真空及非真空無痕真空鍍膜上片結構制造技術

本實用新型專利技術公開了真空及非真空無痕真空鍍膜上片結構；所述的真空無痕真空鍍膜上片結構其中：基板的上端面上設置有矩形內凹槽；矩形內凹槽的底部設置有通孔；通孔通過真空管與真空蓄壓罐的一端相連；所述的非真空無痕真空鍍膜上片結構，其中：基板1的一側從上往下依次設置有單面高溫膠帶2、隔離膜層4；立式鍍膜機則比較難實現無痕真空鍍膜，現有的有使用整面涂膠在載體上，然后再將需要鍍膜產品貼上去，經過烘烤或UV等工藝實現無痕鍍膜。然該鍍膜方式不僅工藝繁多，降低生產良率；且該類膠的價格昂貴，工藝不穩定，一但發生膠的有機物在真空中揮發則造成膜層質量異常；本實用新型專利技術的優點在于：結構簡單，便于操作。

Vacuum and non vacuum non marking vacuum coating upper slice structure

The utility model discloses a vacuum and non vacuum vacuum coating on seamless sheet structure; the vacuum vacuum coating on seamless sheet structure the upper end surface of the base plate is arranged on the rectangular groove; the rectangle and the bottom of the groove is provided with a through hole; the through hole through the vacuum tube connected with the vacuum storage tank end pressure the non vacuum; no trace of vacuum coating on sheet structure, including: one side of the 1 substrate from the top is arranged with a single high temperature adhesive tape 2, isolation layer 4; vertical coating machine is more difficult to achieve seamless vacuum coating, the entire surface coating used on the carrier, and then need coating products paste up, after baking or UV process to achieve seamless coating. However, the coating not only the process of variety, reduce the production yield; and the glue is expensive, technology is not stable, but the occurrence of organic glue in vacuum volatilization is caused by abnormal film quality; the utility model has the advantages of simple structure, convenient operation.

