基板處理裝置以及基板處理方法制造方法及圖紙

提供一種在搬運(yùn)多張基板時(shí)的調(diào)度表生成中，能夠生成時(shí)間效率高的調(diào)度表的技術(shù)。本發(fā)明專(zhuān)利技術(shù)的調(diào)度表生成裝置，在通過(guò)處理部對(duì)多張基板進(jìn)行處理并搬運(yùn)時(shí)的調(diào)度表生成中，判斷是否能夠通過(guò)一并搬出流程使搬運(yùn)比通過(guò)依次搬出流程早結(jié)束，然后根據(jù)判斷結(jié)果選擇性地采用一并搬出流程或依次搬出流程。其中，依次搬出流程是以能夠開(kāi)始進(jìn)行搬運(yùn)處理的時(shí)刻早的順序?qū)⒏骰灏徇\(yùn)至規(guī)定的搬運(yùn)目的地的流程，一并搬出流程時(shí)在后基板的搬運(yùn)處理能夠開(kāi)始的時(shí)刻之前不搬運(yùn)能夠開(kāi)始進(jìn)行搬運(yùn)處理的基板，而在變?yōu)樵诤蠡宓陌徇\(yùn)處理能夠開(kāi)始的時(shí)刻時(shí)一并將多張基板搬運(yùn)至搬運(yùn)目的地的流程。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
基板處理裝置以及基板處理方法本申請(qǐng)是申請(qǐng)?zhí)枮?01380049382.0、申請(qǐng)日為2013年7月25日、專(zhuān)利技術(shù)名稱(chēng)為“調(diào)度表生成裝置以及方法、基板處理裝置以及方法”的專(zhuān)利申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。
本專(zhuān)利技術(shù)涉及對(duì)基板處理的流程進(jìn)行計(jì)劃的調(diào)度表生成裝置、具有該調(diào)度表生成裝置的基板處理裝置、調(diào)度表生成方法以及基板處理方法。
技術(shù)介紹
具有多種對(duì)基板進(jìn)行處理的基板處理裝置。例如，專(zhuān)利文獻(xiàn)1的基板處理裝置，經(jīng)由基板翻轉(zhuǎn)單元以及基板載置部將對(duì)未處理基板以及已處理基板進(jìn)行收集的分度器部、對(duì)基板進(jìn)行清洗等處理的處理部連接。在分度器部以及處理部分別配置各部專(zhuān)用的搬運(yùn)機(jī)械手。在專(zhuān)利文獻(xiàn)1中公開(kāi)了具有獨(dú)立被驅(qū)動(dòng)來(lái)前進(jìn)或后退的兩個(gè)臂部的分度器部用搬運(yùn)機(jī)械手(主機(jī)械手)。另外，在該兩個(gè)臂部各自的頂端設(shè)置有基板保持手部，該基板保持手部能夠保持兩張基板，因此共計(jì)能夠搬運(yùn)4張基板。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)1：JP特開(kāi)2010-45214號(hào)公報(bào)
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
專(zhuān)利技術(shù)要解決的問(wèn)題但是，在該文獻(xiàn)中，沒(méi)有公開(kāi)在一系列的基板處理中主機(jī)械手在哪個(gè)時(shí)刻應(yīng)該訪問(wèn)哪個(gè)處理單元。因此，在一系列的基板處理中，不能夠確切地根據(jù)狀況設(shè)定各基板的搬運(yùn)調(diào)度表。本專(zhuān)利技術(shù)是鑒于上述的問(wèn)題而提出的，其目的在于提供一種在一系列的基板處理中，能夠確切地根據(jù)狀況設(shè)定各基板的搬運(yùn)調(diào)度表，來(lái)提高基板處理裝置的生產(chǎn)率的技術(shù)。