The invention provides a photosensitive resin composition comprising a Photobase generator (A) and (B) an alkali soluble epoxy compound, wherein the (A) Photobase contained by the formula (2 1) compounds represented by the alkali soluble epoxide (B) is: (a) with epoxy compound and at least 2 more than 1 epoxy molecules (b) reaction, a compound having at least 1 or more hydroxyl groups and carboxyl groups in the molecule of 1 and 1 (c) and multiple anhydride epoxy compounds obtained.
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】感光性樹脂組合物及其固化物
本專利技術涉及感光性樹脂組合物,該感光性樹脂組合物包含通過照射活化能量線而產生堿的光產堿劑。
技術介紹
以往,通過照射光、紅外線、電子束或X射線等活性能量線而發生化學結構變化的感光性樹脂組合物被用于各種用途。作為像這樣的感光性樹脂組合物,例如已知配合了通過照射活性能量線而產生強酸的光產酸劑的化學放大型抗蝕劑。該化學放大型抗蝕劑中,通過照射活性能量線而產生的強酸作為催化劑作用于樹脂成分,使相對于顯像液的溶解性發生變化,由此進行圖案形成。以往,為了高靈敏度化、高分辨率化的目的開發了各種抗蝕劑材料,但是,光產酸劑與樹脂的組合受限,要求開發出新的化學放大型抗蝕劑。通過照射活性能量線而使單體、預聚物光固化的技術大致分為自由基系、陽離子系及陰離子系3種。這些技術中成為最廣泛開發對象的是對光自由基引發劑照射光而使乙烯基單體聚合的技術。另外,還研究了因光的作用而產生酸并以該酸為催化劑進行陽離子聚合的技術。但是,像這樣的自由基聚合系的情況下,因空氣中的氧而妨礙聚合反應,所以需要在阻斷氧的方面特別下工夫。另外,陽離子聚合系的情況下,雖然從沒有氧帶來的妨礙方面考慮非常有利,但是,指出有可能存在:由固化后還殘留的光產酸劑產生的強酸的腐蝕性或樹脂改性。因此,強烈希望開發出一種不包含像強酸這樣的腐蝕性物質、且不被空氣中的氧妨礙、以高效率迅速地進行反應的感光性樹脂組合物。從像這樣的狀況考慮,提出了包含將通過光的作用而產生的堿用于聚合反應、化學反應的陰離子系光產堿劑的感光性樹脂組合物。但是,與自由基系光聚合引發劑、陽離子系光產酸劑相比,陰離子系光產堿劑可以舉出 ...
【技術保護點】
一種感光性樹脂組合物,其包含(A)光產堿劑和(B)堿可溶性環氧化合物,其中,所述(A)光產堿劑包含由下式(2?1)表示的化合物,所述(B)堿可溶性環氧化合物是:使(a)1分子中具有至少2個以上環氧基的環氧化合物和(b)1分子中具有至少1個以上羥基及1個羧基的化合物的反應物、與(c)多元酸酐反應而得到的環氧化合物,[化學式1]
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2014.10.01 JP 2014-2029471.一種感光性樹脂組合物,其包含(A)光產堿劑和(B)堿可溶性環氧化合物,其中,所述(A)光產堿劑包含由下式(2-1)表示的化合物,所述(B)堿可溶性環氧化合物是:使(a)1分子中具有至少2個以上環氧基的環氧化合物和(b)1分子中具有至少1個以上羥基及1個羧基的化合物的反應物、與(c)多元酸酐反應而得到的環氧化合物,[化學式1]式(2-1)中,n表示0~4的整數,R1表示從由碳原子數1~18的烷基、碳原子數2~18的烯基、碳原子數2~18的炔基、碳原子數6~12的芳基、碳原子數1~18的酰基、碳原子數7~18的芳酰基、硝基、氰基、碳原子數1~18的烷氧基、碳原子數1~18的烷硫基、羥基及鹵素原子構成的組中選擇的至少1種取代基,R2表示氫原子、碳原子數1~18的烷基、碳原子數2~18的炔基、碳原子數6~12的芳基、碳原子數1~18的酰基、碳原子數7~18的芳酰基、硝基、氰基、碳原子數1~18的烷氧基、碳原子數1~18的烷硫基、羥基或鹵素原子,X表示氨基。2.根據權利要求1所述的感光性樹脂組合物,其中,式(2-1)中的X為由下式(3-1)表示的基團,[化學式2]式(3-1)中,R3及R4分別獨立地表示氫原子、碳原子數1~12的烷基、碳原子數5~10的環烷基、碳原子數6~14的芳基或碳原子數7~15的芳基烷基,或者R3及R4彼此鍵合而形成構成原...
【專利技術屬性】
技術研發人員:有光晃二,寺田究,
申請(專利權)人:學校法人東京理科大學,日本化藥株式會社,
類型:發明
國別省市:日本,JP
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