【技術實現步驟摘要】
真空及非真空無痕真空鍍膜上片結構
本技術涉及一種無痕真空鍍膜上片結構，尤其是涉及真空及非真空無痕真空鍍膜上片結構。
技術介紹
現在的真空鍍膜方式基本上是使用治具載體裝卡產品鍍膜的，鍍膜后會留下卡具痕跡。現有無痕真空鍍膜方式主要有1.1臥式鍍膜機臥式鍍膜，將玻璃平放在載體上鍍膜，此方式容易有落塵，導致生產良率低1.2立式鍍膜機則比較難實現無痕真空鍍膜，現有的有使用整面涂膠在載體上，然后再將需要鍍膜產品貼上去，經過烘烤或UV等工藝實現無痕鍍膜。然該鍍膜方式不僅工藝繁多，降低生產良率；且該類膠的價格昂貴，工藝不穩定，一但發生膠的有機物在真空中揮發則造成膜層質量異常。
技術實現思路
本技術要解決的任務是提供真空及非真空無痕真空鍍膜上片結構，使得達到便于操作，實現無痕鍍膜的目的。為了解決上述問題，本技術是通過以下技術方案實現的：真空無痕真空鍍膜上片結構，包括：基板、矩形內凹槽、通孔、真空管、真空蓄壓罐、閥門；其中：基板的上端面上設置有矩形內凹槽；矩形內凹槽的底部設置有通孔；通孔通過真空管與真空蓄壓罐的一端相連；真空管上設置有閥門。非真空無痕真空鍍膜上片結構，包括：基板、單面高溫膠帶、凹槽、隔離膜層、雙面高溫膠帶、待加工產品、滑板；其中：基板的一側從上往下依次設置有單面高溫膠帶、隔離膜層；所述的單面高溫膠帶2沾粘在基板上；所述的隔離膜層固定在基板上；所述的單面高溫膠帶的上端面上沾粘有雙面高溫膠帶；雙面高溫膠帶的上端面與待加工產品的非鍍膜面沾粘。非真空無痕真空鍍膜上片結構，其中：所述的基板上靠近待加工產品的一側設置有凹槽；凹槽位于單面高溫膠帶與隔離膜層之間；凹槽內設置有滑動連接的滑板；所述的滑板的截面形狀為T型。本技術的優點在于：結構簡單，便于操作，真空無痕真空鍍膜上片結構通過設置通孔、真空管實現了簡便操作，與無痕鍍膜；非真空無痕真空鍍膜上片結構通過雙面膠帶的固定，實現了無痕鍍膜、同時降低成本，便于操作，。附圖說明圖1為本技術實施例1的結構示意圖。圖2為實施例1的基板的正視圖。圖3為實施例2的正視圖。圖4為實施例2的側視圖。附圖標記：基板1、單面高溫膠帶2、凹槽3、隔離膜層4、雙面高溫膠帶5、待加工產品6、滑板7、矩形內凹槽11、通孔12、真空管13、真空蓄壓罐15、閥門14。具體實施方式實施例1、真空無痕真空鍍膜上片結構，包括：基板1、矩形內凹槽11、通孔12、真空管13、真空蓄壓罐15、閥門14；其中：基板1的上端面上設置有矩形內凹槽11；矩形內凹槽11的底部設置有通孔12；通孔12通過真空管13與真空蓄壓罐15的一端相連；真空管13上設置有閥門14。實施例2、非真空無痕真空鍍膜上片結構，包括：基板1、單面高溫膠帶2、凹槽3、隔離膜層4、雙面高溫膠帶5、待加工產品6、滑板7；其中：基板1的一側從上往下依次設置有單面高溫膠帶2、隔離膜層4；所述的單面高溫膠帶2沾粘在基板1上；所述的隔離膜層4固定在基板1上；所述的單面高溫膠帶2的上端面上沾粘有雙面高溫膠帶5；雙面高溫膠帶5的上端面與待加工產品6的非鍍膜面沾粘。實施例3、非真空無痕真空鍍膜上片結構，其中：所述的基板1上靠近代加工產品6的一側設置有凹槽3；凹槽3位于單面高溫膠帶2與隔離膜層4之間；凹槽3內設置有滑動連接的滑板7；所述的滑板7的截面形狀為T型。其余同實施例2。工作原理：本專利涉及的兩種上片結構都只是適用于用于立式鍍膜機；真空無痕真空鍍膜上片結構中所述的矩形內凹槽11內放置待加工產品6，待加工產品6的非鍍膜面朝向通孔12放置，開啟所述的閥門14，通過真空作用將待加工產品6吸附在矩形內凹槽11內，并結合矩形內凹槽11實現對待加工產品6的固定，在實現無痕鍍膜的同時操作簡便了許多；此外所述的非真空無痕真空鍍膜上片結構，通過設置雙面高溫膠帶5實現待加工產品6的固定，設置的隔離膜層4很夠起到防止待加工產品6被基板1劃傷，設置的可以滑動并可拆卸的滑板7可以便于操作人員快速定位單面高溫膠帶2與隔離膜層4的位置，便于快速沾粘單面高溫膠帶2與安裝隔離膜層4；提升了生產效率，便于操作，同時還能夠實現無痕鍍膜，降低了生產成本。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
真空無痕真空鍍膜上片結構，包括：基板、矩形內凹槽、通孔、真空管、真空蓄壓罐、閥門；其特征在于：基板的上端面上設置有矩形內凹槽；矩形內凹槽的底部設置有通孔；通孔通過真空管與真空蓄壓罐的一端相連；真空管上設置有閥門。

【技術特征摘要】
1.真空無痕真空鍍膜上片結構，包括：基板、矩形內凹槽、通孔、真空管、真空蓄壓罐、閥門；其特征在于：基板的上端面上設置有矩形內凹槽；矩形內凹槽的底部設置有通孔；通孔通過真空管與真空蓄壓罐的一端相連；真空管上設置有閥門。2.非真空無痕真空鍍膜上片結構，包括：基板、單面高溫膠帶、凹槽、隔離膜層、雙面高溫膠帶、待加工產品、滑板；其特征在于：基板的一側從上往下依次設置有單面高溫膠...

【專利技術屬性】
技術研發人員：嚴順智，
申請(專利權)人：南昌市正星光電技術有限公司，
類型：新型
國別省市：江西,36