間接轉(zhuǎn)換檢測器陣列制造技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)尤其提供了一種用于輻射成像系統(tǒng)的檢測器陣列(300)。該檢測器陣列包括多個檢測器元件。各個檢測器元件尤其包括閃爍體(304)和光電檢測器(306)。在一些實施例中，所述檢測器元件中的兩個或更多個檢測器元件之間共用閃爍體。在一些實施例中，兩個或更多個檢測器元件之間具有很少甚至幾乎沒有被配置成減輕檢測器元件之間的串擾的反射材料。

Indirect conversion detector array

The present invention particularly provides a detector array (300) for a radiation imaging system. The detector array includes a plurality of detector elements. Each detector element includes a scintillator (304) and a photoelectric detector (306) in particular. In some embodiments, a scintillator is shared between two or more detector elements in the detector element. In some embodiments, two or more detector elements have a reflective material that is rarely or almost not configured to mitigate crosstalk between the detector elements.

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術(shù)】間接轉(zhuǎn)換檢測器陣列
本申請涉及輻射成像系統(tǒng)的一種間接轉(zhuǎn)換檢測器陣列。本申請尤其適用于醫(yī)療、安全和/或工業(yè)領(lǐng)域，其中，輻射成像系統(tǒng)用于識別/查看被檢查的對象的內(nèi)部特定部位(aspects)。
技術(shù)介紹
如今，諸如計算機斷層掃描(CT)系統(tǒng)、數(shù)字投影系統(tǒng)和/或行掃描系統(tǒng)之類的輻射成像系統(tǒng)例如對于提供被檢查對象的內(nèi)部特定部分的信息或圖像是有用的。對象被暴露于輻射光子(例如，X射線光子、伽馬射線光子等)的射線并且穿過對象的輻射光子通過檢測器陣列被檢測，該檢測器陣列被設(shè)置成相對于對象與輻射源大體上徑向相對。對輻射光子被對象衰減(例如，吸收、散射等)的程度進行測量以確定對象的一個或更多個屬性，或者更確切地說，以確定對象的各個特定部位的一個或更多個屬性。例如，對象的高度密集的特定表面相對于不太密集的特定表面而言通常會衰減較多的輻射，因此當具有較高密度的特定表面(諸如，骨骼或金屬)被不太密集的特定表面(諸如，組織或衣物)所包圍時會很明顯。檢測器陣列包括多個檢測器元件，所述多個檢測器元件分別被配置成對與檢測器陣列的預(yù)定部分碰撞的輻射進行檢測。檢測器元件被配置成直接或間接地將輻射光子轉(zhuǎn)換成電荷。直接轉(zhuǎn)換檢測器元件被配置成利用光電導(dǎo)體(例如，非晶硒)將輻射光子直接轉(zhuǎn)換成電荷。間接轉(zhuǎn)換檢測器元件被配置成利用閃爍體將輻射光子轉(zhuǎn)換成光，并且利用諸如光電二極管之類的光電檢測器將光轉(zhuǎn)換成電荷。對于包括間接轉(zhuǎn)換檢測器陣列元件的檢測器陣列而言，傳統(tǒng)檢測器元件不共用同一閃爍體并且不共用同一光電檢測器。例如，第一檢測器元件的第一閃爍體與相鄰檢測器元件的第二閃爍體通過被配置成減輕第一閃爍體中生成的光被轉(zhuǎn)移到第二檢測器元件的反射材料來隔開。通過這種方式，例如減輕了檢測器元件之間的光學(xué)串擾。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本申請的各個方面解決了上述問題以及其他問題。根據(jù)一方面，提供了一種檢測器陣列。檢測器陣列包括閃爍體，所述閃爍體被配置成響應(yīng)于檢測事件生成發(fā)光光子。檢測器陣列還包括多個光電檢測器，所述多個光電檢測器位于接近閃爍體的下側(cè)并且被配置成對所述發(fā)光光子中的至少一些發(fā)光光子進行檢測。閃爍體大體上連續(xù)地分布在所述多個光電檢測器中的至少兩個光電檢測器上。根據(jù)另一方面，提供了一種檢測器陣列。