一種X射線的聚焦方法、裝置及放療設(shè)備制造方法及圖紙

本發(fā)明專利技術(shù)提供了一種X射線的聚焦方法，涉及醫(yī)療器械技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種X射線用于聚焦治療的方法。一種X射線的聚焦方法，所述聚焦方法包括：電子束生成器發(fā)出電子束；所述電子束打在靶體上，產(chǎn)生X射線束；所述X射線束穿過(guò)所述準(zhǔn)直器的同一準(zhǔn)直通道組的各準(zhǔn)直通道，聚焦在所述準(zhǔn)直通道組的焦點(diǎn)上；其中，所述準(zhǔn)直器包括至少一組準(zhǔn)直通道組，每組所述準(zhǔn)直通道組包括至少兩個(gè)準(zhǔn)直通道，同一所述準(zhǔn)直通道組的焦點(diǎn)為一個(gè)或多個(gè)。

A focusing method, device and radiotherapy equipment for X ray

The invention provides a method for focusing X rays, which involves the technical field of medical instruments, and provides a method for focusing treatment by X rays. A method of focusing X ray, including the focusing method: electron beam generator emits an electron beam; the electron beam hit the target, X ray beam collimation; the passage of the X beam passing through the collimator with a collimating channel group, focused on the focus of the collimating channel group on which, the collimator; comprises at least one collimating channel group, wherein each group of collimated channel group includes at least two collimated channel, the same focus of the collimated channel group for one or more.

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
一種X射線的聚焦方法、裝置及放療設(shè)備
本專利技術(shù)涉及醫(yī)療器械
，尤其涉及一種X射線的聚焦方法、裝置及放療設(shè)備。
技術(shù)介紹
放療是腫瘤治療的主要手段。現(xiàn)有的放療設(shè)備包括伽瑪?shù)逗图铀倨鳎渲校が數(shù)妒遣捎锰烊环派湫酝凰匕l(fā)出放射線(一般采用Co-60發(fā)出γ射線)對(duì)人體腫瘤進(jìn)行放射治療。而加速器如圖1所示，一般包括脈沖調(diào)制器、電子槍、磁控管、波導(dǎo)加速管以及靶體，其中，脈沖調(diào)制器一般用于形成高壓脈沖，電子槍發(fā)射出具有一定能量、一定束流以及速度和角度的電子束，磁控管形成大功率微波控制電子方向，再通過(guò)波導(dǎo)加速管進(jìn)行電子加速，加速的電子打到靶體上形成錐形射線(一般為X射線)。如圖1所示，由于加速器產(chǎn)生的射線為錐形束，錐形束的劑量分布如圖2所示的高斯分布，即射線中間區(qū)域的劑量高，周邊區(qū)域的劑量低，一般需要通過(guò)初級(jí)準(zhǔn)直器對(duì)高劑量的射線束再次束形，再通過(guò)多葉準(zhǔn)直器以對(duì)中間區(qū)域進(jìn)行適形，以滿足腫瘤治療的高劑量要求。因此，現(xiàn)有的加速器均用于適形治療，即通過(guò)多葉準(zhǔn)直器形成與腫瘤形狀相近的射束穿過(guò)區(qū)域，從而使得射束穿過(guò)人體的形狀與腫瘤形狀一致。臨床上適形治療主要適用于較大腫瘤，而對(duì)較小腫瘤的治療一般采用伽瑪?shù)哆M(jìn)行聚焦治療。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專利技術(shù)的實(shí)施例提供一種X射線的聚焦方法、裝置及放療設(shè)備，可以利用加速器產(chǎn)生的X射線束形成聚焦治療。