用于監(jiān)測(cè)高溫爐內(nèi)料位的料位監(jiān)測(cè)裝置及高溫爐系統(tǒng)制造方法及圖紙

本實(shí)用新型專(zhuān)利技術(shù)公開(kāi)一種用于監(jiān)測(cè)高溫爐內(nèi)料位的料位監(jiān)測(cè)裝置及高溫爐系統(tǒng)。所述料位監(jiān)測(cè)裝置包括：透明蓋板，所述透明蓋板設(shè)在所述觀測(cè)口處；保護(hù)氣管路，所述保護(hù)氣管路用于輸出保護(hù)氣，所述保護(hù)氣吹向所述透明蓋板；圖像處理器，所述圖像處理器位于所述爐體的外側(cè)且正對(duì)所述透明蓋板設(shè)置以用于監(jiān)測(cè)所述爐體內(nèi)的料位信號(hào)；遠(yuǎn)程監(jiān)控器，所述遠(yuǎn)程監(jiān)控器與所述圖像處理器相連以用于輸出所述圖像處理器的料位信號(hào)。根據(jù)本實(shí)用新型專(zhuān)利技術(shù)的料位監(jiān)測(cè)裝置，通過(guò)利用圖像處理器監(jiān)測(cè)爐體內(nèi)的料位信號(hào)，并利用遠(yuǎn)程監(jiān)控器輸出料位信號(hào)，不但結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，而且成本低，便于維護(hù)，同時(shí)無(wú)放射性，消除了安全隱患。

Material level monitoring device and high temperature furnace system for monitoring material level in high temperature furnace

The utility model discloses a material level monitoring device for monitoring the material level in a high-temperature furnace and a high-temperature furnace system. The material level monitoring device comprises a transparent cover plate arranged at the observation port, a protective gas pipeline for outputting the protective gas, the protective gas is blown to the transparent cover plate, and an image processor which is located outside the furnace body and is positioned on the transparent cover plate. A remote monitor is connected with the image processor for outputting the level signal of the image processor. According to the material level monitoring device of the utility model, by using the image processor to monitor the material level signal in the furnace body and the remote monitor to output the material level signal, not only the structure is simple, but also the cost is low, the maintenance is convenient, and there is no radioactivity at the same time, thus eliminating the hidden danger of safety.

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
用于監(jiān)測(cè)高溫爐內(nèi)料位的料位監(jiān)測(cè)裝置及高溫爐系統(tǒng)
本技術(shù)涉及料位監(jiān)測(cè)
，尤其是涉及一種用于監(jiān)測(cè)高溫爐內(nèi)料位的料位監(jiān)測(cè)裝置及高溫爐系統(tǒng)。
技術(shù)介紹
