The utility model discloses an installation of isooctane reactor acid removal device, the inside wall of the reactor body is arranged on the annular column, the annular column end near the inner wall of the outlet pipe is provided with an annular bottom plate, the partition board in an annular plate away from the central end side wall outlet pipe is provided with a horizontal the direction of the other end of the top surface in the partition board through the end of the support plate and the annular column is connected with the large partition board near to the top surface of the support plate is provided with a groove, the groove is arranged in the screen frame is matched with the annular plate, the other side is provided with an anti vortex plate, inner wall with the reactor body, the anti vortex plate on the other side of seamless contact three. The utility model has the advantages of simple structure, convenient maintenance and installation, small occupied space, can effectively use the reactor interior space, can be achieved on the liquid acid play a separate role, while improving the deacidification effect.
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
一種安裝有脫酸裝置的異辛烷反應(yīng)器
本技術(shù)涉及異辛烷反應(yīng)輔助生產(chǎn)設(shè)備
,具體為一種安裝有脫酸裝置的異辛烷反應(yīng)器。
技術(shù)介紹
異辛烷是一種理想的高辛烷值汽油調(diào)和組分,辛烷值為95~98,蒸汽壓較低,熱值和燃燒效率均較高,能與水以任意比例混溶。目前,異辛烷的生產(chǎn)工藝以濃硫酸烷基化工藝為主,其中依靠異丁烷汽化取熱的立式異辛烷反應(yīng)器主要包括分散區(qū)、反應(yīng)區(qū)、汽化區(qū)和集液區(qū),汽化區(qū)和集液區(qū)約占反應(yīng)器體積的50%。大部分未反應(yīng)的異丁烷通過吸熱汽化后從汽化區(qū)的氣相出口采出,異辛烷產(chǎn)物、濃硫酸催化劑和剩余的烴落入集液區(qū),從液相出口采出,由于該工藝采用濃硫酸作為催化劑,因此,氣相采出物流中通常夾帶有少量的酸,對設(shè)備造成嚴重的腐蝕,液相采出物流也因包含有大量的硫酸,需經(jīng)過多級的酸分離工藝處理。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本技術(shù)的目的在于提供一種安裝有脫酸裝置的異辛烷反應(yīng)器,以解決上述
技術(shù)介紹
中提出的問題。為實現(xiàn)上述目的,本技術(shù)提供如下技術(shù)方案:一種安裝有脫酸裝置的異辛烷反應(yīng)器,包括反應(yīng)器本體,所述反應(yīng)器本體的內(nèi)側(cè)壁上安裝有環(huán)形柱,且環(huán)形柱靠近反應(yīng)器本體的出口管一端,所述環(huán)形柱呈中空結(jié)構(gòu),所述環(huán)形柱靠近出口管的一端內(nèi)側(cè)壁設(shè)有環(huán)形底板,所述環(huán)形底板遠離出口管的一端側(cè)壁中部設(shè)有水平方向的大分隔板,所述大分隔板的兩側(cè)均與環(huán)形柱的內(nèi)側(cè)壁連接,所述大分隔板的另一端頂面通過支撐板與環(huán)形柱連接,所述大分隔板的頂面中部設(shè)有小分隔板,且小分隔板的頂部與環(huán)形柱的內(nèi)壁之間留有間隙,所述大分隔板靠近支撐板的一端頂面開設(shè)有凹槽,所述凹槽內(nèi)安裝有相配合使用的絲網(wǎng)板框,所述環(huán)形柱內(nèi)靠近環(huán)形底板的側(cè)壁上安裝有制冷器,所述環(huán)形底 ...
【技術(shù)保護點】
一種安裝有脫酸裝置的異辛烷反應(yīng)器,包括反應(yīng)器本體(1),其特征在于:所述反應(yīng)器本體(1)的內(nèi)側(cè)壁上安裝有環(huán)形柱(2),且環(huán)形柱(2)靠近反應(yīng)器本體(1)的出口管(3)一端,所述環(huán)形柱(2)呈中空結(jié)構(gòu),所述環(huán)形柱(2)靠近出口管(3)的一端內(nèi)側(cè)壁設(shè)有環(huán)形底板(4),所述環(huán)形底板(4)遠離出口管(3)的一端側(cè)壁中部設(shè)有水平方向的大分隔板(5),所述大分隔板(5)的兩側(cè)均與環(huán)形柱(2)的內(nèi)側(cè)壁連接,所述大分隔板(5)的另一端頂面通過支撐板(6)與環(huán)形柱(2)連接,所述大分隔板(5)的頂面中部設(shè)有小分隔板(7),且小分隔板(7)的頂部與環(huán)形柱(2)的內(nèi)壁之間留有間隙,所述大分隔板(5)靠近支撐板(6)的一端頂面開設(shè)有凹槽(8),所述凹槽(8)內(nèi)安裝有相配合使用的絲網(wǎng)板框(9),所述環(huán)形柱(2)內(nèi)靠近環(huán)形底板(4)的側(cè)壁上安裝有制冷器(10),所述環(huán)形底板(4)遠離制冷器(10)的一端表面開設(shè)有出液口(11),且出液口(11)位于大分隔板(5)的下方,所述環(huán)形底板(4)的另一側(cè)設(shè)有防旋渦板(12),且防旋渦板(12)設(shè)置在出液口(11)的頂部,所述防旋渦板(12)的另三側(cè)均與反應(yīng)器本體(1)的內(nèi) ...
【技術(shù)特征摘要】
1.一種安裝有脫酸裝置的異辛烷反應(yīng)器,包括反應(yīng)器本體(1),其特征在于:所述反應(yīng)器本體(1)的內(nèi)側(cè)壁上安裝有環(huán)形柱(2),且環(huán)形柱(2)靠近反應(yīng)器本體(1)的出口管(3)一端,所述環(huán)形柱(2)呈中空結(jié)構(gòu),所述環(huán)形柱(2)靠近出口管(3)的一端內(nèi)側(cè)壁設(shè)有環(huán)形底板(4),所述環(huán)形底板(4)遠離出口管(3)的一端側(cè)壁中部設(shè)有水平方向的大分隔板(5),所述大分隔板(5)的兩側(cè)均與環(huán)形柱(2)的內(nèi)側(cè)壁連接,所述大分隔板(5)的另一端頂面通過支撐板(6)與環(huán)形柱(2)連接,所述大分隔板(5)的頂面中部設(shè)有小分隔板(7),且小分隔板(7)的頂部與環(huán)形柱(2)的內(nèi)壁之間留有間隙,所述大分隔板(5)靠近支撐板(6)的一端頂面開設(shè)有凹槽(8),所述凹槽(8)內(nèi)安裝有相配合使用的絲網(wǎng)板框(9),所述環(huán)形柱(2)內(nèi)靠近環(huán)形底板(4)的側(cè)壁上安裝有制冷器(10),所述環(huán)形底板(4)遠離制冷器(10)的一端表面開設(shè)有出液口(11),且出液口(11)位于大分隔板(5)的下方,所述環(huán)形底板(4)的另一側(cè)設(shè)有防旋渦板(12),且防旋渦板(12)設(shè)置在出液口(11)的頂部,所述防旋渦板(12)的另三側(cè)均與反應(yīng)器本體(1)的內(nèi)側(cè)壁...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:趙洪起,
申請(專利權(quán))人:山東麟豐化工科技有限公司,
類型:新型
國別省市:山東,37
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