一種綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃及其制備方法技術

本發(fā)明專利技術公開了一種綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃及其制備方法，包括第一玻璃基板，其技術方案要點是：所述第一玻璃基板上依次設有ITO層、Nb

Low radiation coated glass with green tone and preparation method thereof

The invention discloses a low radiation coating glass with a green tone and a preparation method thereof, comprising a first glass substrate, wherein the technical proposal is that the first glass substrate is sequentially provided with a ITO layer and a Nb

【技術實現(xiàn)步驟摘要】
一種綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃及其制備方法
本專利技術涉及一種鍍膜玻璃，具體涉及一種綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃及其制備方法。
技術介紹
鍍膜玻璃具有節(jié)能減排及裝飾幕墻的雙重功效，推出市場后，深受人們喜愛，目前市場上的綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃，多用綠玻基片鍍膜，用綠色基片鍍膜，一方面成本高，另一方面綠色玻璃本身會吸熱，不利于節(jié)能降溫。
技術實現(xiàn)思路
本專利技術的一種綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃，傳熱系數(shù)低，遮陽效果好，有效阻止熱能透過玻璃進入室內(nèi)，降低了生產(chǎn)成本。本專利技術另一目的是提供一種綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃的制備方法。本專利技術是通過以下技術方案實現(xiàn)的：一種綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃，包括第一玻璃基板，所述第一玻璃基板上依次設有ITO層、Nb2O5層、第一AZO層、Ag層、第二AZO層、TIOx層和Si3N4層。優(yōu)選的，所述ITO層為磁控濺射氧化銦錫靶(In2O3：SnO2＝90：10(wt％))，交流電源濺射，用Ar氣作為濺射氣體，氣體流量800SCCM，膜厚120～135nm，方阻<15歐。優(yōu)選的，所述Nb2O5層為磁控濺射鈮靶，交流電源反應濺射，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量400SCCM:800SCCM，膜厚20～50nm。優(yōu)選的，所述第一AZO層和第二AZO層，均為磁控濺射摻鋁氧化鋅靶(ZnO:Al＝92:8(wt％))，交流電源反應濺射，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量1000SCCM:40SCCM，膜厚300～500nm。優(yōu)選的，所述Ag層，磁控濺射Ag層，直流電源濺射，用Ar氣作為濺射氣體，氣體流量500～550SCCM，膜厚3～5nm。優(yōu)選的，所述TIOx層，磁控濺射氧化鈦靶，交流電源濺射，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量1000SCCM:40SCCM，膜厚20-35nm。優(yōu)選的，所述Si3N4層，磁控濺射硅鋁靶(Si:Al＝92:8(wt％))，交流電源濺射，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量400SCCM:600SCCM，膜厚50～85nm。優(yōu)選的，所述第一玻璃基板為厚度為4-8mm的浮法玻璃。一種制備綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃的方法，包括以下步驟：A:選擇4～8mm玻璃基片，按預定尺寸用切割機進行切割，用清洗機對玻璃基片進行清洗；B：將玻璃基片送入鍍膜室磁控濺射ITO層，用交流電源、Ar氣作為保護氣體，磁控濺射氧化銦錫靶(In2O3：SnO2＝90：10(wt％))，用Ar氣流量800SCCM，在玻璃基片上濺射120～135nm的ITO層；C：繼續(xù)磁控濺射Nb2O5層，用交流電源，Ar氣、O2作為保護氣體，磁控濺射鈮靶，用Ar和O2氣體流量400SCCM:800SCCM，濺射20～50nm的Nb2O5層；D：繼續(xù)磁控濺射第一AZO層，用交流電源，Ar氣、O2作為保護氣體，磁控濺射鋁氧化鋅靶(ZnO:Al＝92:8(wt％))，用Ar和O2氣體流量1000SCCM:40SCCM，濺射300～500nm的第一AZO層；E：繼續(xù)磁控濺射Ag層，用直流電源，Ar氣作為保護氣體，磁控濺射，用Ar氣體流量500～550SCCM，濺射3～5nm的Ag層；F:繼續(xù)磁控濺射第二AZO層，用交流電源，Ar氣、O2作為保護氣體，磁控濺射鋁氧化鋅靶(ZnO:Al＝92:8(wt％))，用Ar和O2氣體流量1000SCCM:40SCCM，濺射300～500nm的第二AZO層；G：繼續(xù)磁控濺射TIOx層，用交流電源，Ar氣、O2作為保護氣體，磁控濺射氧化鈦靶，用Ar和O2氣體流量1000SCCM:40SCCM，濺射20～35nm的TIOx層；H：繼續(xù)磁控濺射Si3N4層，用交流電源，Ar氣、O2作為保護氣體，磁控濺射硅鋁靶(Si:Al＝92:8(wt％))，用Ar和O2氣體流量400SCCM:600SCCM，濺射50～85nm的Si3N4層。與現(xiàn)有技術相比，本專利技術具有如下優(yōu)點：1、本專利技術的一種綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃，輻射率可至0.08，a*＝-8～-9，b*＝+3～+1，為一種翡翠綠色鍍膜玻璃，克服了現(xiàn)有綠色低輻射鍍膜玻璃通常采用大量綠色本體著色浮法玻璃基片，生產(chǎn)成本昂貴，生產(chǎn)效率低的缺陷，生產(chǎn)成本低廉，利于低輻射玻璃的推廣使用；2、本專利技術的綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃制備方法，功能膜層依次沉積在玻璃基片上，膜層具有耐候性和耐腐蝕性能優(yōu)秀、輻射率低、表面電阻小、均勻性好、結合力強的優(yōu)點。【附圖說明】圖1是本專利技術結構示意圖。【具體實施方式】如附圖1所示的一種高紅外反射鍍膜玻璃，包括玻璃基片1，所述玻璃基片1上依次設有ITO層2、Nb2O5層3、第一AZO層4、Ag層5、第二AZO層6、TIOx層7和Si3N4層8。本專利技術的玻璃由一塊玻璃基片及多層鍍層復合而成，呈現(xiàn)一種翡翠綠色鍍膜玻璃，輻射率可至0.08，a*＝-8～-9，b*＝+3～+1，每邊的玻璃基板均由多個膜層構成，成本低廉，有效隔絕熱源透過玻璃進入室內(nèi)，實現(xiàn)節(jié)能的效果。所述ITO層2膜厚120～135nm，方阻<15歐，為磁控濺射氧化銦錫靶In2O3：SnO2＝90：10(wt％)，交流電源濺射，用Ar氣作為濺射氣體，氣體流量800SCCM。所述Nb2O5層3膜厚20～50nm，為磁控濺射鈮靶，交流電源反應濺射，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量400SCCM:800SCCM。用以提高膜層折射率，提高透過率。所述第一AZO層4和第二AZO層6，均為膜厚300～500nm，磁控濺射摻鋁氧化鋅靶ZnO:Al＝92:8(wt％)，交流電源反應濺射，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量1000SCCM:40SCCM。用以降低紅外的透過率。所述Ag層5膜厚3～5nm，磁控濺射Ag層，直流電源濺射，用Ar氣作為濺射氣體，氣體流量500～550SCCM。作為功能層，有效反射紅外線。所述TIOx層7膜厚20～35nm，磁控濺射氧化鈦靶，交流電源濺射，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量1000SCCM:40SCCM。使外層具有高折射率，從而實現(xiàn)高的透過率，并且使膜層具有耐磨、耐腐蝕。所述Si3N4層8，磁控濺射硅鋁靶Si:Al＝92:8(wt％)，交流電源濺射，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量400SCCM:600SCCM，膜厚50～85nm。該層使鍍膜層具有較高的機械性能。所述玻璃基片1為厚度為4～8mm的浮法玻璃。結合實施例具體說明本專利技術的一種制備綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃的方法：實施例1-4一種制備綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃的方法，包括以下步驟：A：選擇玻璃基片，按預定尺寸用切割機進行切割，用清洗機對玻璃基片進行清洗；B：將玻璃基片送入鍍膜室磁控濺射各鍍層，具體參數(shù)如表1：表1：上述實施例所得的綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃，按照GB/T18915.2-2002《鍍膜玻璃第2部分：低輻射鍍膜玻璃》標準對實施例1-4制得的玻璃進行光學性能的測定，測試結果如表2所示：表2：實施例1實施例2實施例3實施例4可見光透過率(％)65687070玻璃面反射亮度L*值73706972玻璃面反射顏色a*值-8.02-7.8-8.5-9.0玻璃面反射顏色b*值+3+2.5+2+1輻射率％0.070.080.090.1功能膜層依次沉積在玻璃基片上，膜層具有耐本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術保護點】
一種綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：包括玻璃基片(1)，所述玻璃基片(1)上依次設有ITO層(2)、Nb