檢測器陣列包括閃爍體，所述閃爍體被配置成響應(yīng)于檢測事件生成發(fā)光光子。檢測器陣列還包括多個光電檢測器，所述多個光電檢測器位于接近閃爍體的下側(cè)并且被配置成對所述發(fā)光光子中的至少一些發(fā)光光子進行檢測。所述多個光電檢測器中的至少兩個光電檢測器共用閃爍體。根據(jù)另一方面，提供了一種輻射成像系統(tǒng)。輻射成像系統(tǒng)包括輻射源和檢測器陣列，所述輻射源被配置成發(fā)射輻射光子，以及檢測器陣列包括多個檢測器元件。所述多個檢測器元件中的第一檢測器元件包括共用閃爍體的第一部分以及位于接近所述第一部分的下側(cè)的第一光電檢測器。所述多個檢測器元件中的第二檢測器元件包括共用閃爍體的第二部分以及位于接近所述第二部分的下側(cè)的第二光電檢測器。通過閱讀和理解所附的說明書，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員仍能理解本申請的其他方面。附圖說明本申請借助于示例進行說明而并非限定于附圖中的各圖示，其中，相同的附圖標記表示相同的元件，并且在附圖中：圖1是示出了示例性輻射成像系統(tǒng)的示意性框圖；圖2是傳統(tǒng)檢測器陣列的橫截面圖；圖3是包括共用閃爍體的檢測器陣列的橫截面圖；圖4示出了示例性檢測器陣列的透視圖；圖5示出了示例性檢測器陣列的透視圖；以及圖6示出了示例性檢測器陣列的透視圖。具體實施方式現(xiàn)在參考附圖對所要求保護的主題進行描述，其中，全文中相似的附圖標記用于表示相似的要素。在以下說明書中，出于解釋的目的，對各種具體細節(jié)進行了闡述以提供對所要求保護的主題的透徹理解。然而，明顯的是，在沒有這些具體細節(jié)的情況下，也可以實現(xiàn)所要求保護的主題。在其他情況下，以框圖形式示出了結(jié)構(gòu)和裝置，以便于描述所要求保護的主題。根據(jù)一些實施例，提供了一種間接轉(zhuǎn)換檢測器陣列。該間接轉(zhuǎn)換檢測器陣列包括兩個或更多個檢測器元件所共用的閃爍體。例如，第一檢測器元件包括第一光電檢測器和共用閃爍體的第一部分。第二檢測器元件包括第二光電檢測器和所述共用閃爍體的第二部分。因此，考慮到該閃爍體是共用閃爍體，在一些實施例中，第一檢測器元件與第二檢測器元件之間沒有反射材料。此外，因為第一檢測器元件與第二檢測器元件共用閃爍體，閃爍體中第一光電檢測器與第二光電檢測器之間存在很少的切線(如果存在切線)。圖1示出了輻射成像系統(tǒng)100，該輻射成像系統(tǒng)100可以采用本文所描述的方法和/或系統(tǒng)。在所示出的實施例中，輻射成像系統(tǒng)100是計算機斷層掃描(CT)系統(tǒng)，然而本文所述的系統(tǒng)和/或技術(shù)也可應(yīng)用于諸如線掃描系統(tǒng)，乳腺X線攝影系統(tǒng)和/或衍射系統(tǒng)之類的其它輻射成像系統(tǒng)。因此，輻射成像系統(tǒng)100僅提供示例性布置，并且不旨在以限制性方式(例如，必須指定輻射成像系統(tǒng)100中描繪的部件的位置、內(nèi)含物和/或相對位置)進行解釋。例如，在一些實施例中，數(shù)據(jù)采集部件122(也認為是數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)(DAS))是檢測器陣列118的一部分和/或位于檢查單元102的旋轉(zhuǎn)臺架106上。在示例性輻射成像系統(tǒng)100中，檢查單元102被配置成檢查對象104(例如，行李箱、貨物、患者等)。檢查單元102包括旋轉(zhuǎn)臺架106和(固定的)支撐結(jié)構(gòu)108，例如，該支撐結(jié)構(gòu)108可包圍和/或圍繞旋轉(zhuǎn)臺架106的至少一部分(例如，如所示出的那樣，外部固定環(huán)圍繞著內(nèi)旋轉(zhuǎn)環(huán)的外邊緣)。在對象104的檢查期間，將對象104放置在諸如床或傳送帶之類的支撐件110上，并且放置在檢查區(qū)域112(例如，旋轉(zhuǎn)臺架106中的中空孔)內(nèi)，在檢查區(qū)域112中，對象104暴露于輻射120。旋轉(zhuǎn)臺架106可以圍繞檢查區(qū)域112的一部分并且可以包括輻射源116(例如，諸如x射線源和/或伽馬射線源的電離輻射源)和檢測器陣列118。檢測器陣列118通常安裝在相對于輻射源116的旋轉(zhuǎn)臺架106的基本上沿直徑相對的一側(cè)，并且在對對象104的檢查期間，旋轉(zhuǎn)臺架106(例如，包括輻射源116和檢測器陣列118)圍繞對象104旋轉(zhuǎn)。通常，旋轉(zhuǎn)臺架106在其中旋轉(zhuǎn)的平面被定義為x-y平面，對象沿著其平移到檢查區(qū)域112內(nèi)和沿著其從檢查區(qū)域112平移出來的方向稱之為z方向。