蒸鍍裝置及蒸鍍方法制造方法及圖紙

本發明專利技術公開了一種蒸鍍裝置，包括真空室、轉盤架、加熱電極、多個工件支架及驅動裝置，真空室包括相對的頂壁和底壁，轉盤架設置于真空室的底壁且收容于真空室，加熱電極設置于轉盤架的中央位置，工件支架安裝于轉盤架上，加熱電極包括第一電極、第二電極和第三電極，第一電極和第二電極之間設置有多個第一承載架，第二電極和第三電極之間設置有多個第二承載架，當第一電極及所述第二電極工作時，第三電極不工作，且轉盤架沿順時針方向旋轉，當第二電極及第三電極工作時，第一電極不工作，且轉盤架沿逆時針方向旋轉。所述蒸鍍裝置可避免工件的表面鍍膜不均勻而出現陰陽色的問題。本發明專利技術還公開一種蒸鍍方法。

Evaporation device and evaporation method

The invention discloses a vapor deposition device, which comprises a vacuum chamber, a rotary table frame, a heating electrode, a workpiece support and driving device, the vacuum chamber includes opposing top and bottom walls, rotary vacuum chamber is arranged in the bottom wall and contained in the vacuum chamber, the heating electrode is arranged on the central position of the rotary table frame, workpiece the support is installed on the rotary table frame, a heating electrode includes a first electrode, a second electrode and a third electrode, a plurality of first bearing frame is arranged between the first electrode and the second electrode, a second bearing frame is arranged between the second electrode and the third electrode when the first electrode and the second electrode when the third electrode does not work, and the rotary table frame along the clockwise rotation, when the second electrode and the three electrode when the first electrode does not work, and the rotary table frame along the counter clockwise direction. The evaporation device can avoid the uneven coating on the surface of the workpiece and cause the problem of yin and Yang color. The invention also discloses a method for steaming.