【技術特征摘要】
1.一種綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：包括玻璃基片(1)，所述玻璃基片(1)上依次設有ITO層(2)、Nb2O5層(3)、第一AZO層(4)、Ag層(5)、第二AZO層(6)、TIOx層(7)和Si3N4層(8)。2.根據(jù)權利要求1所述的一種綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述ITO層(2)膜厚120～135nm，方阻<15歐。3.根據(jù)權利要求1所述的一種綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述Nb2O5層(3)膜厚20～50nm。4.根據(jù)權利要求1所述的一種綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述第一AZO層(4)和第二AZO層(6)膜厚均為300～500nm。5.根據(jù)權利要求1所述的一種綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述Ag層(5)膜厚3～5nm。6.根據(jù)權利要求1所述的一種綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述TIOx層(7)膜厚20～35nm。7.根據(jù)權利要求1所述的一種綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述Si3N4層(8)膜厚50～85nm。8.根據(jù)權利要求1所述的一種綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基片(1)為厚度為4～8mm的浮法玻璃。9.一種制備綠色基調(diào)的低輻射鍍膜玻璃的方法，其特征在于包括以下步驟：A：選擇4～8mm玻璃基片，按預定尺寸用切割機進行切割，用清洗機對玻璃基片進行清洗；B：將玻璃基片送入鍍膜室磁控濺射ITO層，用交流電源、Ar氣作為保護...

【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：林改，魏佳坤，林偉珊，王宏志，張青紅，
申請(專利權)人：揭陽市宏光鍍膜玻璃有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：廣東,44