錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備制造技術(shù)

本實(shí)用新型專(zhuān)利技術(shù)涉及廢氣處理技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及到一種錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備；設(shè)備中將兩個(gè)低溫等離子發(fā)應(yīng)器錯(cuò)位布局，有利于增強(qiáng)紊流效果，進(jìn)一步分解、處理惡臭氣體，惡臭氣體經(jīng)二次處理后除臭率達(dá)到了90％以上，排出的氣體完全符合國(guó)家排放標(biāo)準(zhǔn)要求。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備
本技術(shù)涉及廢氣處理
，尤其涉及到一種錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備。
技術(shù)介紹
廢氣凈化設(shè)備的選型，是根據(jù)廢氣的性質(zhì)、處理量和處理的要求來(lái)確定的，傳統(tǒng)的廢氣處理裝置采用凈化塔來(lái)得以實(shí)現(xiàn)，其適用于噴涂廢氣、有機(jī)廢氣、家具廠廢氣、化工廠廢氣、污水廠廢氣、印刷廠廢氣、無(wú)機(jī)廢氣等大風(fēng)量的工業(yè)廢氣凈化；但是現(xiàn)有技術(shù)中的廢氣處理凈化裝置僅僅采用多重吸收膜進(jìn)行凈化，其結(jié)構(gòu)復(fù)雜、廢氣凈化效率低且維護(hù)成本高。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本技術(shù)鑒于上述技術(shù)問(wèn)題，提供了一種錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備。本技術(shù)解決上述技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案具體為：一種錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備，其中，所述設(shè)備包括：廢氣處理腔體，所述廢氣處理腔體底側(cè)設(shè)置有進(jìn)風(fēng)口，該廢氣處理腔體中正對(duì)進(jìn)風(fēng)口由左至右依次設(shè)置有均流板、導(dǎo)流板；位于所述導(dǎo)流板正上方且右下至上依次設(shè)置有第一節(jié)低溫等離子反應(yīng)器、紊流室和第二節(jié)低溫等離子反應(yīng)器，所述第二節(jié)低溫等離子反應(yīng)器上方還設(shè)置有出風(fēng)口；其中，第二節(jié)低溫等離子反應(yīng)器相對(duì)于所述第一節(jié)低溫等離子反應(yīng)器呈錯(cuò)位90°布局方式設(shè)置于所述紊流室上方。作為優(yōu)選，上述的錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備，其中，所述導(dǎo)流板的導(dǎo)流方向指向所述第一節(jié)低溫等離子反應(yīng)器。作為優(yōu)選，上述的錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備，其中，所述出風(fēng)口上一側(cè)還設(shè)置有維修口。作為優(yōu)選，上述的錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備，其中，所述廢氣處理腔體右側(cè)還設(shè)置有維修梯子。作為優(yōu)選，上述的錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備，其中，所述廢氣處理腔體底側(cè)還連通設(shè)置有排污管道。上述技術(shù)方案具有如下優(yōu)點(diǎn)或有益效果：本技術(shù)錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備中將兩個(gè)低溫等離子反應(yīng)器錯(cuò)位布局，有利于增強(qiáng)紊流效果，進(jìn)一步分解、處理惡臭氣體，惡臭氣體經(jīng)二次處理后除臭率達(dá)到了90％以上，排出的氣體完全符合國(guó)家排放標(biāo)準(zhǔn)要求。附圖說(shuō)明通過(guò)閱讀參照以下附圖對(duì)非限制性實(shí)施例所作的詳細(xì)描述，本技術(shù)及其特征、外形和優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得更加明顯。在全部附圖中相同的標(biāo)記指示相同的部分。并未可以按照比例繪制附圖，重點(diǎn)在于示出本技術(shù)的主旨。圖1是本技術(shù)錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。具體實(shí)施方式下面結(jié)合附圖和具體的實(shí)施例對(duì)本技術(shù)作進(jìn)一步的說(shuō)明，但是不作為本技術(shù)的限定。具體的如圖1所示，本技術(shù)錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備的結(jié)構(gòu)具體包括有：廢氣處理腔體11，該廢氣處理腔體11底側(cè)設(shè)置有進(jìn)風(fēng)口1，該廢氣處理腔體中正對(duì)進(jìn)風(fēng)口1由左至右依次設(shè)置有均流板2、導(dǎo)流板3；位于導(dǎo)流板3正上方且右下至上依次設(shè)置有第一節(jié)低溫等離子反應(yīng)器4、紊流室5和第二節(jié)低溫等離子反應(yīng)器6，第二節(jié)低溫等離子反應(yīng)器6上方還設(shè)置有出風(fēng)口8；其中，第二節(jié)低溫等離子反應(yīng)器6相對(duì)于第一節(jié)低溫等離子反應(yīng)器4呈錯(cuò)位90°布局方式設(shè)置于紊流室5上方。