相關(guān)技術(shù)中，高溫爐例如氣基豎爐中一般采用射線式料位計(jì)來(lái)監(jiān)測(cè)爐內(nèi)料位。然而，由于射線料位計(jì)價(jià)格昂貴，增加了成本，而且采用銫或鈷等放射元素存在較大的安全隱患、對(duì)員工的健康造成不利影響。另外，射線料位計(jì)達(dá)到使用年限后，后續(xù)對(duì)料位計(jì)的處理難度大、處理費(fèi)用高。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本技術(shù)旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題之一。為此，本技術(shù)提出一種用于監(jiān)測(cè)高溫爐內(nèi)料位的料位監(jiān)測(cè)裝置，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，成本低。本技術(shù)還提出一種包括上述料位監(jiān)測(cè)裝置的高溫爐系統(tǒng)。根據(jù)本技術(shù)實(shí)施例的用于監(jiān)測(cè)高溫爐內(nèi)料位的料位監(jiān)測(cè)裝置，所述高溫爐包括爐體，所述爐體具有進(jìn)氣口、排氣口和觀測(cè)口，所述料位監(jiān)測(cè)裝置包括：透明蓋板，所述透明蓋板設(shè)在所述觀測(cè)口處；保護(hù)氣管路，所述保護(hù)氣管路用于輸出保護(hù)氣，所述保護(hù)氣吹向所述透明蓋板；圖像處理器，所述圖像處理器位于所述爐體的外側(cè)且正對(duì)所述透明蓋板設(shè)置以用于監(jiān)測(cè)所述爐體內(nèi)的料位信號(hào)；遠(yuǎn)程監(jiān)控器，所述遠(yuǎn)程監(jiān)控器與所述圖像處理器相連以用于輸出所述圖像處理器的料位信號(hào)。根據(jù)本技術(shù)實(shí)施例的料位監(jiān)測(cè)裝置，通過(guò)利用圖像處理器監(jiān)測(cè)爐體內(nèi)的料位信號(hào)，并利用遠(yuǎn)程監(jiān)控器輸出料位信號(hào)，不但結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，而且成本低，便于維護(hù)，同時(shí)無(wú)放射性，消除了安全隱患。根據(jù)本技術(shù)的一些實(shí)施例，料位監(jiān)測(cè)裝置還包括連通管，所述連通管的一端伸入所述觀測(cè)口且所述連通管的另一端位于所述爐體外。具體地，所述透明蓋板設(shè)在所述連通管的所述另一端。具體地，所述保護(hù)氣管路的一端與所述連通管的位于所述透明蓋板和所述觀測(cè)口之間的部分相連。進(jìn)一步地，所述保護(hù)氣管路上設(shè)有控制閥?？蛇x地，所述連通管的中心軸線與所述爐體的橫截面之間的夾角為α，α滿(mǎn)足：15≤α≤45°。在本技術(shù)的一些實(shí)施例中，觀測(cè)口的水平高度為H1，所述排氣口的水平高度為H2，H1和H2滿(mǎn)足：-3m≤H1-H2≤1m。在本技術(shù)的一些實(shí)施例中，將平行于所述爐體的橫截面的平面定義為平面m，所述爐體的中心點(diǎn)在平面m內(nèi)的投影為O，所述觀測(cè)口的中心在所述平面m內(nèi)的投影為A，所述排氣口的中心在所述平面m內(nèi)的投影為B，OA和OB之間的夾角為β，β滿(mǎn)足：120°≤β≤240°?？蛇x地，所述圖像處理器為攝像機(jī)或照相機(jī)。根據(jù)本技術(shù)實(shí)施例的高溫爐系統(tǒng)，包括：高溫爐，所述高溫爐包括爐體；上述的料位監(jiān)測(cè)裝置。根據(jù)本技術(shù)實(shí)施例的高溫爐系統(tǒng)，通過(guò)設(shè)置上述的料位監(jiān)測(cè)裝置，不但結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，而且成本低，便于維護(hù)，同時(shí)無(wú)放射性，消除了安全隱患。本技術(shù)的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過(guò)本技術(shù)的實(shí)踐了解到。附圖說(shuō)明本技術(shù)的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從結(jié)合下面附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中：圖1是根據(jù)本技術(shù)一些實(shí)施例的料位監(jiān)測(cè)裝置的示意圖；圖2是根據(jù)本技術(shù)一些實(shí)施例的高溫爐系統(tǒng)的示意圖。附圖標(biāo)記：高溫爐系統(tǒng)1000；料位監(jiān)測(cè)裝置100；透明蓋板1；保護(hù)氣管路2；圖像處理器3；遠(yuǎn)程監(jiān)控器4；連通管5；控制閥6；法蘭7；爐體200；進(jìn)料口201；排料口202；進(jìn)氣口203；排氣口204；觀測(cè)口205。