本發明專利技術公開了一種用于高速縫紉機旋梭離子鍍ＧＩＣ鍍層實現無油化的處理方法，按照以下的步驟實施，將旋梭的內梭和外梭清洗、干燥后放入多靶磁控濺射離子鍍設備的真空室中；抽真空，通入氬氣，然后進行離子轟擊清洗；再進行鍍膜的工藝，調整好各工作參數，同時開啟若干鉻靶和石墨靶；斷電后取出內梭和外梭即得。本發明專利技術的處理方法所處理的內梭和外梭，用于高速縫紉機上，完全解決了潤滑旋梭對縫紉產品造成污染的問題，還大大減輕了因為磨損而產生的噪聲，提高了工作效率，具有良好的使用前景。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術屬于紡織機械
，涉及高速縫紉機中構件實現無油化的處 理方法，具體涉及高速縫紉機旋梭離子鍍GIC鍍層實現無油化的處理方法。
技術介紹
縫紉機縫合衣料包括連式線跡和鎖式線跡兩種。連式線跡是指一根線或 幾根線與縫料交織，從而起到縫料與縫料的聯接；鎖式線跡是利用經緯織布 的原理將下線串越上線鎖定從而起到縫料與縫料的聯接。而鎖式線跡方法也 有兩種途徑 一是通過擺梭來鎖定上線，二是通過旋梭來鎖定上線。擺梭一般在主軸轉速小于800spm的縫紉機上使用。縫紉機主軸轉速為1000 2800spm的縫紉機上可以采用普通的旋梭，縫紉機旋梭由外梭和內梭構成， 外梭和內梭之間設置有相互配合的軌道，外梭軌道呈凹形，內梭軌道呈凸形， 兩者匹配安裝，可以不添加潤滑油保持光滑移動。在強調高速、高效的現代 生產中，縫紉機的主軸轉速一般都大于3000spm，這種情況下，旋梭就必須 在有潤滑的情況下工作，如果沒有潤滑的話，旋梭就會咬死；但在潤滑油潤 滑的情況下就不可避免的出現一個問題，那就是縫紉線會被潤滑油污染，直 接導致縫料被污染，嚴重降低了制品的質量。另外，無論是否有潤滑油，旋 梭中的外梭和內梭的摩擦會產生很大的噪音，惡化了工作環境。
技術實現思路
本專利技術的目的是提供一種高速縫紉機旋梭離子鍍GIC鍍層實現無油化 的處理方法，該方法處理后的旋梭，無需潤滑油，解決了污染縫紉織布以及內外旋梭摩擦產生噪音的問題。本專利技術所采用的技術方案是， 一種高速縫紉機旋梭離子鍍GIC鍍層實現無油化的處理方法，通過磁控濺射技術在旋梭表面鍍厚度為1.0 1.3um的 GIC鍍層，使該GIC鍍層的硬度為2000HV 2500HV，摩擦系數為0.05 0.09，該方法按照以下的步驟實施.-步驟l、將旋梭的內梭、外梭清洗干燥后放入多靶磁控濺射離子鍍設備 的真空室中，抽真空使真空度達到2xlO—Spa 6x](^Pa，并通入氬氣；步驟2、對步驟l真空室中的內梭、外梭進行離子轟擊清洗，控制參數 為負偏壓值-500 -300V，脈沖頻率150 250KHZ，脈沖寬度500 1000ns， 轟擊清洗時間15 30min;步驟3、同時開啟若干鉻靶和石墨靶，對步驟2處理后的內梭、外梭進 行鍍膜，控制參數為負偏壓值-50 -80V，脈沖頻率150 250KHZ，脈沖 寬度1000 1500ns，鉻靶電流Icr為0.2 0.5A，石墨靶的靶電流Ic為5 8A， 靶電流工作時間180 280min，即完成處理過程。本專利技術的特點還在于，所述步驟3的鍍膜過程中，控制氬氣的流量為 25 30sccm。經本專利技術方法處理的無油旋梭能適應在無任何潤滑油的狀態下高速工 作，避免了縫料被污染，提高了制品的質畺；同時由于外摔和內梭表面的摩 擦系數明顯降低，二者之間的摩擦噪音明顯減小，大大優化了工作環境。具體實施例方式下面結合具體實施方式對本專利技術進行詳細說明。GIC鍍層是在閉合場非平衡磁控濺射離子鍍設備中，利用濺射出的石墨 及金屬鉻元素共同沉積而成的。該GIC鍍層是一種高硬度、低摩擦系數的自潤滑鍍層。GIC鍍層的比磨損率約為2.5 3xl0"7m3/Nm，在同種鍍層對磨時 約為5xl0"8m3/Nm，非常適合高速運動部件的工作。本專利技術的處理工藝，通過磁控濺射技術在旋梭表面鍍厚度為1.0 1.3um 的GIC鍍層，使該鍍層的硬度為2000HV 2500HV，摩擦系數在0.05 0.09 之間，具體按照以下的步驟實施，步驟l、將旋梭的內梭、外梭清洗干燥后放入多靶磁控濺射離子鍍設備 的真空室中，抽真空使真空度達到2xl(^Pa 6xl(^Pa，并通入氬氣；,步驟2、對步驟l真空室中的內梭、外梭進行離子轟擊清洗，控制參數 為負偏壓值-500 -300V，脈沖頻率150 25'0KHZ，脈沖寬度500 1000ns， 轟擊清洗時間15 30min;步驟3、同時開啟若干絡靶和石墨靶，對步驟2處理后的內梭、外梭進 行鍍膜，控制參數為負偏壓值-50 -80V，脈沖頻率150 250KHZ，脈沖 寬度1000 1500ns，鉻靶電流Icr為0.2 0.5A，石墨靶的靶電流Ic為5 8A， 靶電流工作時間180 280min，即完成處理過程。