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    一種化學鍍銅鍍液制造技術

    技術編號:15386108 閱讀:126 留言:0更新日期:2017-05-19 01:04
    本發明專利技術提供一種化學鍍銅鍍液,由以下濃度的原料制成:CuSO

    Chemical copper plating bath

    The invention provides a chemical copper plating bath, which is made from the following raw materials: CuSO;

    【技術實現步驟摘要】
    一種化學鍍銅鍍液
    本專利技術涉及一種化學鍍銅鍍液。
    技術介紹
    化學鍍銅對施鍍表面起到很好的保護和裝飾作用,但目前已知化學鍍銅鍍液對環境和操作者危害極大。急需尋求環保高效、操作簡便、成本低廉的新工藝替代傳統氰化鍍銅。
    技術實現思路
    針對現有技術的不足,本專利技術所要解決的技術問題是,提供一種化學鍍銅鍍液,鍍層結合力佳、亮度更好、毒性小、對環境污染小、工藝操作簡單、生產成本低等優點,是一種替代氰化鍍銅的新工藝。為解決上述技術問題,本專利技術采取的技術方案是,一種化學鍍銅鍍液,由以下濃度的原料制成:CuSO46g/L,CoSO40.6g/L,EDTA9g/L,HEDP1g/L,次磷酸鈉9g/L,硫脲0.004g/L,甲醇或硫代尿素或烷基硫醇或二羥基氮苯1g/L。電鍍條件為pH1~4,溫度40~80℃。本專利技術優化的技術方案是,一種化學鍍銅鍍液,由以下濃度的原料制成:CuSO46g/L,CoSO40.6g/L,EDTA9g/L,HEDP1g/L,次磷酸鈉9g/L,硫脲0.004g/L,甲醇或硫代尿素或烷基硫醇或二羥基氮苯1g/L。電鍍條件為pH1~4,溫度40~80℃。本專利技術優化的技術方案是,一種化學鍍銅鍍液,由以下濃度的原料制成:CuSO46g/L,CoSO40.6g/L,EDTA9g/L,HEDP1g/L,次磷酸鈉9g/L,硫脲0.004g/L,甲醇或硫代尿素或烷基硫醇或二羥基氮苯1g/L。電鍍條件為pH1~4,溫度40~80℃。本專利技術的有益效果是,本專利技術的化學鍍銅鍍液,鍍層結合力佳、亮度更好、毒性小、對環境污染小、工藝操作簡單、生產成本低等優點,是一種替代氰化鍍銅的新工藝。具體實施方式下面結合具體實施例,進一步闡述本專利技術。應理解,這些實施例僅用于說明本專利技術而不用于限制本專利技術的范圍。此外應理解,在閱讀了本專利技術的內容之后,本領域技術人員可以對本專利技術作各種改動或修改,這些等價形式同樣落于本申請所限定的范圍。實施例1,一種化學鍍銅鍍液,由以下濃度的原料制成:CuSO46g/L,CoSO40.6g/L,EDTA9g/L,HEDP1g/L,次磷酸鈉9g/L,硫脲0.004g/L,甲醇或硫代尿素或烷基硫醇或二羥基氮苯1g/L。電鍍條件為pH1~4,溫度40~80℃。實施例2,一種化學鍍銅鍍液,由以下濃度的原料制成:CuSO46g/L,CoSO40.6g/L,EDTA9g/L,HEDP1g/L,次磷酸鈉9g/L,硫脲0.004g/L,甲醇或硫代尿素或烷基硫醇或二羥基氮苯1g/L。電鍍條件為pH1~4,溫度40~80℃。實施例3,一種化學鍍銅鍍液,由以下濃度的原料制成:CuSO46g/L,CoSO40.6g/L,EDTA9g/L,HEDP1g/L,次磷酸鈉9g/L,硫脲0.004g/L,甲醇或硫代尿素或烷基硫醇或二羥基氮苯1g/L。電鍍條件為pH1~4,溫度40~80℃。雖然本專利技術已以較佳實施例披露如上,然其并非用以限定本專利技術,任何所屬
    的技術人員,在不脫離本專利技術的精神和范圍所做的更動與改進,都將落入本專利技術的保護范圍。本文檔來自技高網
    ...

    【技術保護點】
    一種化學鍍銅鍍液,其特征在于:由以下濃度的原料制成:CuSO

    【技術特征摘要】
    1.一種化學鍍銅鍍液,其特征在于:由以下濃度的原料制成:CuSO46g/L,CoSO40.6g/L,EDTA9g/L,HEDP1g/L,次磷酸鈉9g/L,硫脲0.004g/L,甲醇或硫代尿素或烷基硫醇或二羥基氮苯1g/L。2.根據權利要求1所述的化學鍍銅鍍液劑,其特征在于:由以下濃度的原料制成:CuSO46g/L,CoSO40.6g/L,EDTA9g/L,HEDP1g/L,次磷酸鈉9g/L,硫脲0.004g/L,甲醇或硫代尿素或烷基硫醇或二羥基氮苯1g/L。3.根據...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:宋振興謝玉娟
    申請(專利權)人:天津瑞賽可新材料科技有限公司
    類型:發明
    國別省市:天津,12

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