具體實(shí)施方式下面詳細(xì)描述本技術(shù)的實(shí)施例，所述實(shí)施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類(lèi)似的標(biāo)號(hào)表示相同或類(lèi)似的元件或具有相同或類(lèi)似功能的元件。下面通過(guò)參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的，僅用于解釋本技術(shù)，而不能理解為對(duì)本技術(shù)的限制。在本技術(shù)的描述中，需要理解的是，術(shù)語(yǔ)“中心”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“水平”、“頂”、“底”“內(nèi)”、“外”、“軸向”、等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本技術(shù)和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本技術(shù)的限制。此外，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個(gè)或者更多個(gè)該特征。在本技術(shù)的描述中，除非另有說(shuō)明，“多個(gè)”的含義是兩個(gè)或兩個(gè)以上。在本技術(shù)的描述中，需要說(shuō)明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語(yǔ)“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機(jī)械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過(guò)中間媒介間接相連，可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)在本技術(shù)中的具體含義。下面參考圖1-圖2描述根據(jù)本技術(shù)實(shí)施例的用于監(jiān)測(cè)高溫爐內(nèi)料位的料位監(jiān)測(cè)裝置100。例如，高溫爐為氣基豎爐。高溫爐包括爐體200，料位監(jiān)測(cè)裝置100用于監(jiān)測(cè)爐體200內(nèi)的料位情況，從而判斷是否進(jìn)料。具體地，如圖2所示，爐體200具有進(jìn)氣口203、排氣口204、進(jìn)料口201、排料口202和觀測(cè)口205，料位監(jiān)測(cè)裝置100用于監(jiān)測(cè)爐體200內(nèi)的料位情況。具體而言，例如，當(dāng)高溫爐為氣基豎爐時(shí)，鐵礦石在氣基豎爐中被還原成鐵，高溫還原氣可從進(jìn)氣口203進(jìn)入爐體200內(nèi)，同時(shí)鐵礦石可從進(jìn)料口201進(jìn)入到爐體200內(nèi)，鐵礦石與還原氣反應(yīng)后形成反應(yīng)氣和固體產(chǎn)物，反應(yīng)氣從排氣口204排出，固體產(chǎn)物可從排料口202排出，料位監(jiān)測(cè)裝置100可通過(guò)觀測(cè)口205監(jiān)測(cè)爐體200內(nèi)的料位情況，從而判斷是否進(jìn)料，確保還原反應(yīng)的順利進(jìn)行。如圖1-圖2所示，根據(jù)本技術(shù)實(shí)施例的料位監(jiān)測(cè)裝置100，可以包括透明蓋板1、保護(hù)氣管路2、圖像處理器3和遠(yuǎn)程監(jiān)控器4?？蛇x地，透明蓋板1為鋼化玻璃，由此，有利于提高透明蓋板1的使用壽命。具體地，透明蓋板1設(shè)在觀測(cè)口205處，保護(hù)氣管路2用于輸出保護(hù)氣，保護(hù)氣吹向透明蓋板1。例如，保護(hù)氣管路2的一端伸入到爐體200內(nèi)的鄰近觀測(cè)口205的位置處以便于保護(hù)氣吹向透明蓋板1，保證透明蓋板1不被粉塵遮蔽。進(jìn)一步地，圖像處理器3位于爐體200的外側(cè)且正對(duì)透明蓋板1設(shè)置以用于監(jiān)測(cè)爐體200內(nèi)的料位信號(hào)，遠(yuǎn)程監(jiān)控器4與圖像處理器3相連以用于輸出圖像處理器3的料位信號(hào)。具體而言，例如，在氣基豎爐中發(fā)生還原反應(yīng)時(shí)，爐體200內(nèi)會(huì)存在粉塵，保護(hù)氣管路2輸出的保護(hù)氣吹向透明蓋板1，避免爐體200內(nèi)的粉塵等遮擋透明蓋板1，這樣可使圖像處理器3的監(jiān)測(cè)路徑清潔，便于圖像處理器3清晰地監(jiān)測(cè)到爐體200內(nèi)的料位信號(hào)，并將料位信號(hào)反饋給遠(yuǎn)程監(jiān)控器4，以便于遠(yuǎn)程監(jiān)控器4準(zhǔn)確地輸出料位信號(hào)。