【技術實現步驟摘要】
蒸鍍裝置及蒸鍍方法
本專利技術涉及鍍膜領域，尤其涉及一種蒸鍍裝置及使用該蒸鍍裝置的蒸鍍方法。
技術介紹
在電子產品領域通常需要通過鍍膜方法在產品表面或某部件表面鍍上保護膜層或功能膜層，例如，在手機外殼、觸摸屏表面、顯示屏表面等鍍一層防指紋膜，防止觸摸屏或顯示屏容易臟污。鍍膜有多種方式，其中，由于蒸鍍方式具有能在金屬、半導體、絕緣體甚至塑料、紙張、織物表面上沉積金屬、半導體、絕緣體、不同成分比的合金、化合物及部分有機聚合物等薄膜，且其適用范圍廣、純度高、污染少等優點而備受推薦。蒸鍍通常是在真空條件下進行，因而又稱為真空鍍膜。真空鍍膜是將真空室內蒸鍍材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體(即工件)的表面上，從而形成一層薄膜的技術。在現有技術中，蒸鍍裝置通常包括真空室、掛裝待鍍膜產品的掛具及一組加熱電極，在蒸鍍制程中，將蒸鍍材料設置于一組加熱電極上，將需要鍍膜的產品裝在所述掛具上，放到真空室內，合上真空室門，然后抽真空，當真空達到一定真空度時加熱電極開始工作，蒸鍍材料在加熱電極的加熱下達到熔點時，在逸出功的作用下，蒸鍍材料的粒子向四周擴散，沉積到需要鍍膜的產品表面。然而，經常有產品表面不同部位之間存在斷差，例如，某些手機的邊緣采用由厚變薄的過渡方式，尤其是過渡坡度較陡時，厚的部位與薄的部位間存在斷差，甚至形成蒸鍍材料難以到達的角度，而現有技術中，掛具通常朝同一個方向轉動，使得需要蒸鍍的產品也是朝一個方向轉動，這樣的情況下，蒸鍍材料的粒子沉積到產品的表面成膜時會不均勻，甚至難以沉積在斷差過大的部位，從而使形成的薄膜出現陰陽色，影響產品的外觀和/或性能。然而，如果在蒸鍍過程中使掛具旋轉一定的時間后反向旋轉，期間要經歷一個停止轉動再重新啟動的過程，該過程中轉速比正常工作狀態下低，而加熱電極沒來得及冷卻又得重新工作，因此，蒸鍍材料一直處于逸出(逸出)狀態，也容易導致產品的表面所形成的薄膜不均勻。
技術實現思路
本專利技術所要解決的技術問題在于，提供一種蒸鍍裝置及蒸鍍方法，可以避免工件的表面鍍膜不均勻而出現陰陽色的問題，從而避免由此而影響工件的外觀和性能。為了解決上述技術問題，本專利技術采用以下技術方案：一方面，本專利技術提供一種蒸鍍裝置，包括真空室、轉盤架、加熱電極、多個工件支架及驅動裝置，所述真空室包括相對的頂壁和底壁，所述轉盤架設置于所述真空室的底壁且收容于所述真空室，所述加熱電極設置于所述轉盤架的中央位置，所述工件支架安裝于所述轉盤架上，所述加熱電極包括第一電極、第二電極和第三電極，所述第一電極和所述第二電極之間設置有多個第一承載架，所述第二電極和所述第三電極之間設置有多個第二承載架，所述第一承載架和所述第二承載架用于承載蒸鍍材料，所述驅動裝置用于驅動所述轉盤架旋轉，當所述第一電極及所述第二電極工作時，所述第三電極不工作，且所述轉盤架沿順時針方向旋轉，當所述第二電極及所述第三電極工作時，所述第一電極不工作，且所述轉盤架沿逆時針方向旋轉。其中，多個所述工件支架可旋轉地安裝于所述轉盤架上，當所述轉盤架沿順時針方向旋轉時，所述工件支架繞所述加熱電極順時針公轉且逆時針自轉，當所述轉盤架沿逆時針方向旋轉時，所述工件支架繞所述加熱電極逆時針公轉且順時針自轉。其中，所述第一電極的極性與所述第二電極的極性相反，所述第一電極的極性與所述第三電極的極性相同。其中，所述第一承載架和所述第二承載架的材質包括導熱材料。其中，所述驅動裝置包括電機、第一齒輪和多個第二齒輪，所述第一齒輪與所述轉盤架同軸設置，每個所述第二齒輪分別與一根所述工件支架同軸設置，所述電機驅動所述第一齒輪轉動時，所述第一齒輪帶動所述轉盤架轉動，且帶動所述第二齒輪自轉，所述第二齒輪帶動所述工件支架自轉。其中，所述工件支架及所述加熱電極均向所述真空室的頂壁所在的一側延伸。另一方面，本專利技術還提供一種蒸鍍方法，所述蒸鍍方法采用以上任一項所述的蒸鍍裝置進行鍍膜，包括：在工件支架上懸掛工件；在第一承載架和第二承載架上均放置蒸鍍材料；啟動驅動裝置，使轉盤架沿順時針方向旋轉，所述轉盤架帶動所述工件支架繞加熱電極沿順時針方向公轉；啟動第一電極和第二電極，使所述第一承載架上的所述蒸鍍材料逸出，所述蒸鍍材料的逸出物沉積到所述工件上；所述第一承載架上的蒸鍍材料逸出完后，關閉所述第一電極和所述第二電極，并關閉驅動裝置，使所述轉盤架停止旋轉；啟動驅動裝置，使轉盤架沿逆時針方向旋轉，所述轉盤架帶動所述工件支架繞加熱電極沿逆時針方向公轉；啟動第二電極和第三電極，使所述第二承載架上的所述蒸鍍材料逸出，所述蒸鍍材料的逸出物沉積到所述工件上。其中，所述“啟動驅動裝置，使轉盤架沿順時針方向旋轉，所述轉盤架帶動所述工件支架繞加熱電極沿順時針方向公轉”包括：所述工件支架還逆時針自轉，使所述工件繞所述工件支架沿逆時針方向轉動；所述“啟動驅動裝置，使轉盤架沿逆時針方向旋轉，所述轉盤架帶動所述工件支架繞加熱電極沿逆時針方向公轉”包括：所述工件支架還順時針自轉，使所述工件繞所述工件支架沿順時針方向轉動其中，所述“啟動驅動裝置，使轉盤架沿順時針方向旋轉，所述轉盤架帶動所述工件支架繞加熱電極沿順時針方向公轉；啟動第一電極和第二電極，使所述第一承載架上的所述蒸鍍材料逸出，所述蒸鍍材料的逸出物沉積到所述工件上”包括：使所述轉盤架沿順時針方向旋轉持續60秒～80秒。其中，所述“所述第一承載架上的蒸鍍材料逸出完后，關閉第一電極和第二電極，并關閉驅動裝置，使所述轉盤架停止旋轉”與所述“啟動驅動裝置，使所述轉盤架沿逆時針方向旋轉，所述轉盤架帶動所述工件支架繞加熱電極沿逆時針方向公轉；啟動第二電極和第三電極，使所述第二承載架上的所述蒸鍍材料逸出，所述蒸鍍材料的逸出物沉積到所述工件上”之間包括：使所述轉盤架停止旋轉15秒～20秒。與現有技術相比，本專利技術的技術方案至少具有以下有益效果：本專利技術的技術方案中，所述蒸鍍裝置的加熱電極包括第一電極、第二電極和第三電極，所述第一電極和所述第二電極之間設置有多個第一承載架，所述第二電極和所述第三電極之間設置有多個第二承載架，所述第一承載架和所述第二承載架用于承載蒸鍍材料，所述驅動裝置在所述真空室下方，并能夠驅動所述轉盤架旋轉，當所述第一電極及所述第二電極工作時，所述第三電極不工作，且所述轉盤架沿順時針方向旋轉，當所述第二電極及所述第三電極工作時，所述第一電極不工作，且所述轉盤架沿逆時針方向旋轉，而由于所述工件支架安裝于所述轉盤架上，因此，當所述轉盤架沿順時針方向旋轉時，掛在所述工件支架上的工件也沿順時針方向轉動，當所述轉盤架沿逆時針方向旋轉時，所述工件也沿逆時針方向轉動。由于所述蒸鍍裝置包括三個電極，可以組成兩組電極，相對于現有技術多了一組電極，且所述第一電極和所述第二電極之間設置有多個第一承載架，所述第二電極和所述第三電極之間設置有多個第二承載架，因此，可以將蒸鍍材料分為兩組，分別置于所述第一承載架和所述第二承載架，當所述第一電極及所述第二電極工作時，所述第三電極不工作，所述第一承載架上的蒸鍍材料逸出，且所述轉盤架沿順時針方向旋轉，所述第一承載架上的蒸鍍材料逸出完之后，停止所述轉盤架且關閉所述第一電極和所述第二電極，此時無蒸鍍材料逸出，工件轉速變慢或不轉不會導致蒸鍍形成的薄膜不均勻本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括真空室、轉盤架、加熱電極、多個工件支架及驅動裝置，所述真空室包括相對的頂壁和底壁，所述轉盤架設置于所述真空室的底壁且收容于所述真空室，所述加熱電極設置于所述轉盤架的中央位置，所述工件支架安裝于所述轉盤架上，所述加熱電極包括第一電極、第二電極和第三電極，所述第一電極和所述第二電極之間設置有多個第一承載架，所述第二電極和所述第三電極之間設置有多個第二承載架，所述第一承載架和所述第二承載架用于承載蒸鍍材料，所述驅動裝置用于驅動所述轉盤架旋轉，當所述第一電極及所述第二電極工作時，所述第三電極不工作，且所述轉盤架沿順時針方向旋轉，當所述第二電極及所述第三電極工作時，所述第一電極不工作，且所述轉盤架沿逆時針方向旋轉。