在上述步驟3的鍍膜過程中，控制氬氣的流量為25 30sccm。采用本專利技術的處理方法，對旋梭中的外梭和內梭經磁控濺射技術，使外 梭和內梭軌道表面上沉積一層厚度約為1.0um 1.3um的GIC鍍層，即自潤 滑鍍層，這樣就可以實現高速縫紉機旋梭的無油操作。 實施例l:,步驟l、將旋梭的內梭、外梭清洗干燥后放入多靶磁控濺射離子鍍設備 的真空室中，抽真空使真空度達到4xl(^Pa，并通入氬氣；步驟2、對步驟l真空室中的內梭、外梭進行離子轟擊清洗，控制參數 為負偏壓值-300V，脈沖頻率150KHZ，脈沖寬度500ns，轟擊清洗時間20min;步驟3、同時開啟兩個鉻靶和兩個石墨靶，對步驟2處理后的內梭、外 梭進行鍍膜，控制參數為氬氣的流量為25sccm，負偏壓值-60V，脈沖頻 率150KHZ，脈沖寬度1000ns，靶電流I&為0.2A，石墨靶的靶電流Ic為5A, 靶電流工作時間280min，即完成處理過程。本實施例所得到的內梭和外梭鍍層硬度為2000HV，摩擦系數為0.09， 厚度為l.O(im，比磨損率為3.0xl(T17m3/Nm。步驟l、將旋梭的內梭、外梭清洗干燥后放入多靶磁控濺射離子鍍設備 的真空室中，抽真空使真空度達到3x10—3Pa，并通入氬氣；步驟2、對步驟l真空室中的內梭、外梭進行離子轟擊清洗，控制參數 為負偏壓值-400V，脈沖頻率200KHZ，脈沖寬度1000ns，轟擊清洗時間 30min;步驟3、同時開啟兩個鉻靶和兩個石墨靶，對步驟2處理后的內梭、外 梭進行鍍膜，控制參數為氬氣的流量為30sccm，負偏壓值-80V，脈沖頻 率250KHZ，脈沖寬度1500ns，靶電流1&為0.5A，石墨靶的靶電流Ic為8A， 靶電流工作時間180min，即完成處理過程。本實施例所得到的內梭和外梭鍍層硬度為2200HV，摩擦系數為0.065， 厚度為l.ljim，比磨損率為2.8xlO-"m3/Nm。 實施例3步驟l、將旋梭的內梭、外梭清洗干燥后放入多靶磁控濺射離子鍍設備 的真空室中，抽真空使真空度達到2xl(^Pa，并通入氬氣；步驟2、對步驟l真空室中的內梭、外梭進行離子轟擊清洗，控制參數為負偏壓值-500V，脈沖頻率250KHZ，脈沖寬度800ns,轟擊清洗時間 15min;步驟3、同時開啟兩個鉻耙和兩個石墨耙，對步驟2處理后的內梭、外 梭進行鍍膜，控制參數為氬氣的流量為28sccm，負偏壓值-50V，脈沖頻 率200KHZ，脈沖寬度1350ns，革巴電流I&為0.4A，石墨靶的靶電流Ic為7A， 靶電流工作時間200min，即完成處理過程。本實施例所得到的內梭和外梭鍍層硬度為2500HV，摩擦系數為0.05， 厚度為1.2jim，比磨損率為2.5xl(T17m3/Nm。 實施例4步驟l、將旋梭的內梭、外梭清洗干燥后放入多靶磁控濺射離子鍍設備 的真空室中，抽真空使真空度達到6xl(^Pa，并通入氬氣；步驟2、對步驟l真空室中的內梭本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種高速縫紉機旋梭離子鍍ＧＩＣ鍍層實現無油化的處理方法，通過磁控濺射技術在旋梭表面鍍厚度為１．０～１．３ｕｍ的ＧＩＣ鍍層，使該ＧＩＣ鍍層的硬度為２０００ＨＶ～２５００ＨＶ，摩擦系數為０．０５～０．０９，其特征在于，該方法按照以下的步驟實施：步驟１、將旋梭的內梭、外梭清洗干燥后放入多靶磁控濺射離子鍍設備的真空室中，抽真空使真空度達到２×１０↑［－３］Ｐａ～６×１０↑［－３］Ｐａ，并通入氬氣；步驟２、對步驟１真空室中的內梭、外梭進行離子轟擊清洗，控制參數為：負偏壓值－５００～－３００Ｖ，脈沖頻率１５０～２５０ＫＨＺ，脈沖寬度５００～１０００ｎｓ，轟擊清洗時間１５～３０ｍｉｎ；步驟３、同時開啟若干鉻靶和石墨靶，對步驟２處理后的內梭、外梭進行鍍膜，控制參數為：負偏壓值－５０～－８０Ｖ，脈沖頻率１５０～２５０ＫＨＺ，脈沖寬度１０００～１５００ｎｓ，鉻靶電流Ｉ↓［Ｃｒ］為０．２～０．５Ａ，石墨靶的靶電流Ｉ↓［Ｃ］為５～８Ａ，靶電流工作時間１８０～２８０ｍｉｎ，即完成處理過程。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：蔣百靈，文曉斌，
申請(專利權)人：西安理工大學，
類型：發明
國別省市：87[中國|西安]
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