一種高折射率真空燒結材料的制備系統技術方案

一種高折射率真空燒結材料的制備系統，包括二氧化鋯?五氧化二鉭特定配比混合裝置、二氧化鋯?五氧化二鉭篩選裝置、研磨裝置、壓制成型裝置、高溫燒結裝置及真空燒結裝置；二氧化鋯?五氧化二鉭篩選裝置包括200目篩網和混料機；所述壓制成型裝置為20t壓片機；所述高溫燒結裝置為1300℃硅碳棒高溫大氣燒結爐，所述高溫燒結裝置內有高溫燒結模具；所述真空燒結裝置為真空爐，所述真空燒結裝置內有真空燒結模具；其特征在于：所述研磨裝置包括球磨罐，5目篩網和氧化鋯球；所述高溫燒結模具和所述真空燒結模具的擺放按照疊加的方式擺放。

【技術實現步驟摘要】
一種高折射率真空燒結材料的制備系統
本技術涉及一種鍍膜材料的制備系統，具體涉及一種高折射率真空燒結材料的制備系統，屬于冶金

技術介紹
隨著照相技術的提升和電子產品的普及，攝像機、數碼相機、手機、安防攝像機成為人們生活的必需品。而這些必須品都必須用到攝像鏡頭，而這些鏡頭不可避免的會應用到高、低折射率鍍膜材料的鍍膜技術。在現有鍍膜材料制備過程中，研磨一般采用微型混料機，僅僅只能讓混合物顆粒更均勻，但是不能讓混合物顆粒晶粒更細化，也不能去除混合物中內部團聚結構。另外，在高溫燒結和真空燒結中，經常出現因為內部不均勻受熱，導致折射率不穩定的問題。
技術實現思路
為了解決上述技術問題，本技術提供一種高折射率真空燒結材料的制備方法，在現有技術的基礎上，通過氧化鋯球的研磨，解決了讓混合物顆粒晶粒更細化，也能去除混合物中內部團聚結構，不影響混合物在燒結工藝中的結合。同時，通過燒結模具的擺放，解決了內部不均勻受熱的問題，成品折射率的問題得到極大的提高。通過本技術公開的一種高折射率真空燒結材料的制備方法，可提供特定的折射率為1.95-2.10的真空燒結材料。本技術的技術方案如下：一種高折射率真空燒結材料的制備系統，包括二氧化鋯-五氧化二鉭特定配比混合裝置、二氧化鋯-五氧化二鉭篩選裝置、研磨裝置、壓制成型裝置、高溫燒結裝置及真空燒結裝置；二氧化鋯-五氧化二鉭篩選裝置包括200目篩網和混料機；所述壓制成型裝置為20t壓片機；所述高溫燒結裝置為1300℃硅碳棒高溫大氣燒結爐，所述高溫燒結裝置內有高溫燒結模具,所述高溫燒結模具優先剛玉板；所述真空燒結裝置為真空爐，所述真空燒結裝置內有真空燒結模具，所述真空燒結模具優先高強石墨板，其特征在于：所述研磨裝置包括球磨罐，5目篩網和氧化鋯球；所述高溫燒結模具和所述真空燒結模具的擺放按照疊加的方式擺放。其具體工藝步驟為：步驟一、二氧化鋯粉末：純度99.95以上，D50=0.5-3μm，正態分布；五氧化二鉭粉末：純度99.99%以上，D50=3-8μm，正態分布。步驟二、將二氧化鋯：五氧化二鉭按照質量比為85：15%-95：5%混合，人工攪拌后，通過200目篩網混合過篩5次，并通過混料機混料8小時。步驟三、將過篩后的粉末按1：0.1-1的質量比加入8%的聚乙烯醇水溶液，其混合后重量稱為材料重量。步驟四、在步驟三制成的混合物中加入等質量的氧化鋯球，氧化鋯球的質量比為（25mm球：18mm球：12mm球=1:1:1），加入到球磨罐中，研磨6-12小時，形成混合物顆粒晶粒更細化。步驟五、用5mm篩網過篩出氧化鋯球，得到具有一定粘合力的固液混合物。步驟六、將固液混合物通過20t壓片機壓制成片狀材料，成型壓力1-2Mpa，可使固液混合物壓成片狀規格材料，成型后，材料密度需控制在在3.5-3.7g/cm3。步驟七、將步驟六壓制成的片狀材料通過1300℃硅碳棒高溫大氣燒結爐，高溫燒結裝置內有高溫燒結模具,高溫燒結模具優先剛玉板，將步驟六壓制成的片狀材料依次平放在高溫燒結模具中，保證在高溫燒結過程中能夠均勻受熱，高溫燒結模具擺放方式按照疊加的方式擺放。燒結溫度曲線如下：0-850℃，升溫速率1-3℃/min；850-1000℃，升溫速率1-2℃/min；1000℃，保溫120min；自然降溫100℃以下出爐。出爐后得到白色片狀的燒結態鋯鉭半成品。