用于解決問(wèn)題的手段為了解決上述的問(wèn)題，第1方式的調(diào)度表生成裝置，用于生成基板處理裝置的控制調(diào)度表，該控制調(diào)度表包括搬運(yùn)處理的調(diào)度表，該搬運(yùn)處理指，利用規(guī)定的搬運(yùn)單元將被多個(gè)處理單元并行且在彼此獨(dú)立的時(shí)刻處理過(guò)的多張基板向規(guī)定的搬運(yùn)目的地搬運(yùn)的處理，該調(diào)度表生成裝置的特征在于，具有比較單元和選擇性調(diào)度表生成單元，該比較單元針對(duì)在先基板和在后基板相互比較第1判定用時(shí)刻值和第2判定用時(shí)刻值，所述在先基板指，通過(guò)所述多個(gè)處理單元中的任意的一處理單元進(jìn)行的處理先結(jié)束的基板，所述在后基板指，通過(guò)所述多個(gè)處理單元中的與所述一處理單元不同的處理單元進(jìn)行的處理在所述在先基板的處理結(jié)束之后結(jié)束的基板，在將對(duì)所述在先基板進(jìn)行處理的處理單元稱(chēng)為第1處理單元，將對(duì)所述在后基板進(jìn)行處理的處理單元稱(chēng)為第2處理單元時(shí)，所述第1判定用時(shí)刻值為與依次搬出流程結(jié)束的時(shí)刻相對(duì)應(yīng)的時(shí)刻值，所述依次搬出流程為，依次對(duì)所述在先基板和所述在后基板進(jìn)行所述搬運(yùn)處理的搬出時(shí)序，所述第2判定用時(shí)刻值為與一并搬出流程結(jié)束的時(shí)刻相對(duì)應(yīng)的時(shí)刻值，所述一并搬出流程表為，使所述在先基板待機(jī)至通過(guò)所述第2處理單元對(duì)所述在后基板進(jìn)行的處理結(jié)束為止，并在對(duì)所述在后基板的處理結(jié)束之后，對(duì)所述在先基板和所述在后基板一并進(jìn)行所述搬運(yùn)處理的搬出時(shí)序；在所述第1判定用時(shí)刻值比所述第2判定用時(shí)刻值早時(shí)，所述選擇性調(diào)度表生成單元采用所述依次搬出流程來(lái)生成所述基板處理裝置的調(diào)度表數(shù)據(jù)，在所述第2判定用時(shí)刻值比所述第1判定用時(shí)刻值早時(shí)，所述選擇性調(diào)度表生成單元采用所述一并搬出流程來(lái)生成所述基板處理裝置的調(diào)度表數(shù)據(jù)。第2方式的調(diào)度表生成裝置，在第1方式的調(diào)度表生成裝置中，其特征在于，所述比較單元代替所述第1判定用時(shí)刻值采用表示第一特定時(shí)刻的時(shí)刻值作為所述第1判定用時(shí)刻值，該第一特定時(shí)刻指，比通過(guò)處理部對(duì)所述在先基板進(jìn)行的處理結(jié)束的時(shí)刻延遲包含往返所需時(shí)間的時(shí)間的時(shí)刻，所述比較單元代替所述第2判定用時(shí)刻值采用表示第二特定時(shí)刻的時(shí)刻值作為所述第2判定用時(shí)刻值，該第二特定時(shí)刻指，通過(guò)所述處理部對(duì)所述在后基板進(jìn)行的處理結(jié)束的時(shí)刻。第3方式的調(diào)度表生成裝置，在第2方式的調(diào)度表生成裝置中，其特征在于，在通過(guò)所述多個(gè)處理單元進(jìn)行的處理結(jié)束的基板被所述搬運(yùn)單元保持為止的期間，存在需要規(guī)定的中間處理時(shí)間的中間處理，所述中間處理是不能對(duì)兩張以上的基板同時(shí)執(zhí)行，僅能夠依次逐張地對(duì)基板執(zhí)行的排他性處理，將通過(guò)所述第1處理單元對(duì)所述在先基板進(jìn)行的處理結(jié)束的預(yù)計(jì)時(shí)刻作為第1處理結(jié)束預(yù)計(jì)時(shí)刻，將通過(guò)所述第2處理單元對(duì)所述在后基板進(jìn)行的處理結(jié)束的預(yù)計(jì)時(shí)刻作為第2處理結(jié)束預(yù)計(jì)時(shí)刻，所述比較單元基于與所述第1處理結(jié)束預(yù)計(jì)時(shí)刻相比延遲包含所述中間處理時(shí)間和所述往返所需時(shí)間的時(shí)間的時(shí)刻，確定所述第1判定用時(shí)刻值，所述比較單元基于所述第2處理結(jié)束預(yù)計(jì)時(shí)刻，確定所述第2判定用時(shí)刻值。第4方式的調(diào)度表生成裝置，在第3方式的調(diào)度表生成裝置中，其特征在于，所述搬運(yùn)單元具有多個(gè)基板保持單元，所述多個(gè)基板保持單元能夠分別從所述多個(gè)處理單元一次取出一張基板，所述中間處理是從所述多個(gè)基板保持單元所對(duì)應(yīng)的處理單元取出基板的處理。