另外，在保護(hù)氣吹向透明蓋板1的過(guò)程中，保護(hù)氣還可以起到對(duì)觀測(cè)口205附近進(jìn)行降溫的作用，提高料位監(jiān)測(cè)裝置100使用的可靠性，延長(zhǎng)料位監(jiān)測(cè)裝置100的使用壽命?？蛇x地，保護(hù)氣可以為氮?dú)?、低溫還原氣、低溫冷卻氣等。根據(jù)本技術(shù)實(shí)施例的料位監(jiān)測(cè)裝置100，通過(guò)利用圖像處理器3監(jiān)測(cè)爐體200內(nèi)的料位信號(hào)，并利用遠(yuǎn)程監(jiān)控器4輸出料位信號(hào)，不但結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，而且成本低，便于維護(hù)，同時(shí)無(wú)放射性，消除了安全隱患。根據(jù)本技術(shù)的一些實(shí)施例，料位監(jiān)測(cè)裝置100還包括連通管5，連通管5的一端伸入觀測(cè)口205且連通管5的另一端位于爐體200外，透明蓋板1設(shè)在連通管5的另一端。由此，連通管5的設(shè)置有利于透本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種用于監(jiān)測(cè)高溫爐內(nèi)料位的料位監(jiān)測(cè)裝置，所述高溫爐包括爐體，所述爐體具有進(jìn)氣口、排氣口和觀測(cè)口，其特征在于，所述料位監(jiān)測(cè)裝置包括：透明蓋板，所述透明蓋板設(shè)在所述觀測(cè)口處；保護(hù)氣管路，所述保護(hù)氣管路用于輸出保護(hù)氣，所述保護(hù)氣吹向所述透明蓋板；圖像處理器，所述圖像處理器位于所述爐體的外側(cè)且正對(duì)所述透明蓋板設(shè)置以用于監(jiān)測(cè)所述爐體內(nèi)的料位信號(hào)；遠(yuǎn)程監(jiān)控器，所述遠(yuǎn)程監(jiān)控器與所述圖像處理器相連以用于輸出所述圖像處理器的料位信號(hào)。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種用于監(jiān)測(cè)高溫爐內(nèi)料位的料位監(jiān)測(cè)裝置，所述高溫爐包括爐體，所述爐體具有進(jìn)氣口、排氣口和觀測(cè)口，其特征在于，所述料位監(jiān)測(cè)裝置包括：透明蓋板，所述透明蓋板設(shè)在所述觀測(cè)口處；保護(hù)氣管路，所述保護(hù)氣管路用于輸出保護(hù)氣，所述保護(hù)氣吹向所述透明蓋板；圖像處理器，所述圖像處理器位于所述爐體的外側(cè)且正對(duì)所述透明蓋板設(shè)置以用于監(jiān)測(cè)所述爐體內(nèi)的料位信號(hào)；遠(yuǎn)程監(jiān)控器，所述遠(yuǎn)程監(jiān)控器與所述圖像處理器相連以用于輸出所述圖像處理器的料位信號(hào)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于監(jiān)測(cè)高溫爐內(nèi)料位的料位監(jiān)測(cè)裝置，其特征在于，還包括連通管，所述連通管的一端伸入所述觀測(cè)口且所述連通管的另一端位于所述爐體外。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于監(jiān)測(cè)高溫爐內(nèi)料位的料位監(jiān)測(cè)裝置，其特征在于，所述透明蓋板設(shè)在所述連通管的所述另一端。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于監(jiān)測(cè)高溫爐內(nèi)料位的料位監(jiān)測(cè)裝置，其特征在于，所述保護(hù)氣管路的一端與所述連通管的位于所述透明蓋板和所述觀測(cè)口之間的部分相連。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于監(jiān)測(cè)高溫爐內(nèi)料位的...

【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：范志輝，鄧君，員曉，劉亮，曹志成，吳道洪，
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人：江蘇省冶金設(shè)計(jì)院有限公司，
類(lèi)型：新型
國(guó)別省市：江蘇,32