步驟八、將步驟七制成的白色片狀的燒結態鋯鉭半成品通過真空燒結裝置，真空燒結裝置內有真空燒結模具,真空燒結模具優先高強石墨板，將步驟七制成的白色片狀的燒結態鋯鉭半成品依次平放在真空燒結模具中，保證在真空燒結過程中能夠均勻受熱，真空燒結模具擺放方式按照疊加的方式擺放。真空燒結溫度曲線如下：真空度：1×10-1pa以下；1450-1550℃，升溫速率2-15℃/min；1450-1550℃，保溫2-5h；自然降溫100℃以下出爐。出爐后得到灰黑色片狀、密度為5.0-5.6g/cm3、折射率為1.95-2.10鋯鉭鍍膜材料。本技術具有如下有益效果：通過氧化鋯球的研磨，解決了讓混合物顆粒晶粒更細化的問題，也能去除混合物中內部團聚結構，不影響混合物在燒結工藝中的結合。同時，通過燒結模具的擺放，解決了內部不均勻受熱的問題，成品折射率的問題得到極大的提高。附圖說明圖1為本技術一種高折射率真空燒結材料的制備方法的流程圖；圖2為高溫燒結模具或真空燒結模具擺放方式。圖中附圖標記表示為：1-二氧化鋯-五氧化二鉭特定配比混合裝置、2-二氧化鋯-五氧化二鉭篩選裝置、21-200目篩網、22-混料機、3-研磨裝置、31-球磨罐、32-5目篩網、33-氧化鋯球、4-壓制成型裝置、41-20t壓片機、5-高溫燒結裝置、51-1300℃硅碳棒高溫大氣燒結爐、52-高溫燒結模具、6-真空燒結裝置、61-真空爐、62-真空燒結模具。具體實施方式下面結合附圖和具體實施例來對本技術進行詳細的說明。參見圖1，一種高折射率真空燒結材料的制備系統，包括二氧化鋯-五氧化二鉭特定配比混合裝置1、二氧化鋯-五氧化二鉭篩選裝置2、研磨裝置3、壓制成型裝置4、高溫燒結裝置5及真空燒結裝置6；二氧化鋯-五氧化二鉭篩選裝置2包括200目篩網21和混料機22；所述壓制成型裝置4為20t壓片機41；所述高溫燒結裝置5為1300℃硅碳棒高溫大氣燒結爐51，所述高溫燒結裝置5內有高溫燒結模具52,所述高溫燒結模具52優先剛玉板；所述真空燒結裝置6為真空爐61，所述真空燒結裝置6內有真空燒結模具62,所述真空燒結模具62優先高強石墨板，所述研磨裝置3包括球磨罐31，5目篩網32和氧化鋯球33；所述高溫燒結模具52和所述真空燒結模具62的擺放按照疊加的方式擺放。以上所述僅為本技術的實施例，并非因此限制本技術的專利范圍，凡是利用本技術說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的
，均同理包括在本技術的專利保護范圍內。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種高折射率真空燒結材料的制備系統，包括二氧化鋯?五氧化二鉭特定配比混合裝置（1）、二氧化鋯?五氧化二鉭篩選裝置（2）、研磨裝置（3）、壓制成型裝置（4）、高溫燒結裝置（5）及真空燒結裝置（6）；二氧化鋯?五氧化二鉭篩選裝置（2）包括200目篩網（21）和混料機（22）；所述壓制成型裝置（4）為20t壓片機（41）；所述高溫燒結裝置（5）為1300℃硅碳棒高溫大氣燒結爐（51），所述高溫燒結裝置（5）內有高溫燒結模具（52）；所述真空燒結裝置（6）為真空爐（61），所述真空燒結裝置（6）內有真空燒結模具（62）；其特征在于：所述研磨裝置（3）包括球磨罐（31），5目篩網（32）和氧化鋯球（33）；所述高溫燒結模具（52）和所述真空燒結模具（62）的擺放按照疊加的方式擺放。

【技術特征摘要】
1.一種高折射率真空燒結材料的制備系統，包括二氧化鋯-五氧化二鉭特定配比混合裝置（1）、二氧化鋯-五氧化二鉭篩選裝置（2）、研磨裝置（3）、壓制成型裝置（4）、高溫燒結裝置（5）及真空燒結裝置（6）；二氧化鋯-五氧化二鉭篩選裝置（2）包括200目篩網（21）和混料機（22）；所述壓制成型裝置（4）為20t壓片機（41）；所述高溫燒結裝置（5）為1300℃硅碳棒高溫大氣燒結爐（51），所述高溫燒結裝置（5）內有高溫燒結模具（52）；所述真空燒結裝置...

【專利技術屬性】
技術研發人員：陳欽忠，張瑜，
申請(專利權)人：福建阿石創新材料股份有限公司，
類型：新型
國別省市：福建,35