第5方式調(diào)度表生成裝置，在第1方式的調(diào)度表生成裝置中，其特征在于，預(yù)先將所述調(diào)度表中的針對(duì)各基板的各單位工序的時(shí)間長(zhǎng)度規(guī)定為時(shí)間區(qū)段，所述選擇性調(diào)度表生成單元具有：確定候補(bǔ)確定單元，從基本調(diào)度表中以開(kāi)始預(yù)計(jì)時(shí)刻早的順序選擇各區(qū)段作為確定候補(bǔ)區(qū)段，該基本調(diào)度表是，連續(xù)排列與針對(duì)所述在先基板和所述在后基板進(jìn)行的一系列工序相對(duì)應(yīng)的時(shí)間區(qū)段而生成的時(shí)序，確定單元，基于所述在先基板和所述在后基板各自的時(shí)間區(qū)段相互間的規(guī)定的配置條件，確定所述確定候補(bǔ)區(qū)段的配置時(shí)間段；所述確定單元基于所述第1判定用時(shí)刻值與所述第2判定用時(shí)刻值的比較結(jié)果，確定所述確定候補(bǔ)區(qū)段的配置時(shí)間段。第6方式的調(diào)度表生成裝置，在第1方式的調(diào)度表生成裝置中，其特征在于，所述搬運(yùn)單元能夠同時(shí)保持搬運(yùn)最大保持?jǐn)?shù)(Nmax)的基板，該最大保持?jǐn)?shù)(Nmax)為3個(gè)以上的值，并且，所述選擇性調(diào)度表生成單元，一邊從應(yīng)該搬運(yùn)的多張基板中依次成對(duì)地選擇所述在先基板和所述在后基板，一邊針對(duì)所選擇的所述在先基板和所述在后基板比較所述第1判定用時(shí)刻值和所述第2判定用時(shí)刻值，由此選擇依次搬運(yùn)流程、部分一并搬運(yùn)流程和全部一并搬運(yùn)流程中的一個(gè)流程，來(lái)生成所述基板處理裝置的調(diào)度表數(shù)據(jù)，其中，所述依次搬運(yùn)流程為依次搬運(yùn)各基板的時(shí)序，所述部分一并搬運(yùn)流程為一并搬運(yùn)最大保持?jǐn)?shù)(Nmax)的基板中的一部分基板的時(shí)序，所述全部一并搬運(yùn)流程為一并搬運(yùn)最大保持?jǐn)?shù)(Nmax)的基板的時(shí)序。第7方式的調(diào)度表生成裝置，在第1方式的調(diào)度表生成裝置中，其特征在于，所述多個(gè)處理單元各自進(jìn)行的處理是，在該處理結(jié)束的基板從各處理單元被所述搬運(yùn)單元搬出的時(shí)間點(diǎn)，基板變?yōu)楦稍餇顟B(tài)且非高溫狀態(tài)的處理。第8方式的調(diào)度表生成裝置，在第1方式的調(diào)度表生成裝置中，其特征在于，在所述第1判定用時(shí)刻值和所述第2判定用時(shí)刻值為同一時(shí)刻時(shí)，所述選擇性調(diào)度表生成單元采用所述依次搬出流程來(lái)生成所述基板處理裝置的調(diào)度表數(shù)據(jù)。第9方式的調(diào)度表生成裝置，在第1方式的調(diào)度表生成裝置中，其特征在于，在所述第1判定用時(shí)刻值和所述第2判定用時(shí)刻值為同一時(shí)刻時(shí)，所述選擇性調(diào)度表生成單元采用所述一并搬出流程來(lái)生成所述基板處理裝置的調(diào)度表數(shù)據(jù)。第10方式的調(diào)度表生成裝置，在第1方式的調(diào)度表生成裝置中，其特征在于，所述規(guī)定的搬運(yùn)目的地包括在鉛垂方向上隔開(kāi)規(guī)定距離設(shè)置的4個(gè)基板載置部，所述搬運(yùn)單元具有對(duì)應(yīng)于所述4個(gè)基板載置部在鉛垂方向上隔開(kāi)規(guī)定距離設(shè)置的4個(gè)基板保持單元，能夠在水平方向上分別單獨(dú)地驅(qū)動(dòng)所述4個(gè)基板保持單元，由此能夠使所述4個(gè)基板保持單元彼此單獨(dú)地與所述4個(gè)基板保持單元分別對(duì)應(yīng)的所述4個(gè)基板載置部交接基板。