因為輻射源116和檢測器陣列118被安裝至同一旋轉(zhuǎn)臺架106，所以在旋轉(zhuǎn)臺架106的旋轉(zhuǎn)期間，檢測器陣列118與輻射源116之間的相對位置大體上保持不變。在對象104的檢查期間，輻射源116將錐形和/或扇形輻射形態(tài)從輻射源116的焦斑(例如，輻射源116內(nèi)、從其中發(fā)散輻射120的區(qū)域)發(fā)射到檢查區(qū)域112。這樣的輻射120可以大體上連續(xù)地發(fā)射和/或可以間歇地發(fā)射(例如，輻射120的短脈沖被發(fā)射之后，接下來是休息時段，在該休息時段期間輻射源116是未激活的)。此外，輻射120可以以單一能量譜或多能量譜進行發(fā)射，除此之外，這取決于CT系統(tǒng)是被配置成單一能量CT系統(tǒng)還是被配置成多能量(例如，雙能量)CT系統(tǒng)。隨著所發(fā)射的輻射120穿過對象104，輻射120會在對象104的不同特定部分出現(xiàn)不同程度的衰減。由于不同特定部分衰減不同百分比的輻射120，因此由檢測器陣列118中的各個檢測器元件所檢測到的光子數(shù)量和或各個光子的能級會不同。例如，本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】
一種檢測器陣列，包括：閃爍體，所述閃爍體被配置成響應(yīng)于檢測事件生成發(fā)光光子；以及多個光電檢測器，所述多個光電檢測器位于接近所述閃爍體的下側(cè)并且被配置成對所述發(fā)光光子中的至少一些發(fā)光光子進行檢測，所述閃爍體大體上連續(xù)地分布在所述多個光電檢測器中的至少兩個光電檢測器上。

【技術(shù)特征摘要】
【國外來華專利技術(shù)】1.一種檢測器陣列，包括：閃爍體，所述閃爍體被配置成響應(yīng)于檢測事件生成發(fā)光光子；以及多個光電檢測器，所述多個光電檢測器位于接近所述閃爍體的下側(cè)并且被配置成對所述發(fā)光光子中的至少一些發(fā)光光子進行檢測，所述閃爍體大體上連續(xù)地分布在所述多個光電檢測器中的至少兩個光電檢測器上。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測器陣列，所述至少兩個光電檢測器中的第一光電檢測器與所述至少兩個光電檢測器中的第二光電檢測器以一間隙隔開，并且，其中，所述閃爍體大體上連續(xù)地分布在所述第一光電檢測器、所述間隙以及所述第二光電檢測器上。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測器陣列，其中，所述閃爍體的在所述至少兩個光電檢測器中的第一光電檢測器上的第一部分與所述閃爍體的在所述至少兩個光電檢測器中的第二光檢測器上的第二部分之間沒有反射材料。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測器陣列，所述閃爍體包括硫氧化釓(GOS)陶瓷材料。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測器陣列，所述閃爍體被粘合至所述至少兩個光電檢測器。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測器陣列，所述閃爍體大體上連續(xù)地分布在至少三個光電檢測器上，其中，所述至少三個光電檢測器中的第一光電檢測器和所述至少三個光電檢測器中的第二光電檢測器形成一行光電檢測器，以及所述第一光電檢測器和所述至少三個光電檢測器中的第三光電檢測器形成一列光電檢測器。7.一種檢測器陣列，包括：閃爍體，所述閃爍體被配置成響應(yīng)于檢測事件生成發(fā)光光子；以及多個光電檢測器，所述多個光電檢測器位于接近所述閃爍體的下側(cè)并且被配置成對所述發(fā)光光子中的至少一些發(fā)光光子進行檢測，所述多個光電檢測器中的至少兩個光電檢測器共用所述閃爍體。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的檢測器陣列，所述閃爍體被粘合至所述至少兩個光電檢測器。9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的檢測器陣列，所述閃爍體被至少三個光電檢測器共用，其中，所述至少三個光電檢測器中的第一光電檢測器和所述...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：魯溫·戴馳，A·利特溫，弗拉丹·里斯丹維克，
申請(專利權(quán))人：模擬技術(shù)公司，
類型：發(fā)明
國別省市：美國,US