一種基板上附著異物的檢查及去除裝置及其方法制造方法及圖紙

本發明專利技術提供了一種基板上附著異物的檢查及去除裝置及其方法，其中所述裝置包括檢查清洗平臺、輸送機構、控制單元、激光源、激光接收器以及異物清除單元。其中所述檢查清洗平臺用于放置基板，所述控制單元連接所述輸送機構、激光源、激光接收器以及異物清除單元，所述異物清除單元設置在所述輸送機構上，并可通過所述輸送機構輸送至所述檢查清洗平臺臺面任意位置的上方。本發明專利技術提供的一種基板上附著異物的檢查及去除裝置及其方法，其能夠有效去除基板上附著的異物，從而改善基板涂布前膜下異物的發生率。

【技術實現步驟摘要】
一種基板上附著異物的檢查及去除裝置及其方法
本專利技術涉及一種基板上附著異物的檢查及去除裝置及其方法，可用在TFT-LCDCF清洗工藝中，但不限于。
技術介紹
已知，在TFT-LCDCF清洗工藝中，玻璃基板經過清洗后，一般會進入到后續的涂布工藝。清洗后的玻璃基板在到達涂布機上之前，是會經過一段經由傳送滾輪和機械手臂的傳送過程。而在這個傳送過程中，空氣中存在的細微顆粒異物(particle)，也就會不可避免的或多或少的附著在清洗后的玻璃基板上。這些附著在玻璃基板上的異物，會在其后續的涂布過程中，被覆蓋在涂布光刻膠的下面，形成膜下異物的微觀缺陷。而這些微觀缺陷，無疑會對產品的良率造成很大的影響。對此，業界常見的做法是在涂布機進行涂布過程前，先對玻璃基板的表面進行異物檢測，若檢測到的異物超過設定的閾值，其就會進行GlassNG的判定，然后將該玻璃基板送至返修工藝。這種做法，無疑會直接導致生產耗時增加，成本提高，對于產品的良率產生也造成很大的損失。而且，對于現有做法中，通過檢測的玻璃基板，其表面上并不是沒有附著異物，只是在閾值之下而已。這種膜下附著異物的玻璃基板，在涂布后依然會存有微觀缺陷，而隨著高精細LTPS技術的發展，產品微觀缺陷的控制要求越來越嚴格，膜下異物微觀缺陷的后期修補一般要求較為困難，在修補機進行確認修補時往往需要應用激光和ink進行多次修補，這樣會無形增加Repair產線的Loading。另外，如果異物較大，也會造成產品直接NG，造成NGloss的增加。因此，確有必要來開發一種基板上附著異物的檢查及去除裝置及其方法，來克服現有技術中的缺陷。專利技術內容本專利技術的目的在于提供一種基板上附著異物的檢查及去除裝置及其方法，其能夠有效去除基板上附著的異物，從而改善基板涂布前膜下異物的發生率。為了實現上述目的，本專利技術采用的技術方案如下：一種基板上附著異物的檢查及去除裝置，其包括檢查清洗平臺、輸送機構、控制單元、激光源、激光接收器以及異物清除單元。其中所述檢查清洗平臺用于放置基板，所述控制單元連接所述輸送機構、激光源、激光接收器以及異物清除單元，所述異物清除單元設置在所述輸送機構上，并可通過所述輸送機構輸送至所述檢查清洗平臺臺面任意位置的上方。使用時，所述激光源會在所述基板放置到位后，對所述基板表面進行整個平面的同強度的發射光散射，而所述激光接收器會對入射光強度進行檢測，當所述基板表面附有異物時，其接收到的入射光強度就會發生相應的變化，所述控制單元根據所述激光接收器接收的入射光強度變化數據確定異物在所述基板上的位置坐標，然后控制所述輸送機構將所述異物清除單元輸送到所述異物的位置坐標，所述異物清除單元根據所述控制器的指令，進行所述基板表面附著異物的清除。進一步的，在不同實施方式中，其中所述異物清除單元包括帶靜電發生器的吸附毛刷。進一步的，在不同實施方式中，其中所述異物清除單元包括氣槍，其具備真空吹氣和吸氣功能。進一步的，在不同實施方式中，其中所述異物清除單元包括集塵單元，其與所述氣槍相接。進一步的，在不同實施方式中，其中所述輸送機構包括龍門架或是機械手臂中的至少一種。進一步的，在不同實施方式中，其中所述控制器還連接有照相單元，其用于對附著在所述基板上的異物進行拍照，并保存其微觀清晰的形貌照片。進一步的，在不同實施方式中，其中所述照相單元設置在所述輸送機構上。進一步的，在不同實施方式中，其中所述激光源設置在所述檢查清洗平臺的邊角位置。進一步的，在不同實施方式中，其中所述激光接收器布置在所述檢查清洗平臺的四周。進一步的，本專利技術的又一個實施方式提供了一種基板上附著異物的檢查及去除方法，其包括以下步驟。將待檢查的基板輸送到一檢查清洗平臺上；使用一激光源對所述基板表面進行整個平面的同強度的發射光散射，與其對應的激光接收器會對所述激光源發出的入射光強度進行檢測，當所述基板表面附有異物時，所述激光接收器接收到的入射光強度就會發生相應的變化；根據所述激光接收器接收的入射光強度變化數據確定所述異物在所述基板上的位置坐標；輸送一異物清除單元到所述異物的位置坐標，并對其進行異物清除操作。相對于現有技術，本專利技術的有益效果是：本專利技術涉及的一種基板上附著異物的檢查及去除裝置及其方法，其中所述裝置能夠直接與清洗機搭配使用，置于清洗機的后端，對清洗機風刀(airknife)干燥后的基板進行異物(Particle)的檢查和去除，從而改善基板涂布前膜下異物的發生率，進而提升了產線的修補效率及產品良率，在一定程度上降低了產品的生產成本。附圖說明圖1是本專利技術涉及的一個實施方式提供的一種基板上附著異物的檢查及去除裝置的邏輯結構圖；圖2是本專利技術涉及的一個實施方式提供的一種基板上附著異物的檢查及去除裝置的結構示意圖；圖3是圖2所示的基板上附著異物的檢查及去除裝置，其包括的異物清掃單元的結構示意圖。圖1～3中的附圖標記說明如下：控制單元100檢查和清洗平臺10輸送機構20龍門架22激光源30激光接收器40異物清除單元50本體52氣槍54吸附毛刷56集塵單元58拍照單元60具體實施方式以下將結合附圖和實施例，對本專利技術涉及的一種基板上附著異物的檢查及去除裝置及其方法的技術方案作進一步的詳細描述。請參閱圖1所示，本專利技術的一個實施方式提供了一種基板上附著異物的檢查及去除裝置，其包括控制單元100、檢查清洗平臺10、輸送機構20、激光源30、激光接收器40、異物清除單元50以及拍照單元60。其中所述檢查清洗平臺10用于放置待處理的基板。其中所述控制單元100用于整個裝置的運作，其連接所述輸送機構20、激光源30、激光接收器40、異物清除單元50以及拍照單元60。其中所述輸送機構20連接所述異物清除單元50和拍照單元60，用于根據所述控制單元100的指令將兩者輸送到所述檢查清洗平臺10上的任意位置。具體的，所述輸送機構20可以是機械手或是龍門架結構。進一步的，在一個具體實施方式中，請參閱圖2所示，所述輸送機構為龍門架22，其設置在所述檢查清洗平臺10的上方。所述激光源30設置在所述檢查清洗平臺10的邊角處，所述激光接收器40設置在所述檢查清洗平臺10的四周。所述異物清除單元50和拍照單元60設置在所述龍門架22上，并可通過所述龍門架22輸送至所述檢查清洗平臺10臺面任意位置的上方。請參閱圖3所示，所述異物清除單元50包括本體52，所述本體52上設置有氣槍54和帶靜電發生器的吸附毛刷56。其中所述氣槍54具備真空吹氣和吸氣功能，其與一集塵單元58連接，其中所述氣槍54吸附的異物收集在所述集塵單元58內。其中所述集塵單元58可以是設置在所述本體52上，但不限于。使用時，本專利技術涉及的基板上附著異物的檢查及去除裝置，可以是設置在玻璃基板水洗后端風刀(airknife)傳送帶上，干燥后的玻璃基板在進入涂布機涂布之前，首先會置于其檢查和清洗平臺10上，由其對清洗干燥后的所述玻璃基板表面進行一次異物檢查。但在不同實施方式中，其并不限于對玻璃基板上異物的清除，其也可適用于其他類型基板上的異物清除。其中，設置在所述檢查和清洗平臺10邊角處的所述激光源30，會對所述玻璃基板表面進行整個平面的同強度的發射光散射，而設置在所述檢查和清洗平臺10四周的激光接收器40，會對入射光強度進本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種基板上附著異物的檢查及去除裝置；其特征在于，其包括檢查清洗平臺、輸送機構、控制單元、激光源、激光接收器以及異物清除單元；其中所述檢查清洗平臺用于放置基板，所述控制單元連接所述輸送機構、激光源、激光接收器以及異物清除單元，所述異物清除單元設置在所述輸送機構上，并可通過所述輸送機構輸送至所述檢查清洗平臺臺面任意位置的上方；使用時，所述激光源會在所述基板放置到位后，對所述基板表面進行整個平面的同強度的發射光散射，而所述激光接收器會對入射光強度進行檢測，當所述基板表面附有異物時，其接收到的入射光強度就會發生相應的變化，所述控制單元根據所述激光接收器接收的入射光強度變化數據確定異物在所述基板上的位置坐標，然后控制所述輸送機構將所述異物清除單元輸送到所述異物的位置坐標，所述異物清除單元根據所述控制器的指令，進行所述基板表面附著異物的清除。