第11方式的調(diào)度表本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種基板處理裝置，具有：多個(gè)處理單元，用于處理基板；搬運(yùn)單元，能夠?qū)⒈凰龆鄠€(gè)處理單元并行且在彼此獨(dú)立的時(shí)刻處理過(guò)的多張基板向規(guī)定的搬運(yùn)目的地搬運(yùn)；以及控制單元，控制所述多個(gè)處理單元以及所述搬運(yùn)單元，該基板處理裝置的特征在于，所述控制單元執(zhí)行針對(duì)在先基板和在后基板相互比較第1判定用時(shí)刻值和第2判定用時(shí)刻值的比較工序，所述在先基板指，通過(guò)所述多個(gè)處理單元中的任意的一處理單元進(jìn)行的處理先結(jié)束的基板，所述在后基板指，通過(guò)所述多個(gè)處理單元中的與所述一處理單元不同的處理單元進(jìn)行的處理在所述在先基板的處理結(jié)束之后結(jié)束的基板，將對(duì)所述在先基板進(jìn)行處理的處理單元稱(chēng)為第1處理單元，將對(duì)所述在后基板進(jìn)行處理的處理單元稱(chēng)為第2處理單元，所述第1判定用時(shí)刻值為與依次搬出流程結(jié)束的時(shí)刻相對(duì)應(yīng)的時(shí)刻值，所述依次搬出流程為，依次對(duì)所述在先基板和所述在后基板進(jìn)行所述搬運(yùn)處理的搬出時(shí)序，所述第2判定用時(shí)刻值為與一并搬出流程結(jié)束的時(shí)刻相對(duì)應(yīng)的時(shí)刻值，所述一并搬出流程表為，使所述在先基板待機(jī)至通過(guò)所述第2處理單元對(duì)所述在后基板進(jìn)行的處理結(jié)束為止，并在對(duì)所述在后基板的處理結(jié)束之后，對(duì)所述在先基板和所述在后基板一并進(jìn)行所述搬運(yùn)處理的搬出時(shí)序；在所述第1判定用時(shí)刻值比所述第2判定用時(shí)刻值早時(shí)，所述控制單元控制所述搬運(yùn)單元，使得采用所述依次搬出流程搬運(yùn)所述在先基板和所述在后基板，在所述第2判定用時(shí)刻值比所述第1判定用時(shí)刻值早時(shí)，所述控制單元控制所述搬運(yùn)單元，使得采用所述一并搬出流程來(lái)搬運(yùn)所述在先基板和所述在后基板。...

【技術(shù)特征摘要】
2012.09.21 JP 2012-208333;2013.03.14 JP 2013-051511.一種基板處理裝置，具有：多個(gè)處理單元，用于處理基板；搬運(yùn)單元，能夠?qū)⒈凰龆鄠€(gè)處理單元并行且在彼此獨(dú)立的時(shí)刻處理過(guò)的多張基板向規(guī)定的搬運(yùn)目的地搬運(yùn)；以及控制單元，控制所述多個(gè)處理單元以及所述搬運(yùn)單元，該基板處理裝置的特征在于，所述控制單元執(zhí)行針對(duì)在先基板和在后基板相互比較第1判定用時(shí)刻值和第2判定用時(shí)刻值的比較工序，所述在先基板指，通過(guò)所述多個(gè)處理單元中的任意的一處理單元進(jìn)行的處理先結(jié)束的基板，所述在后基板指，通過(guò)所述多個(gè)處理單元中的與所述一處理單元不同的處理單元進(jìn)行的處理在所述在先基板的處理結(jié)束之后結(jié)束的基板，將對(duì)所述在先基板進(jìn)行處理的處理單元稱(chēng)為第1處理單元，將對(duì)所述在后基板進(jìn)行處理的處理單元稱(chēng)為第2處理單元，所述第1判定用時(shí)刻值為與依次搬出流程結(jié)束的時(shí)刻相對(duì)應(yīng)的時(shí)刻值，所述依次搬出流程為，依次對(duì)所述在先基板和所述在后基板進(jìn)行所述搬運(yùn)處理的搬出時(shí)序，所述第2判定用時(shí)刻值為與一并搬出流程結(jié)束的時(shí)刻相對(duì)應(yīng)的時(shí)刻值，所述一并搬出流程表為，使所述在先基板待機(jī)至通過(guò)所述第2處理單元對(duì)所述在后基板進(jìn)行的處理結(jié)束為止，并在對(duì)所述在后基板的處理結(jié)束之后，對(duì)所述在先基板和所述在后基板一并進(jìn)行所述搬運(yùn)處理的搬出時(shí)序；在所述第1判定用時(shí)刻值比所述第2判定用時(shí)刻值早時(shí)，所述控制單元控制所述搬運(yùn)單元，使得采用所述依次搬出流程搬運(yùn)所述在先基板和所述在后基板，在所述第2判定用時(shí)刻值比所述第1判定用時(shí)刻值早時(shí)，所述控制單元控制所述搬運(yùn)單元，使得采用所述一并搬出流程來(lái)搬運(yùn)所述在先基板和所述在后基板。