The present invention provides a method for manufacturing a semiconductor device, the semiconductor device manufacturing method includes: preparation, preparation of semiconductor wafer with a circuit forming the main surface; attaching process, the semiconductor wafer is adhered to the adhesive layer; the first step segmentation, segmentation of the semiconductor chip state along the cutting area of the attached to the adhesive layer the obtained a plurality of semiconductor chips; sealing process, the main surface of a semiconductor chip is attached to the adhesive layer under the condition of a plurality of semiconductor chips with sealing material layer, containing resin composition for sealing semiconductor sealing is formed on the side of the back of the gap between the semiconductor chip and semiconductor chip on the second; and through the segmentation process, the sealing material layer is formed in the gap between the side surface of the semiconductor chip segmentation, and get on the side And a plurality of semiconductor chips formed with a sealing material layer on the back surface.
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】半導體裝置的制造方法和半導體裝置
本專利技術涉及一種半導體裝置的制造方法和半導體裝置。
技術介紹
在目前的半導體裝置的制造工藝中,利用密封樹脂將單片化的半導體芯片個別地進行密封。作為這種技術,例如有專利文獻1所記載的技術。在該文獻中,記載了利用筒夾拾取半導體芯片并安裝在基板后,使用半導體密封用環氧樹脂并利用傳遞模塑法將半導體芯片個別地密封(專利文獻1)。專利文獻2中記載了從半導體晶片將芯片單片化的技術。具體而言,通過半切割,在半導體晶片的主面形成槽。通過對背面進行研磨,將包含半導體的芯片單片化。單片化的芯片在表面露出基底半導體的狀態下被拾取后進行芯片焊接?,F有技術文獻專利文獻專利文獻1:日本特開平9-107046號公報專利文獻2:日本特開2011-210927號公報
技術實現思路
專利技術所要解決的課題然而,在上述文獻記載的半導體封裝體的制造工藝中,由于將各半導體芯片個別地進行密封,在生產率方面具有改善的余地。并且,專利技術人進行研究后得知,當利用筒夾拾取芯片時,會產生芯片破裂(碎裂)。即上述文獻所記載的技術在可靠性方面具有改善的余地。用于解決課題的方法本專利技術人進一步研究后發現,當拾取半導體芯片時,通過保護半導體芯片的表面能夠抑制碎裂。根據這種見解進而深入研究后發現,通過將多個半導體芯片一起密封并且對相鄰芯片之間進行分割,能夠獲得側面和背面(與電路形成面相反的一側)被密封材料層覆蓋的半導體芯片。而且,發現對該半導體芯片進行操作時的碎裂得到抑制,從而完成本專利技術。根據本專利技術,提供一種半導體裝置的制造方法,其包括:準備工序,準備主面形成有電路的半導體晶片 ...
【技術保護點】
一種半導體裝置的制造方法,其特征在于,包括:準備工序,準備主面形成有電路的半導體晶片;貼附工序,將所述半導體晶片貼附于粘接層;第一分割工序,通過沿切割區域對貼附于所述粘接層的狀態的所述半導體晶片進行分割,而獲得多個半導體芯片;密封工序,在多個所述半導體芯片的所述主面貼附于所述粘接層的狀態下,將多個所述半導體芯片一起密封,由此在所述半導體芯片的側面之間的間隙和所述半導體芯片的背面上形成包含半導體密封樹脂組合物的密封材料層;和第二分割工序,通過對形成在所述半導體芯片的所述側面之間的間隙的所述密封材料層進行分割,而獲得在所述側面和所述背面形成有所述密封材料層的多個所述半導體芯片。
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2014.08.29 JP 2014-1751351.一種半導體裝置的制造方法,其特征在于,包括:準備工序,準備主面形成有電路的半導體晶片;貼附工序,將所述半導體晶片貼附于粘接層;第一分割工序,通過沿切割區域對貼附于所述粘接層的狀態的所述半導體晶片進行分割,而獲得多個半導體芯片;密封工序,在多個所述半導體芯片的所述主面貼附于所述粘接層的狀態下,將多個所述半導體芯片一起密封,由此在所述半導體芯片的側面之間的間隙和所述半導體芯片的背面上形成包含半導體密封樹脂組合物的密封材料層;和第二分割工序,通過對形成在所述半導體芯片的所述側面之間的間隙的所述密封材料層進行分割,而獲得在所述側面和所述背面形成有所述密封材料層的多個所述半導體芯片。2.如權利要求1所述的半導體裝置的制造方法,其特征在于:所述貼附工序包括:將所述半導體晶片的主面貼附于所述粘接層的工序;和通過將所述半導體晶片的背面去除而使所述半導體晶片的膜厚變薄的工序。3.如權利要求2所述的半導體裝置的制造方法,其特征在于:使膜厚變薄的所述工序之后的所述半導體晶片的膜厚為100μm以上300μm以下。4.如權利要求1~3中任一項所述的半導體裝置的制造方法,其特征在于:所述第二分割工序中的分割寬度比所述第一分割工序中的分割寬度小。5.如權利要求1~4中任一項所述的半導體裝置的制造方法,其特征在于:所述第一分割工序包括:通過在所述半導體晶片的所述背面貼附于所述粘接層的狀態下對所述半導體晶片進行分割而獲得多個所述半導體芯片的工序;和擴大相鄰的所述半導體芯片之間的間隔的擴展工序,所述密封工序在擴大所述半導體芯片之間的間隔的狀態下實施。6.如權利要求5所述的半導體裝置的制造方法,其特征在于:所述第一分割工序在分割所述半導體晶片并在所述粘接層形成切口之后實施所述擴展工序。7.如權利要求1~6中任一項所述的半導體裝置的制造方法,其特征在于:在所述準備工序中,所述半導體晶片的所述主面上形成有外部連接用凸塊。8.如權利要求1~6中任一項所述的半導體裝置的制造方法,其特征在于:在所述密封工序之后,包括在所述半導體晶片的所述主面上形成外部連接用凸塊的工序,之后實施所述第二分割工序。9.一種半導體裝置的制造方法,其特征在于,包括:準備結構體的工序,該結構體具備粘接部件和貼附于所述粘接部件的粘接面的多個半導體芯片,多個所述半導體芯片相互隔著規定間隔而配置,并且多個所述半導體芯片的電路形成面貼附于所述粘接部件...
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。