The invention discloses a silicon heterojunction solar cell and its hydrogenated amorphous silicon I film surface treatment method of hydrogenated amorphous silicon I film surface plasma treatment by hydrogen and argon or hydrogen helium mixture, either through argon or helium plasma by physical method of hydrogenated amorphous silicon I film with surface cleaning good, also can increase the quantity of hydrogen plasma, thereby enhancing the passivation and cleaning effect of hydrogenated amorphous silicon film on the surface of I; at the same time, the process of argon or helium plasma bombardment will produce slight damage of hydrogenated amorphous silicon I coating on the surface, not only to hydrogen plasma passivation of hydrogenated amorphous silicon I the film surface, can also repair the damage. Hydrogen argon mixing or hydrogen helium mixed plasma synergistic effect can play a better role in passivation and cleaning on the surface of hydrogenated amorphous silicon I, thereby improving battery performance.
【技術實現步驟摘要】
一種太陽能電池及其氫化非晶硅i膜層表面處理方法本專利技術申請是申請日為2015年11月26日、申請號為201510842967.9、專利技術名稱為"一種太陽能電池及其氫化非晶硅i膜層表面處理方法"的專利技術申請的分案申請。
本專利技術涉及太陽能電池生產
,特別是涉及硅異質結太陽能電池及其氫化非晶硅i膜層表面處理方法。
技術介紹
硅異質結太陽能電池是一種利用晶體硅基板和非晶硅薄膜工藝制成的混合型電池,具有轉換效率高、工藝流程簡單、溫度系數低等優勢,受到人們的廣泛關注。現有硅異質結太陽能電池的生產工藝包括:清洗、制絨、對氫化非晶硅i(ia-Si:H)膜層和氫化非晶硅p(pa-Si:H)膜層以及氫化非晶硅n(na-Si:H)膜層進行沉積、對透明導電氧化物薄膜進行沉積、柵極電極絲網印刷、退火等。等離子體處理技術是硅異質結太陽能電池的重要制備工藝之一,常用于氫化非晶硅i(ia-Si:H)膜層表面的處理,可以減少表面未飽和的硅懸掛鍵等缺陷態,降低界面的復合,提高界面的鈍化效果,提升電池的性能。等離子體處理可分為物理處理和化學處理兩種。物理處理的反應機理是利用等離子體中的粒子作純物理的轟擊,把材料表面的原子或附著材料表面的原子打掉,常用的氣體為氬氣、氦氣等不活潑氣體。化學處理的反應機理是利用等離子體中的高活反應粒子與材料表面發生化學反應作用,從而實現分子水平的沾污去除目的,常用的氣體有氫氣、氧氣、四氟化碳、三氟化氮等氣體。現有的硅異質結太陽能電池主要采用氫氣對沉積的氫化非晶硅i膜層進行等離子體處理,該處理方法是一種以化學反應為主的處理工藝,其中氫等離子體可飽和氫化 ...
【技術保護點】
一種硅異質結太陽能電池的氫化非晶硅i膜層表面處理方法,其特征在于:S1、沉積氫化非晶硅i膜層;S2、在沉積腔室中采用混合氣體對所述氫化非晶硅i膜層表面進行等離子體處理,所述混合氣體為氫氣和氬氣混合或者氫氣和氦氣混合;其中,執行步驟S2前,在沉積腔室中采用氫氣對所述氫化非晶硅i膜層表面進行等離子體處理。
【技術特征摘要】
1.一種硅異質結太陽能電池的氫化非晶硅i膜層表面處理方法,其特征在于:S1、沉積氫化非晶硅i膜層;S2、在沉積腔室中采用混合氣體對所述氫化非晶硅i膜層表面進行等離子體處理,所述混合氣體為氫氣和氬氣混合或者氫氣和氦氣混合;其中,執行步驟S2前,在沉積腔室中采用氫氣對所述氫化非晶硅i膜層表面進行等離子體處理。2.如權利要求1所述的處理方法,其特征在于:采用所述氫氣對所述氫化非晶硅i膜層表面進行等離子體處理,處理時間為1至200秒。3.如權利要求2所述的處理方法,其特征在于:采用所述氫氣對所述氫化非晶硅i膜層表面進行等離子體處理,處理時間為10至150秒。4.如權利要求1至3任一所述的處理方法,其特征在于:采用氫氣和氬氣的混合氣體對所述氫化非晶硅i膜層表面進行等離子體處理,氫氣和氬氣流量體積比為1:0.01至1:10...
【專利技術屬性】
技術研發人員:谷士斌,何延如,張林,張娟,徐湛,楊榮,李立偉,孟原,郭鐵,
申請(專利權)人:新奧光伏能源有限公司,
類型:發明
國別省市:河北,13
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