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，所述控制單元，在所述比較工序中，代替所述第1判定用時(shí)刻值采用表示第一特定時(shí)刻的時(shí)刻值作為所述第1判定用時(shí)刻值，該第一特定時(shí)刻指，比通過(guò)所述處理單元對(duì)所述在先基板進(jìn)行的處理結(jié)束的時(shí)刻延遲包含往返所需時(shí)間的時(shí)間的時(shí)刻，并且，代替所述第2判定用時(shí)刻值采用表示第二特定時(shí)刻的時(shí)刻值作為所述第2判定用時(shí)刻值，該第二特定時(shí)刻指，通過(guò)所述處理單元對(duì)所述在后基板進(jìn)行的處理結(jié)束的時(shí)刻。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，該基板處理裝置還具有用于進(jìn)行中間處理的中間處理單元，該中間處理在通過(guò)所述多個(gè)處理單元進(jìn)行的處理結(jié)束的基板被所述搬運(yùn)單元保持為止的期間，需要規(guī)定的中間處理時(shí)間，所述中間處理是不能對(duì)兩張以上的基板同時(shí)執(zhí)行，僅能夠依次逐張地對(duì)基板執(zhí)行的排他性處理，將通過(guò)所述第1處理單元對(duì)所述在先基板進(jìn)行的處理結(jié)束的預(yù)計(jì)時(shí)刻作為第1處理結(jié)束預(yù)計(jì)時(shí)刻，將通過(guò)所述第2處理單元對(duì)所述在后基板進(jìn)行的處理結(jié)束的預(yù)計(jì)時(shí)刻作為第2處理結(jié)束預(yù)計(jì)時(shí)刻，所述控制單元，在所述比較工序中，基于與所述第1處理結(jié)束預(yù)計(jì)時(shí)刻相比延遲包含所述中間處理時(shí)間和所述往返所需時(shí)間的時(shí)間的時(shí)刻，確定所述第1判定用時(shí)刻值，并且，基于所述第2處理結(jié)束預(yù)計(jì)時(shí)刻，確定所述第2判定用時(shí)刻值。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于，所述搬運(yùn)單元具有多個(gè)基板保持單元，所述多個(gè)基板保持單元能夠分別從所述多個(gè)處理單元一次取出一張基板，所述中間處理是從所述多個(gè)基板保持單元所對(duì)應(yīng)的處理單元取出基板的處理。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，所述搬運(yùn)單元能夠同時(shí)保持搬運(yùn)最大保持?jǐn)?shù)Nmax的基板，該最大保持?jǐn)?shù)Nmax為3個(gè)以上的值，并且，所述控制單元，一邊從應(yīng)該搬運(yùn)的多張基板中依次成對(duì)地選擇所述在先基板和所述在后基板，一邊針對(duì)所選擇的所述在先基板和所述在后基板比較所述第1判定用時(shí)刻值和所述第2判定用時(shí)刻值，由此選擇依次搬運(yùn)流程、部分一并搬運(yùn)流程和全部一并搬運(yùn)流程中的一個(gè)流程，來(lái)控制所述搬運(yùn)單元，其中，所述依次搬運(yùn)流程為依次搬運(yùn)各基板的時(shí)序，所述部分一并搬運(yùn)流程為一并搬運(yùn)最大保持?jǐn)?shù)Nmax的基板中的一部分基板的時(shí)序，所述全部一并搬運(yùn)流程為一并搬運(yùn)最大...

【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：平藤裕司，
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人：斯克林集團(tuán)公司，
類(lèi)型：發(fā)明
國(guó)別省市：日本,JP