The present disclosure relates to an overvoltage protection device and a current isolator that is combined with an overvoltage protection device. If components are exposed to excessive voltage, components may be damaged. A device is disclosed that can be placed in series with components and nodes that can be exposed to high voltage. If the voltage becomes too high, the device can automatically switch to a relatively high impedance state, thereby protecting other components.
【技術實現步驟摘要】
過電壓保護設備和與過電壓保護設備組合的流電隔離器
本公開涉及基于半導體的過電壓保護設備,以及涉及可以用于數據傳輸方案中的電隔離器,其可以與這種過電壓保護設備相關聯。本專利技術還涉及包括基于半導體的過電壓保護設備的集成電路。
技術介紹
已存在許多電子領域,其中期望將信號(模擬或數字信號)從一個電壓域傳播到另一個電壓域。這樣的系統的示例包括功率監視或電動機控制,其中第一電壓域中的電壓可以參考第一參考電壓而高達1200伏或更高,而控制電子設備可能需要與其他系統接口,并且通常在電壓域僅為視圖伏特,例如5伏特,參考第二參考電壓,通常為地。這種布置在圖1中示出,其中第一電壓域(VDOM1)中的電壓在電壓V1和電壓VREF1之間延伸,并且其中第二電壓域(VDOM2)中的電壓在電壓V2和VREF2之間延伸。這些第一和第二電壓域之間的信號傳輸通常通過隔離器10進行。隔離器10可以在兩個電壓域之間提供電流隔離。隔離器可以包括光電耦合器,但是其他技術也是可能的,例如如圖2所示的電容器12或如圖3所示的變壓器14。通常,基于電容和變壓器的隔離可是優選的,提供在芯片級封裝(例如,集成電路形式)中。例如,電容和變壓器隔離可以提供在單片集成中或作為芯片尺寸封裝(集成電路封裝)內的兩個或更多個管芯。這種隔離器可以暴露于第一和第二電壓域VDOM1和VDOM2之間的全部電壓差。在一些情況下,這些電壓域可能經受瞬態過電壓,使得隔離器必須在其最大電壓方面顯著超過指定,可在其傳輸數據的能力上受到損害,否則可能存在設備損壞的風險。此外,在基于變壓器的隔離器的情況下,還希望避免作用在線圈內的電壓變得太 ...
【技術保護點】
一種用于過電壓保護和電流隔離的保護電路,所述保護電路包括:場效應晶體管,其包括耦合到第一電壓域中的高電壓節點的漏極,所述場效應晶體管布置成夾斷所述場效應晶體管的溝道并且抑制在夾斷電壓下通過所述溝道的電流,其中夾斷電壓小于高電壓節點處的電壓;和耦合在所述場效應晶體管的源極和第二電壓域中的低電壓節點之間的電流隔離器,所述低電壓節點與比所述高電壓節點低的電壓相關聯。
【技術特征摘要】
2015.11.10 US 14/937,7711.一種用于過電壓保護和電流隔離的保護電路,所述保護電路包括:場效應晶體管,其包括耦合到第一電壓域中的高電壓節點的漏極,所述場效應晶體管布置成夾斷所述場效應晶體管的溝道并且抑制在夾斷電壓下通過所述溝道的電流,其中夾斷電壓小于高電壓節點處的電壓;和耦合在所述場效應晶體管的源極和第二電壓域中的低電壓節點之間的電流隔離器,所述低電壓節點與比所述高電壓節點低的電壓相關聯。2.根據權利要求1所述的保護電路,其中,所述場效應晶體管是垂直結型場效應晶體管。3.根據權利要求1所述的保護電路,其中,所述場效應晶體管是包括與所述溝道相反導電類型的掩埋摻雜區的垂直晶體管,所述摻雜區布置成限制所述溝道的空間范圍。4.根據權利要求3所述的保護電路,進一步包括在絕緣壁之間的導電材料,所述導電材料被配置為在柵電極和所述掩埋摻雜區域之一之間提供電路徑。5.根據權利要求1所述的保護電路,進一步包括雙極晶體管,其包括耦合到所述場效應晶體管的源極的集電極。6.根據權利要求1所述的保護電路,其中,所述電流隔離包括磁耦合隔離器或電容耦合隔離器中的一個。7.一種保護設備,其被布置為當所述第一節點和控制節點之間的電位差超過預定值時禁止在第一節點和第二節點之間的電流流動,所述保護設備包括垂直形成的場效應晶體管,以在所述第一和第二節點之間的電流流動連通中形成第一類型的半導體材料,以及限制性結構,其被設置為限制所述第一類型半導體的傳導溝道的空間范圍,其中所述限制性結構連接到所述控制節點并且所述限制性結構包括遠離所述保護設備的表面定位的第二類型的半導體材料。8.根據權利要求7所述的保護設備,其中,所述限制結構與所述第一類型的半導體相互作用以形成結型場效應晶體管。9.根據權利要求7所述的保護設備,其中,所述限制結構包括形成第一和第二掩埋柵極區域的第二類...
【專利技術屬性】
技術研發人員:E·J·考尼,
申請(專利權)人:亞德諾半導體集團,
類型:發明
國別省市:百慕大群島,BM
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