為達(dá)到上述目的，本專利技術(shù)的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案：第一方面，本專利技術(shù)實(shí)施例提供了一種X射線的聚焦方法，所述聚焦方法包括：電子束生成器發(fā)出電子束；所述電子束打在靶體上，產(chǎn)生X射線束；所述X射線束穿過(guò)所述準(zhǔn)直器的同一準(zhǔn)直通道組的各準(zhǔn)直通道，聚焦在所述準(zhǔn)直通道組的焦點(diǎn)上；其中，所述準(zhǔn)直器包括至少一組準(zhǔn)直通道組，每組所述準(zhǔn)直通道組包括至少兩個(gè)準(zhǔn)直通道，同一所述準(zhǔn)直通道組的焦點(diǎn)為一個(gè)或多個(gè)。另一方面，本專利技術(shù)實(shí)施例提供了一種X射線的聚焦裝置，包括：電子束生成器，用于發(fā)出電子束；靶體，所述電子束打在靶體上，可產(chǎn)生X射線束；準(zhǔn)直器，包括至少一組準(zhǔn)直通道組，每組所述準(zhǔn)直通道組包括至少兩個(gè)準(zhǔn)直通道，其中，同一所述準(zhǔn)直通道組的焦點(diǎn)為一個(gè)或多個(gè)。再一方面，本專利技術(shù)實(shí)施例提供了一種放療設(shè)備，包括本專利技術(shù)提供的任一項(xiàng)所述的聚焦裝置。本專利技術(shù)的實(shí)施例提供一種X射線的聚焦方法、裝置及放療設(shè)備，電子束生成器發(fā)出電子束，電子束打在靶體上，產(chǎn)生X射線束，X射線束經(jīng)過(guò)準(zhǔn)直器聚焦在一個(gè)或多個(gè)焦點(diǎn)上，從而實(shí)現(xiàn)X射線束的聚焦。該X射線的聚焦裝置可應(yīng)用于放療設(shè)置中，將聚焦點(diǎn)與患者的腫瘤位置對(duì)應(yīng)，以便利用X射線將腫瘤殺死，起到治療的目的。相對(duì)于現(xiàn)有的利用X射線進(jìn)行適形治療，本申請(qǐng)?zhí)峁┑腦射線的聚焦裝置可以進(jìn)行聚焦治療，該聚焦點(diǎn)根據(jù)準(zhǔn)直通道的大小可以不同。相對(duì)于適形治療，可以實(shí)現(xiàn)更加精細(xì)的治療，對(duì)病發(fā)前期的小腫瘤具有更好的治療效果。且聚焦治療利用較低能量的X射線聚焦在靶點(diǎn)處，滿足放射治療時(shí)對(duì)靶點(diǎn)處的高劑量要求。附圖說(shuō)明為了更清楚地說(shuō)明本專利技術(shù)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本專利技術(shù)的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為現(xiàn)有的加速器結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為加速器產(chǎn)生的X射線劑量分布示意圖；圖3為本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊环NX射線的聚焦方法示意圖；圖4為本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊环NX射線的聚焦示意圖；圖5為本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊环N圓形準(zhǔn)直器示意圖；圖6為本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊环N矩形準(zhǔn)直器示意圖；圖7為本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊环N準(zhǔn)直通道組的聚焦截面示意圖；圖8為本申請(qǐng)?zhí)峁┑牧硪环N準(zhǔn)直通道組的聚焦截面示意圖；圖9為本申請(qǐng)?zhí)峁┑牧硪环N準(zhǔn)直通道組的聚焦截面示意圖；圖10為本申請(qǐng)?zhí)峁┑牧硪环NX射線的聚焦方法示意圖；圖11為本申請(qǐng)?zhí)峁┑牧硪环NX射線的聚焦方法示意圖；圖12為本申請(qǐng)?zhí)峁┑牧硪环NX射線的聚焦方法示意圖；圖13為本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊环NX射線的聚焦示意圖；圖14為本申請(qǐng)?zhí)峁┑牧硪环NX射線的聚焦方法示意圖；圖15為本申請(qǐng)?zhí)峁┑牧硪环NX射線的聚焦方法示意圖；圖16為本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊环NX射線的聚焦示意圖；圖17為本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊环N聚焦裝置示意圖；圖18為本申請(qǐng)?zhí)峁┑牧硪环N聚焦裝置示意圖；圖19為本申請(qǐng)?zhí)峁┑牧硪环N聚焦裝置示意圖；圖20為本申請(qǐng)?zhí)峁┑牧硪环N聚焦裝置示意圖；圖21為本申請(qǐng)?zhí)峁┑牧硪环N聚焦裝置示意圖；圖22為本申請(qǐng)?zhí)峁┑牧硪环N聚焦裝置示意圖。