實例1a)中的生產方法具有如下反應方案。引用清單專利文獻[PTL1]US2004/0053908[PTL2]US2004/0004773[PTL3]US2004/0037849[PTL4]US2004/0078159[PTL5]US2004/0117842專利技術概述技術問題諸位專利技術人已經發現在通過使用PTL1至5所描述的生產方法生產由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽情況下,產物包含由化學式(I)所表示的化合物、由化學式(A-1)所表示的化合物、由化學式(C-1)所表示的化合物、以及類似物作為雜質,并且通過常規純化方法例如層析和結晶難以除去此類雜質。
    技術實現思路
    因此本專利技術的目的是提供伴隨有少量雜質的高純度喹啉衍生物。本專利技術的另一個目的是提供適用于大規模生產的生產方法從而以高產率獲得高純度喹啉衍生物。諸位專利技術人,考慮到以上所述情況的深入研究,已經發現了用于生產上述的喹啉衍生物的新穎方法,從而完成本專利技術。因此,本專利技術提供了以下[1]至[27]:[1]一種由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽,其中由化學式(I)所表示的化合物的含量按質量計為350ppm或更少。[2]一種由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽,其中由化學式(I)所表示的化合物的含量按質量計為183ppm或更少。[3]一種由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽,其中由化學式(A-1)所表示的化合物的含量按質量計為60ppm或更少。[4]一種由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽,其中由化學式(I)所表示的化合物的含量按質量計為350ppm或更少,并且由化學式(A-1)所表示的化合物的含量按質量計為60ppm或更少。[5]一種由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽,其中由化學式(I)所表示的化合物的含量按質量計為183ppm或更少,并且由化學式(A-1)所表示的化合物的含量按質量計為60ppm或更少。[6]一種由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽,其中由化學式(C-1)所表示的化合物的含量按質量計為0.10%或更少。[7]根據[1]至[6]中任一項所述的由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽,其中由該化學式(IV)所表示的化合物的含量按質量計為98.0%或更多。[8]一種組合物,其中由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽的含量按質量計為98.0%或更多,并且由化學式(I)所表示的化合物或其鹽的含量按質量計為350ppm或更少。[9]一種組合物,其中由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽的含量按質量計為98.0%或更多,并且由化學式(I)所表示的化合物或其鹽的含量按質量計為183ppm或更少。[10]一種組合物,其中由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽的含量按質量計為98.0%或更多,并且由化學式(A-1)所表示的化合物或其鹽的含量按質量計為60ppm或更少。[11]一種組合物,其中由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽的含量按質量計為98.0%或更多,由化學式(I)所表示的化合物或其鹽的含量按質量計為350ppm或更少,并且由化學式(A-1)所表示的化合物或其鹽的含量按質量計為60ppm或更少。[12]一種組合物,其中由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽的含量按質量計為98.0%或更多,由化學式(I)所表示的化合物或其鹽的含量按質量計為183ppm或更少,并且由化學式(A-1)所表示的化合物或其鹽的含量按質量計為60ppm或更少。[13]一種組合物,其中由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽的含量按質量計為98.0%或更多,并且由化學式(C-1)所表示的化合物或其鹽的含量按質量計為0.10%或更少。[14]一種藥物,包含根據[1]至[7]中任一項所述的化合物或其鹽作為活性成分。[15]一種藥物,包含根據[8]至[13]中任一項的組合物作為活性成分。[16]一種藥物組合物,使用根據[1]至[7]中任一項所述的化合物或其鹽作為活性成分,其中該藥物組合物進一步包含藥學上可接受的載體。[17]一種藥物組合物,包含根據[8]至[13]中任一項所述的組合物作為活性成分,其中該藥物組合物進一步包含藥學上可接受的載體。[18]一種口服的固體配制物,包含根據[4]所述的化合物或其鹽作為活性成分,其中該口服的固體配制物進一步包含藥學上可接受的載體,并且由化學式(I)所表示的化合物的含量按質量計為0.06%或更少。[19]一種口服的固體配制物,包含根據[8]或[11]所述的組合物作為活性成分,其中該口服的固體配制物進一步包含藥學上可接受的載體,并且由化學式(I)所表示的化合物的含量按質量計為0.06%或更少。[20]一種口服的固體配制物,包含根據[5]所述的化合物或其鹽作為活性成分,其中該口服的固體配制物進一步包含藥學上可接受的載體,并且由化學式(I)所表示的化合物的含量按質量計為0.040%或更少。[21]一種口服的固體配制物,包含根據[9]或[12]所述的組合物作為活性成分,其中該口服的固體配制物進一步包含藥學上可接受的載體,并且由化學式(I)所表示的化合物的含量按質量計為0.040%或更少。[22]一種用于生產由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽的方法,該方法包括:步驟B,允許由化學式(I)所表示的化合物或其鹽與由化學式(II-A)或化學式(II-B)所表示的化合物在堿的存在下進行反應其中R1是C1-6烷本文檔來自技高網
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    【技術保護點】
    一種由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽,其中由化學式(I)所表示的化合物的含量按質量計為350ppm或更少

    【技術特征摘要】
    【國外來華專利技術】2014.08.28 JP 2014-174062;2015.02.25 JP 2015-034721.一種由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽,其中由化學式(I)所表示的化合物的含量按質量計為350ppm或更少2.一種由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽,其中由化學式(I)所表示的化合物的含量按質量計為183ppm或更少3.一種由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽,其中由化學式(A-1)所表示的化合物的含量按質量計為60ppm或更少4.一種由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽,其中由化學式(I)所表示的化合物的含量按質量計為350ppm或更少,并且由化學式(A-1)所表示的化合物的含量按質量計為60ppm或更少5.一種由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽,其中由化學式(I)所表示的化合物的含量按質量計為183ppm或更少,并且由化學式(A-1)所表示的化合物的含量按質量計為60ppm或更少6.一種由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽,其中由化學式(C-1)所表示的化合物的含量按質量計為0.10%或更少7.根據權利要求1至6中任一項所述的由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽,其中該由化學式(IV)所表示的化合物的含量按質量計為98.0%或更多8.一種用于生產由化學式(IV)所表示的化合物或其鹽的方法,該方法包括:步驟B,允許由化學式(I)所表示的化合物或其鹽與由化學式(II-A)或化學式(II-B)所表示的化合物在堿存在下進行反應其中R1是C1-6烷基基團、C2-6烯基基團、C6-10芳基基團、或C7-11芳烷基基團,其中該C1-6烷基基團或該C2-6烯基基團可以含有一至三個可以是相同的或不同的并選自下組的取代基,該組由鹵素原子和甲氧基基團組成,并且其中該C6-10芳基基團或該C7-11芳烷基基團可以含有一至三個可以是相同的或不同的并選自下組的取代基,該組由以下各項組成:鹵素原子、甲基基團、甲氧基基團、和硝基基團;并且X是鹵素原子,從而獲得由化學式(III)所表示的化合物其中R1是與如上所述的相同的基團,以及步驟C,在允許步驟B中所獲得的由化學式(III)所表示的化合物無需分離地與環...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:中村太樹阿部太一宮下祐輔黑田弘文綾田雄輔赤尾淳史
    申請(專利權)人:衛材RD管理有限公司
    類型:發明
    國別省市:日本,JP

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