【技術特征摘要】
1.一種基板上附著異物的檢查及去除裝置；其特征在于，其包括檢查清洗平臺、輸送機構、控制單元、激光源、激光接收器以及異物清除單元；其中所述檢查清洗平臺用于放置基板，所述控制單元連接所述輸送機構、激光源、激光接收器以及異物清除單元，所述異物清除單元設置在所述輸送機構上，并可通過所述輸送機構輸送至所述檢查清洗平臺臺面任意位置的上方；使用時，所述激光源會在所述基板放置到位后，對所述基板表面進行整個平面的同強度的發射光散射，而所述激光接收器會對入射光強度進行檢測，當所述基板表面附有異物時，其接收到的入射光強度就會發生相應的變化，所述控制單元根據所述激光接收器接收的入射光強度變化數據確定異物在所述基板上的位置坐標，然后控制所述輸送機構將所述異物清除單元輸送到所述異物的位置坐標，所述異物清除單元根據所述控制器的指令，進行所述基板表面附著異物的清除。2.根據權利要求1所述的一種基板上附著異物的檢查及去除裝置；其特征在于，其中所述異物清除單元包括帶靜電發生器的吸附毛刷。3.根據權利要求1所述的一種基板上附著異物的檢查及去除裝置；其特征在于，其中所述異物清除單元包括氣槍，其具備真空吹氣和吸氣功能。4.根據權利要求3所述的一種基板上附著異物的檢查及去除裝置；其特征在于，其中所述異物清除單元包括集塵單元，其與所...

【專利技術屬性】
技術研發人員：吳利峰，
申請(專利權)人：武漢華星光電技術有限公司，
類型：發明
國別省市：湖北,42