The subject of the present invention is to provide an active energy ray curable composition with a good antistatic, scratch resistance and transparency, and an antistatic film using the composition. Active energy ray curable composition of the invention contains the following formula (I) said the photopolymerization initiator A, antistatic polymer B and containing ethylenically unsaturated groups polymerizable compound C active energy ray curable composition. Among them, type (I), V
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國(guó)外來華專利技術(shù)】活性能量射線固化性組合物及防靜電薄膜
本專利技術(shù)涉及一種活性能量射線固化性組合物及防靜電薄膜。
技術(shù)介紹
通常,樹脂材料的電絕緣性優(yōu)異,因此在絕緣體等需要電絕緣性的用途中極其有用,但相反地易在表面攜帶靜電,易產(chǎn)生粉塵的吸附及靜電引起的故障。已知為了解決這種問題,使用各種防靜電劑(尤其,陽離子型防靜電劑)。例如,專利文獻(xiàn)1中,記載有“一種防靜電用涂料組合物,其特征在于,包含:分子中具有季銨鹽基的防靜電性共聚物(A);具有3個(gè)以上的烯屬不飽和基團(tuán)的化合物(B);包含對(duì)于水的溶解性為0.2g/L以下的光聚合引發(fā)劑(c-1)及對(duì)于水的溶解性為1g/L以上的光聚合引發(fā)劑(c-2)的光聚合引發(fā)劑(C);以及包含醇類溶劑(d-1)的溶劑(D)。”([權(quán)利要求1]),并且,作為光聚合引發(fā)劑(C),記載有“選自包含1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基-1-丙酮、雙(2,4,6-三甲基苯甲?;?苯基氧化膦、2-羥基-1-{4-[4-(2-羥基-2-甲基-丙酰基)-芐基]-苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮、2,4,6‐三甲基苯甲?;?二苯基-氧化膦、寡{2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙酮}、寡{2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙酮}及2,4,6-三甲基二苯甲酮的組中的至少一種”([權(quán)利要求4])。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1:日本特開2011-225797號(hào)公報(bào)
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
專利技術(shù)要解決的技術(shù)課題本專利技術(shù)人等對(duì)專利文獻(xiàn)1中記載的防靜電用涂料組合物進(jìn)行了研究,其結(jié)果得知根據(jù)所使用的共聚物及光聚 ...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種活性能量射線固化性組合物,其含有以下述式(I)表示的光聚合引發(fā)劑A、防靜電性聚合物B、及含有烯屬不飽和基團(tuán)的聚合性化合物C,[化學(xué)式1]
【技術(shù)特征摘要】
【國(guó)外來華專利技術(shù)】2014.09.29 JP 2014-1990831.一種活性能量射線固化性組合物,其含有以下述式(I)表示的光聚合引發(fā)劑A、防靜電性聚合物B、及含有烯屬不飽和基團(tuán)的聚合性化合物C,[化學(xué)式1]其中,式(I)中,V1、V2、V3及V4分別獨(dú)立地表示氫原子或取代基,n表示1~5的整數(shù)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的活性能量射線固化性組合物,,其中,所述防靜電性聚合物B為具有選自由以下述式(1)~(5)表示的重復(fù)單元構(gòu)成的組中的至少1個(gè)重復(fù)單元的聚合物,[化學(xué)式2]其中,式(1)~式(5)中,R1分別獨(dú)立地表示氫原子、鹵素原子、氰基、1價(jià)的烴基、-COO-C2、或經(jīng)由烴的-COO-C2,C2表示氫原子或可具有取代基的烴基;式(1)~式(5)中,Z分別獨(dú)立地表示-COO-、-CONH-、-OCO-、-CH2OCO-、-CH2COO-、-O-、-SO2-、-CO-、-CONHCOO-、-CONHCONH-、-CONHSO2-、-CON(P3)-、-SO2N(G)-、-C6H4-、或碳原子數(shù)為1~30的亞烷基,G表示氫原子或烴基;式(1)~式(5)中,A分別獨(dú)立地表示單鍵或2價(jià)以上的連接基團(tuán),j分別獨(dú)立地表示0~30的整數(shù);式(1)中,Y+表示陽離子性基團(tuán),X-表示陰離子性基團(tuán),u表示1~3的整數(shù),r表示1~4的整數(shù);式(2)中,R2表示可具有取代基的碳原子數(shù)為2~5的亞烷基,R3表示氫原子或可具有取代基的碳原子數(shù)為1~5的烷基,m表示2~200的整數(shù);式(3)中,Q+表示銨陽離子、锍陽離子、碘鎓陽離子、鏻陽離子或吡啶鎓陽離子,L1表示單鍵或2價(jià)以上的連接基團(tuán),T-表示COO-、SO3-或OPO(O-)(ORp),Rp表示烷基;p表示1~3的整數(shù);式(4)中,L2表示單鍵或2價(jià)以上的連接基團(tuán),U+表示可具有取代基的銨陽離子或鏻陽離子,q表示1~3的整數(shù);式(5)中,J-表示COO-、OPO(OH)O-或SO3-,V+表示陽離子性基團(tuán),w表示1~3的整數(shù)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的活性能量射線固化性組合物,,其中,所述防靜電性聚合物B為具有以所述式(1)表示的重復(fù)單元的陽離子性聚合物。4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的活性能量射線固化性組合物,其中,以所述式(1)表示的重復(fù)單元為以下述式(6)表示的銨鹽,[化學(xué)式3]其中,式(6)中,R1表示氫原子、鹵素原子、氰基、1價(jià)的烴基、-COO-C2、或經(jīng)由烴的-COO-C2,C2表示氫原子或可具有取代基的烴基;并且,Z表示-COO-、-CONH-或-CH2-,A表示單鍵或2價(jià)以上的連接基團(tuán),j表示0~10的整數(shù);并且,L3、L4及L5分別獨(dú)立地表示可具有取代基的碳原子數(shù)為1~20的烷基、烯基、炔基、芳基或雜環(huán)基,L3、L4及L5中的至少兩個(gè)可相互鍵合而形成環(huán)。5.根據(jù)權(quán)利要求2至4中任一項(xiàng)所述的活性能量射線固化性組合物,其中,所述防靜電性...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:山下真佐子,
申請(qǐng)(專利權(quán))人:富士膠片株式會(huì)社,
類型:發(fā)明
國(guó)別省市:日本,JP
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