用于去除一個構件上的涂層的方法技術

工作中承受應力的構件常常通過酸處理被重新利用。所述構件在酸中停留的時間迄今為止按標準確定，這使得個別的應力承受情況不能得到充分考慮。按照本發明專利技術的用于去除一個構件上的涂層的方法為此建議，至少反復將一個測量電壓施加在所述構件上，由此形成一個流動的測量電流（Ｉ），該電流隨時間的變化曲線（Ｉ（ｔ））描述所述去除涂層過程的狀況，并被用于判斷何時終止或中斷所述酸處理。（*該技術在2024年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】

【技術保護點】
一種去除一構件（９）上的涂層的方法，其中，將該構件（９）設置在一種至少部分腐蝕該構件（９）表面的介質（６）中，其特征在于，僅僅短暫地將一個電壓加載在所述構件（９）和另一個極（３，１２）上，使得有一個電流（Ｉ）至少流過所述介質（６），該電流隨時間的變化曲線（Ｉ（ｔ））描述所述去除涂層過程的狀況，并被用于判斷何時終止或中斷該構件（９）在所述介質（６）中的停留。

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...

【專利技術屬性】
技術研發人員：厄薩斯克魯格，丹尼爾科爾特維利西，拉爾夫賴歇，簡斯坦巴克，加布里埃爾溫克勒，
申請(專利權)人：西門子公司，
類型：發明
國別省市：DE[德國]