【技術特征摘要】
1.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括真空室、轉盤架、加熱電極、多個工件支架及驅動裝置，所述真空室包括相對的頂壁和底壁，所述轉盤架設置于所述真空室的底壁且收容于所述真空室，所述加熱電極設置于所述轉盤架的中央位置，所述工件支架安裝于所述轉盤架上，所述加熱電極包括第一電極、第二電極和第三電極，所述第一電極和所述第二電極之間設置有多個第一承載架，所述第二電極和所述第三電極之間設置有多個第二承載架，所述第一承載架和所述第二承載架用于承載蒸鍍材料，所述驅動裝置用于驅動所述轉盤架旋轉，當所述第一電極及所述第二電極工作時，所述第三電極不工作，且所述轉盤架沿順時針方向旋轉，當所述第二電極及所述第三電極工作時，所述第一電極不工作，且所述轉盤架沿逆時針方向旋轉。2.如權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，多個所述工件支架可旋轉地安裝于所述轉盤架上，當所述轉盤架沿順時針方向旋轉時，所述工件支架繞所述加熱電極順時針公轉且逆時針自轉，當所述轉盤架沿逆時針方向旋轉時，所述工件支架繞所述加熱電極逆時針公轉且順時針自轉。3.如權利要求2所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述第一電極的極性與所述第二電極的極性相反，所述第一電極的極性與所述第三電極的極性相同。4.如權利要求3所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述第一承載架和所述第二承載架的材質包括導熱材料。5.如權利要求1至4任一項所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述驅動裝置包括電機、第一齒輪和多個第二齒輪，所述第一齒輪與所述轉盤架同軸設置，每個所述第二齒輪分別與一根所述工件支架同軸設置，所述電機驅動所述第一齒輪轉動時，所述第一齒輪帶動所述轉盤架轉動，且帶動所述第二齒輪自轉，所述第二齒輪帶動所述工件支架自轉。6.如權利要求1至4任一項所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述工件支架及所述加熱電極均向所述真空室的頂壁所在的一側延伸。7.一種蒸鍍方法，其特征在于，使用權利要求1至6任一項所述的蒸鍍裝置進行鍍膜，包括：在工件支架...

【專利技術屬性】
技術研發人員：張文燦，
申請(專利權)人：東莞酷派軟件技術有限公司，
類型：發明
國別省市：廣東,44