線圈盤和電磁烹飪器具制造技術

本實用新型專利技術公開一種線圈盤和電磁烹飪器具，所述電磁烹飪器具包括所述線圈盤，所述線圈盤包括線圈盤座和側部磁條；所述線圈盤座包括底部和側部；所述側部磁條設于所述線圈盤座的側部，所述側部磁條自下而上在所述線圈盤座的周向上呈偏斜設置。本實用新型專利技術技術方案中所述線圈盤對應所述側部磁條的位置具有沿線圈盤座上下方向的熱源，以及沿所述線圈盤座周向方向的熱源，所述上下方向的熱源用于推動內鍋內的液體生成的氣泡上下運動，所述沿所述線圈盤座周向的熱源用于推動所述氣泡沿內鍋的周向方向移動，從而推動鍋內的液體在自下而上流動的同時，沿所述內鍋的周向流動，進而使所述內鍋內的液體與固體實現均勻的混合且充分的受熱，提升烹飪效果。

【技術實現步驟摘要】
線圈盤和電磁烹飪器具
本技術涉及電磁烹飪器具領域，特別涉及一種線圈盤和電磁烹飪器具。
技術介紹
在電磁烹飪器具中，設于線圈盤座上的繞組線圈在通電后會產生變化的磁場，為了使所述繞組線圈產生的磁場能夠較好的聚集，從而實現電磁烹飪器具較好的加熱性能；因此所述電磁烹飪器具中通常設有用于聚集磁場的磁條。現有技術中，所述磁條呈長條狀，分布于所述線圈盤座的底部和側部，底部磁條與所述側部磁條一一對應，且所述側部磁條投影到線圈盤座底部的投影與底部的磁條呈一字形狀態。這種磁條排布結構的線圈盤座與放置于線圈盤座內的內鍋耦合后產生的熱源在線圈盤座底部的投影也呈一字形狀態。根據熱量由強區向弱區流動的原理，熱量自下而上流動；若內鍋內裝有食物(包括液體和固體)，此時液體沸騰產生的氣泡帶動的液體呈由下向上的垂直運動狀態。這種加熱方式，使得鍋內的液體在沸騰時，僅朝上下方向移動，不利于鍋內液體和固體的均勻混合；且當烹飪粘稠類的食物時，會有更不利的影響。例如在煮米飯時，在米達到60°時，米會進入一個糊化狀態，在內鍋的內壁會結成一層膜，而這層膜會影響米飯的均勻受熱。
技術實現思路
本技術的主要目的是提出一種線圈盤，旨在通過改變線圈盤中磁條的排布方式，使內鍋內的液體能夠沿內鍋的周向流動，從而使內鍋內的固體和液體均勻混合和充分受熱。為實現上述目的，本技術提出的線圈盤，用于電磁烹飪器具，包括；線圈盤座，所述線圈盤座包括底部和自所述底部向上延伸的側部；以及，側部磁條，所述側部磁條設于所述線圈盤座的側部，所述側部磁條自下而上在所述線圈盤座的周向上呈偏斜設置。優選地，所述側部磁條設于所述線圈盤座的外側表面。優選地，所述側部磁條呈彎曲狀設置。優選地，所述側部磁條偏斜的角度為10°～80°。優選地，包括多個所述側部磁條，所述多個側部磁條沿所述線圈盤座側部的周向排布。優選地，所述多個側部磁條沿同一時針方向偏斜。優選地，所述線圈盤還包括底部磁條，所述底部磁條設于所述線圈盤座的底部，且所述底部磁條自所述線圈盤座底部的中心向所述底部的邊緣延伸，所述線圈盤座上設有安裝支架，所述底部磁條與所述側部磁條安裝于所述安裝支架。優選地，所述底部磁條與所述側部磁條一體設置或分體設置。本技術還提出一種電磁烹飪器具，包括所述的線圈盤。所述線圈盤，用于電磁烹飪器具，包括；線圈盤座，所述線圈盤座包括底部和自所述底部向上延伸的側部；以及，側部磁條，所述側部磁條設于所述線圈盤座的側部，所述側部磁條自下而上在所述線圈盤座的周向上呈偏斜設置。優選地，所述電磁烹飪器具為電飯煲、壓力鍋、電磁爐。本技術技術方案通過采用在所述線圈盤座的側部設置側部磁條，且使所述側部磁條自下而上在所述線圈盤座的周向上呈偏斜設置，此時所述側部磁條不僅具有沿線圈盤座上下方向的分量，也具有沿所述線圈盤座周向方向的分量；因此，所述線圈盤座對應所述側部磁條的位置產生沿線圈盤座上下方向的熱源，以及沿所述線圈盤座周向方向的熱源。所述上下方向的熱源用于推動內鍋內的液體生成的氣泡上下運動，所述沿所述線圈盤座周向的熱源用于推動所述氣泡沿內鍋的周向方向移動；從而推動鍋內的液體在自下而上流動的同時，沿所述內鍋的周向流動，進而使所述內鍋內的液體與固體實現均勻的混合且充分的受熱，提升烹飪效果。附圖說明為了更清楚地說明本技術實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本技術的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖示出的結構獲得其他的附圖。圖1為本技術線圈盤的一實施例與內鍋的相對位置結構示意圖；圖2為圖1中線圈盤的底部仰視結構示意圖；圖3為圖1中的線圈盤中底部磁條和側部磁條呈一夾角結構示意圖。圖4為圖1中的線圈盤和內鍋耦合后形成的加熱區域示意圖；圖5為內鍋中對應圖3中的加熱區域產生的熱流示意圖。附圖標號說明：標號名稱標號名稱1線圈盤30底部磁條10線圈盤座40繞組線圈11底部50安裝支架12側部2內鍋20側部磁條本技術目的的實現、功能特點及優點將結合實施例，參照附圖做進一步說明。