The invention provides a high temperature resistant hydrophobic quantum dot fluorescent powder material preparation method comprises the following steps: preparation of QDs precursor solution; preparation of high temperature resistant quantum dot solution, the source of cadmium and zinc source, fatty acid and organic solvent, adding QDs precursor, preparation of high temperature resistant CdZnSe@ZnSe quantum dots liquid; and then purified by ethanol and centrifuged, dispersed in hexane, obtained high temperature quantum dot solution; preparation of polysiloxane prepolymers, the organic siloxane, water and mixed acid; preparation of quantum dots polysiloxane compound, the high temperature resistant qdssolution and silicone prepolymer mixing, after drying and curing to obtain quantum dots polysiloxane compound; preparation of quantum dot fluorescent powder: quantum dots polysiloxane composites were crushed, obtained the quantum dot fluorescent powder. The preparation method of high temperature hydrophobic quantum dot phosphor material provided by the invention has simple method, easy operation and high yield, and is suitable for mass production of quantum point phosphor powder.
【技術實現步驟摘要】
一種耐高溫疏水性量子點熒光粉材料制備方法
本專利技術涉及量子點熒光粉材料領域,特別涉及一種耐高溫疏水性量子點熒光粉材料制備方法。
技術介紹
量子點材料具有奇特的納米效應和優異的熒光性能,在顯示領域有半峰寬窄和色域廣等無法比擬的優勢,因此成為近年來最熱門的研究領域之一。但是市場上的量子點顯示產品還非常少,一方面由于量子點材料的價格昂貴,另外最主要的原因是量子點材料對空氣、溫度和濕度非常敏感,導致其光電器件穩定性不佳,使用壽命不長。現有技術通常采用無機二氧化硅或者有機物包覆量子點,這樣一方面可以改善量子點在后期封裝過程中與膠水的兼容性,另外一方面可以一定程度上降低空氣和濕度對量子點的影響。二氧化硅包覆量子點通常可以通過stober法或者反相微乳液法進行制備。Stober法首先需要將油溶性量子點轉成水溶性量子點,再通過酸/堿溶液催化TEOS水解,這兩個過程都極易造成量子點團簇,最終導致產率急劇下降;反相微乳液法則成本高,過程繁瑣,條件精確,產量小,難以具有實際應用價值。有機物包覆常見的為PMMA,PEG,PS包覆,但是這些聚合物熔點低,無法在高溫下對量子點進行持續保護,因此難以達到滿意的包覆效果。現有二氧化硅包覆量子點的技術工藝過程繁瑣,產量低,并且轉水相過程容易導致量子點團簇和量子點產率降低。現有聚合物包覆技術,常常包覆的聚合物熔點較低,在高溫下融化導致量子點裸露,無法持續保護量子點免受濕度和空氣的影響。
技術實現思路
為解決上述問題,本專利技術提供一種耐高溫疏水性量子點熒光粉材料制備方法,包括如下步驟:S110:制備量子點前驅液,將硒粉和有機溶劑混合形成量子點前 ...
【技術保護點】
一種耐高溫疏水性量子點熒光粉材料制備方法,其特征在于,包括如下步驟:S110:制備量子點前驅液,將硒粉和有機溶劑混合形成量子點前驅液;S120:制備耐高溫量子點溶液,將鎘源、鋅源、脂肪酸和有機溶劑混合,加入S110中制備的量子點前驅液,制備耐高溫CdZnSe@ZnSe量子點原液;再通過乙醇離心提純耐高溫CdZnSe@ZnSe量子點原液后,將經過提純的耐高溫CdZnSe@ZnSe量子點原液分散于己烷中,獲得耐高溫量子點溶液;S130:制備聚硅氧烷預聚體,將有機硅氧烷、水和酸混合,制備獲得聚硅氧烷預聚體;S140:制備量子點?聚硅氧烷復合物,將S120制備的耐高溫量子點溶液與S130制備的聚硅氧烷預聚體混合,經過干燥固化,獲得量子點?聚硅氧烷復合物;S150:制備量子點熒光粉:對S140制備的量子點?聚硅氧烷復合物進行粉碎,獲得量子點熒光粉。
【技術特征摘要】
1.一種耐高溫疏水性量子點熒光粉材料制備方法,其特征在于,包括如下步驟:S110:制備量子點前驅液,將硒粉和有機溶劑混合形成量子點前驅液;S120:制備耐高溫量子點溶液,將鎘源、鋅源、脂肪酸和有機溶劑混合,加入S110中制備的量子點前驅液,制備耐高溫CdZnSe@ZnSe量子點原液;再通過乙醇離心提純耐高溫CdZnSe@ZnSe量子點原液后,將經過提純的耐高溫CdZnSe@ZnSe量子點原液分散于己烷中,獲得耐高溫量子點溶液;S130:制備聚硅氧烷預聚體,將有機硅氧烷、水和酸混合,制備獲得聚硅氧烷預聚體;S140:制備量子點-聚硅氧烷復合物,將S120制備的耐高溫量子點溶液與S130制備的聚硅氧烷預聚體混合,經過干燥固化,獲得量子點-聚硅氧烷復合物;S150:制備量子點熒光粉:對S140制備的量子點-聚硅氧烷復合物進行粉碎,獲得量子點熒光粉。2.根據權利要求1所述的耐高溫疏水性量子點熒光粉材料制備方法,其特征在于:S120中制備耐高溫量子點溶液的方法為:取鎘源,鋅源,脂肪酸和有機溶劑置于三口燒瓶中,加熱至80-110℃抽氣30-40min,然后加熱至280-310℃,快速注入S110中制備的量子點前驅液;保溫5-15min,升溫至300-310℃,逐滴滴加量子點前驅液,保溫20-40min后,冷卻至室溫,得到耐高溫CdZnSe@ZnSe量子點原液;往耐高溫CdZnSe@ZnSe量子點原液加入乙醇離心提純后分散于己烷中,得到耐高溫量子點溶液。3.根據權利要求1所述的耐高溫疏水性量子點熒光粉材料制備方法,其特征在于:S130中制備聚硅氧烷預聚體的方法為:取有機硅氧烷,加入水和pH為1-3的酸,50-100℃下攪拌水解1~5...
【專利技術屬性】
技術研發人員:魏居富,李靜,周超,
申請(專利權)人:廈門世納芯科技有限公司,
類型:發明
國別省市:福建,35
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