附圖標(biāo)記：1-電子束生成器；2-電子束；3-靶體；4-X射線束；5-準(zhǔn)直器；6-分束部件。具體實(shí)施方式下面將結(jié)合本專利技術(shù)實(shí)施例中的附圖，對(duì)本專利技術(shù)實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本專利技術(shù)一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本專利技術(shù)中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本專利技術(shù)保護(hù)的范圍。本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环NX射線的聚焦方法，如圖3、圖4所示，聚焦方法包括：步驟101、電子束生成器1發(fā)出電子束2。示例的，為了發(fā)出電子束，電子束生成器可以是包括脈沖調(diào)制器、電子槍、磁控管、以及波導(dǎo)加速管等。關(guān)于電子束生成器生成并發(fā)出電子束，可以參照現(xiàn)有的加速器，本申請(qǐng)?jiān)谶@里不做具體說(shuō)明。步驟102、電子束2打在靶體3上，產(chǎn)生X射線束4。一般的，靶體可以是由金屬形成，例如靶體可以是鉭板或銅板等。電子束打在靶體上，發(fā)生撞擊，電子突然減速，其損失的動(dòng)能會(huì)以光子形式放出，形成X射線束。步驟103、X射線4穿過(guò)準(zhǔn)直器5的同一準(zhǔn)直通道組的各準(zhǔn)直通道，聚焦在準(zhǔn)直通道組的焦點(diǎn)o上。其中，準(zhǔn)直器包括至少一組準(zhǔn)直通道組，每組準(zhǔn)直通道組包括至少兩個(gè)準(zhǔn)直通道，同一準(zhǔn)直通道組的焦點(diǎn)為一個(gè)或多個(gè)。本申請(qǐng)中，準(zhǔn)直器可以是用于頭部治療或用于體部治療的圓形準(zhǔn)直器、碗形準(zhǔn)直器、矩形準(zhǔn)直器等，本申請(qǐng)對(duì)準(zhǔn)直器的形狀不做具體限定。若準(zhǔn)直器為圓形準(zhǔn)直器，則同一準(zhǔn)直通道組的至少兩個(gè)準(zhǔn)直通道可以是位于同一個(gè)圓上。本申請(qǐng)中，放療設(shè)備打開(kāi)狀態(tài)下，射束的出束對(duì)應(yīng)的準(zhǔn)直通道組可以為同一準(zhǔn)直通道組，當(dāng)然還可以是根據(jù)準(zhǔn)直通道的大小、形狀、角度、位置等將其劃分為同一準(zhǔn)直通道組。示例的，同一準(zhǔn)直通道組的準(zhǔn)直通道大小相同，不同準(zhǔn)直通道組的準(zhǔn)直通道大小不同。示例的，如圖5所示，圓形準(zhǔn)直器上設(shè)置有四個(gè)準(zhǔn)直通道組a、b、c、d，每個(gè)準(zhǔn)直孔組包括四個(gè)大小相同的準(zhǔn)直孔，其中，準(zhǔn)直孔組的直徑大小為a＜b＜c＜d。當(dāng)然，準(zhǔn)直器為圓形或者碗形準(zhǔn)直器的設(shè)置不局限于圖5所示，本申請(qǐng)僅以圖5所示的為例進(jìn)行示例說(shuō)明。若準(zhǔn)直器為矩形準(zhǔn)直器，則準(zhǔn)直通道可以矩陣排列，位于同一排或同一列的準(zhǔn)直通道為一個(gè)準(zhǔn)直通道組。示例的，如圖6所示，準(zhǔn)直器上的準(zhǔn)直通道陣列排列，包括四個(gè)準(zhǔn)直通道組a、b、c、d，每個(gè)準(zhǔn)直孔組包括6個(gè)大小相同的準(zhǔn)直通道，其中，準(zhǔn)直通道組的直徑大小為a＜b＜c＜d。本申請(qǐng)中，同一準(zhǔn)直通道組的焦點(diǎn)為一個(gè)或多個(gè)。示例的，同一準(zhǔn)直通道組的焦點(diǎn)為一個(gè)，如圖7所示，以準(zhǔn)直通道組b為例，準(zhǔn)直通道組b的焦點(diǎn)可以是一個(gè)，即X射線穿過(guò)各準(zhǔn)直通道可聚焦在一個(gè)焦點(diǎn)o上。本申請(qǐng)中，同一準(zhǔn)直通道組的焦點(diǎn)為一個(gè)，X射線束經(jīng)過(guò)不同所述準(zhǔn)直通道組的聚焦點(diǎn)位置相同。如圖5、圖6所示，切換準(zhǔn)直通道組a和b，其準(zhǔn)直通道組的焦點(diǎn)位置同為焦點(diǎn)o的位置處。需要說(shuō)明的是，一般的在放療過(guò)程中，每次射束穿過(guò)一本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種X射線的聚焦裝置，其特征在于，包括：電子束生成器，用于發(fā)出電子束；靶體，所述電子束打在靶體上，可產(chǎn)生X射線束；準(zhǔn)直器，包括至少一組準(zhǔn)直通道組，每組所述準(zhǔn)直通道組包括至少兩個(gè)準(zhǔn)直通道，其中，同一所述準(zhǔn)直通道組的焦點(diǎn)為一個(gè)或多個(gè)。