具體實施方式下面將結合本技術實施例中的附圖，對本技術實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本技術的一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本技術中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本技術保護的范圍。需要說明，若本技術實施例中有涉及方向性指示(諸如上、下、左、右、前、后……)，則該方向性指示僅用于解釋在某一特定姿態(如附圖所示)下各部件之間的相對位置關系、運動情況等，如果該特定姿態發生改變時，則該方向性指示也相應地隨之改變。另外，若本技術實施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，則該“第一”、“第二”等的描述僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示其相對重要性或者隱含指明所指示的技術特征的數量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括至少一個該特征。另外，各個實施例之間的技術方案可以相互結合，但是必須是以本領域普通技術人員能夠實現為基礎，當技術方案的結合出現相互矛盾或無法實現時應當認為這種技術方案的結合不存在，也不在本技術要求的保護范圍之內。本技術提出一種電磁烹飪器具，所述電磁烹飪器具設有線圈盤1(具體結構后續有詳細介紹)，所述電磁烹飪器具優選為電飯煲，顯然，所述電磁烹飪器具不限于電飯煲，只要能采用下方公開的線圈盤1的電磁烹飪器具，均屬于本技術要保護的電磁烹飪器具；例如，所述電磁烹飪器具還可以是壓力鍋、電磁爐等。請參閱圖1和圖2，所述線圈盤1包括線圈盤座10，側部磁條20，以及用于產生磁場的繞組線圈40。所述線圈盤座10包括底部11和自所述底部11向上延伸的側部12；所述線圈盤座10的底部11用于對放置于所述線圈盤1內的內鍋2起支撐作用，所述側部12對應環設于所述內鍋2的側壁的外側。所述側部磁條20設于所述線圈盤座10的側部12，且所述側部磁條20自下而上在所述線圈盤座10的周向上呈偏斜設置。本技術技術方案通過采用在所述線圈盤座10的側部12設置側部磁條20，且使所述側部磁條20自下而上在所述線圈盤座10的周向上呈偏斜設置，此時所述側部磁條20不僅具有沿線圈盤座10上下方向的分量，也具有沿所述線圈盤座10周向方向的分量；因此，所述線圈盤1對應所述側部磁條20的位置具有沿線圈盤座10上下方向的熱源，以及沿所述線圈盤座10周向方向的熱源。所述上下方向的熱源用于推動內鍋2內的液體生成的氣泡上下運動，所述沿所述線圈盤座10周向的熱源用于推動所述氣泡沿內鍋2的周向方向移動，從而推動鍋內的液體在自下而上流動的同時，沿所述內鍋2的周向流動，進而使所述內鍋2內的液體與固體實現均勻的混合且充分的受熱，提升烹飪效果。所述線圈盤座10的底部11可以是平底，則此時所述線圈盤座10為通常所說的平凹式結構，顯然，所述線圈盤座10的底部11也可以是曲形的底部11例如弧形底部，則此時所述線圈盤座10為通常所說的純凹形結構。于本實施例中，所述線圈盤座10為平凹式結構。所述繞組線圈40可以設置在所述底部1本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種線圈盤，用于電磁烹飪器具，其特征在于，包括；線圈盤座，所述線圈盤座包括底部和自所述底部向上延伸的側部；以及，側部磁條，所述側部磁條設于所述線圈盤座的側部，所述側部磁條自下而上在所述線圈盤座的周向上呈偏斜設置。

【技術特征摘要】
1.一種線圈盤，用于電磁烹飪器具，其特征在于，包括；線圈盤座，所述線圈盤座包括底部和自所述底部向上延伸的側部；以及，側部磁條，所述側部磁條設于所述線圈盤座的側部，所述側部磁條自下而上在所述線圈盤座的周向上呈偏斜設置。2.如權利要求1所述的線圈盤，其特征在于，所述側部磁條設于所述線圈盤座的外側表面。3.如權利要求1所述的線圈盤，其特征在于，所述側部磁條呈彎曲狀設置。4.如權利要求1所述的線圈盤，其特征在于，所述側部磁條偏斜的角度為10°～80°。5.如權利要求1所述的線圈盤，其特征在于，所述線圈盤包括多個所述側部磁條，所述多個側部磁條沿所述線圈盤座側部的周向排布。6.如權...

【專利技術屬性】
技術研發人員：吳金華，任玉潔，蘇暢，范吉昌，易亮，張翼飛，
申請(專利權)人：佛山市順德區美的電熱電器制造有限公司，
類型：新型
國別省市：廣東,44