在一可選但非限制性的實(shí)施例中，導(dǎo)流板3的導(dǎo)流方向指向第一節(jié)低溫等離子反應(yīng)器4。在一可選但非限制性的實(shí)施例中，出風(fēng)口8上一側(cè)還設(shè)置有維修口7。在一可選但非限制性的實(shí)施例中，廢氣處理腔體11右側(cè)還設(shè)置有維修梯子9；廢氣處理腔體底側(cè)還連通設(shè)置有排污管道10。本技術(shù)惡臭氣體在現(xiàn)場(chǎng)經(jīng)收集由風(fēng)道被送入本裝置，經(jīng)進(jìn)風(fēng)口通過(guò)均流板的均流作用及導(dǎo)流板的導(dǎo)向后，使氣體均勻地進(jìn)入第一節(jié)低溫等離子發(fā)應(yīng)器，經(jīng)過(guò)第一節(jié)低溫等離子發(fā)應(yīng)器的處理后，有60％～70％的惡臭氣體得到了處理。處理后的氣體繼續(xù)向上進(jìn)入紊流室，氣體經(jīng)過(guò)紊流室后進(jìn)入第二節(jié)低溫等離子發(fā)應(yīng)器，第二節(jié)低溫等離子發(fā)應(yīng)器在結(jié)構(gòu)布局上采用了錯(cuò)位布局方式，與第一節(jié)等離子發(fā)應(yīng)器4錯(cuò)位90°，增強(qiáng)了紊流效果，在第二節(jié)低溫等離子發(fā)應(yīng)器里氣體進(jìn)一步得到了分解、處理，氣體攜帶的水分及處理過(guò)程中產(chǎn)生的水分經(jīng)排污管道排出，惡臭氣體經(jīng)過(guò)二次處理后除臭率達(dá)到了90％以上，經(jīng)出風(fēng)口排出的氣體完全符合國(guó)家排放標(biāo)準(zhǔn)要求。本技術(shù)錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備中各個(gè)設(shè)備模塊均由控制柜上PAC自動(dòng)控制，按觸摸屏提示操作即可，簡(jiǎn)單方便。本技術(shù)錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備中將兩個(gè)低溫等離子反應(yīng)器錯(cuò)位布局，有利于增強(qiáng)紊流效果，進(jìn)一步分解、處理惡臭氣體，惡臭氣體經(jīng)二次處理后除臭率達(dá)到了90％以上，排出的氣體完全符合國(guó)家排放標(biāo)準(zhǔn)要求。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解，本領(lǐng)域技術(shù)人員在結(jié)合現(xiàn)有技術(shù)以及上述實(shí)施例可以實(shí)現(xiàn)所述變化例，在此不做贅述。這樣的變化例并不影響本技術(shù)的實(shí)質(zhì)內(nèi)容，在此不予贅述。以上對(duì)本技術(shù)的較佳實(shí)施例進(jìn)行了描述。需要理解的是，本技術(shù)并不局限于上述特定實(shí)施方式，其中未盡詳細(xì)描述的設(shè)備和結(jié)構(gòu)應(yīng)該理解為用本領(lǐng)域中的普通方式予以實(shí)施；任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本技術(shù)技術(shù)方案范圍情況下，都可利用上述揭示的方法和
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
對(duì)本技術(shù)技術(shù)方案作出許多可能的變動(dòng)和修飾，或修改為等同變化的等效實(shí)施例，這并不影響本技術(shù)的實(shí)質(zhì)內(nèi)容。因此，凡是未脫離本技術(shù)技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本技術(shù)的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化及修飾，均仍屬于本技術(shù)技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備包括：廢氣處理腔體，所述廢氣處理腔體底側(cè)設(shè)置有進(jìn)風(fēng)口，該廢氣處理腔體中正對(duì)進(jìn)風(fēng)口由左至右依次設(shè)置有均流板、導(dǎo)流板；位于所述導(dǎo)流板正上方且右下至上依次設(shè)置有第一節(jié)低溫等離子反應(yīng)器、紊流室和第二節(jié)低溫等離子反應(yīng)器，所述第二節(jié)低溫等離子反應(yīng)器上方還設(shè)置有出風(fēng)口；其中，第二節(jié)低溫等離子反應(yīng)器相對(duì)于所述第一節(jié)低溫等離子反應(yīng)器呈錯(cuò)位90°布局方式設(shè)置于所述紊流室上方。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種錯(cuò)位混流式低溫等離子惡臭廢氣處理設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備包括：廢氣處理腔體，所述廢氣處理腔體底側(cè)設(shè)置有進(jìn)風(fēng)口，該廢氣處理腔體中正對(duì)進(jìn)風(fēng)口由左至右依次設(shè)置有均流板、導(dǎo)流板；位于所述導(dǎo)流板正上方且右下至上依次設(shè)置有第一節(jié)低溫等離子反應(yīng)器、紊流室和第二節(jié)低溫等離子反應(yīng)器，所述第二節(jié)低溫等離子反應(yīng)器上方還設(shè)置有出風(fēng)口；其中，第二節(jié)低溫等離子反應(yīng)器相對(duì)于所述第一節(jié)低溫等離子反應(yīng)器呈錯(cuò)位90°布局方式設(shè)置于所述紊流室上方。2.根據(jù)權(quán)利要求1...

【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：莫小華，劉思穎，
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人：上海啟菲特環(huán)保生物技術(shù)有限公司，
類(lèi)型：新型
國(guó)別省市：上海,31