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種X射線的聚焦裝置，其特征在于，包括：電子束生成器，用于發(fā)出電子束；靶體，所述電子束打在靶體上，可產(chǎn)生X射線束；準(zhǔn)直器，包括至少一組準(zhǔn)直通道組，每組所述準(zhǔn)直通道組包括至少兩個(gè)準(zhǔn)直通道，其中，同一所述準(zhǔn)直通道組的焦點(diǎn)為一個(gè)或多個(gè)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚焦裝置，其特征在于，還包括：移動(dòng)部，用于使得所述X射線束的位置發(fā)生變化，以使所述X射線束依次穿過(guò)準(zhǔn)直器同一準(zhǔn)直通道組的準(zhǔn)直通道。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的聚焦裝置，其特征在于，所述移動(dòng)部水平移動(dòng)或沿圓周移動(dòng)所述X射線束。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的聚焦裝置，其特征在于，所述移動(dòng)部用于移動(dòng)所述X射線束；或者；所述移動(dòng)部用于移動(dòng)所述電子束，以使得所子電子束打在所述靶體的位置發(fā)生變化，從而使得所述X射線束的位置發(fā)生變化；或者，所述移動(dòng)部用于移動(dòng)所述電子束以及所述靶體，從而使得所述X射線束的位置發(fā)生變化。5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的聚焦裝置，其特征在于，所述電子束生成器發(fā)出至少兩束電子束；或者，所述聚焦裝置還包括：分束部件，用于對(duì)所述電子束進(jìn)行分隔，形成至少兩個(gè)子電子束。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚焦裝置，其特征在于，所述電子束為發(fā)散束；或者；所述電子束生成器發(fā)出第一電子束，所述聚焦裝置還包括：發(fā)散部件，用于對(duì)所述第一電子束進(jìn)行發(fā)散，形成第二電子束；其中，所述第二電子束為發(fā)散束。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚焦裝置，其特征在于，還包括：均整塊，所述均整塊設(shè)置在所述電子束生成器和所述靶體之間，用于對(duì)所述電子束進(jìn)行能量均整，以使得所述電子束與所述靶體的接觸表面的能量均衡；或者，所述均整塊設(shè)置在所述靶體和所述準(zhǔn)直器之間，用于對(duì)所述X射線束進(jìn)行能量均整。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚焦裝置，其特征在于，同一所述準(zhǔn)直通道組的焦點(diǎn)為一個(gè)，且X射線束經(jīng)過(guò)不同所述準(zhǔn)直通道組的聚焦點(diǎn)位置相同；或者，同一所述準(zhǔn)直通道組的焦點(diǎn)為多個(gè)，X射線束經(jīng)過(guò)同一所述準(zhǔn)直通道組的多個(gè)聚焦點(diǎn)位置不同。9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的聚焦裝置，其特征在于，所述電子束打靶時(shí)的入射延長(zhǎng)線與準(zhǔn)直通道的中心軸的夾角為0-90度。10.一種放療設(shè)備，其特征在于，包括權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的聚焦裝置。11.一種X射線的聚焦方法，其特征在于，所述聚焦方法包括：電子束生成器發(fā)出電子束；所述電子束打在靶體上，產(chǎn)生X射線束；所述X射線束穿過(guò)所述準(zhǔn)直器的同一準(zhǔn)直通道組的各準(zhǔn)直通道，聚焦在所述準(zhǔn)直通道組的焦點(diǎn)上；其...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：劉海峰，林小奇，昝鵬，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：西安大醫(yī)數(shù)碼技術(shù)有限公司，深圳市奧沃醫(yī)學(xué)新技術(shù)發(fā)展有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：陜西,61