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    一種基板清潔機制造技術

    技術編號:19197040 閱讀:28 留言:0更新日期:2018-10-20 00:56
    本發明專利技術公開了一種基板清潔機,包括機架,機架上設有取料機構、運轉機構及清潔機構,其中,清潔機構架設在運轉機構上方,包括滾輪架、驅動滾輪架升降的第一驅動組件,其中,滾輪架上設有相平行的清潔滾輪和粘紙輪,清潔滾輪與滾輪架轉動連接,粘紙輪與滾輪架浮動連接;運轉機構包括與機架滑動連接的支撐平臺、驅動支撐平臺沿機架滑動的第二驅動組件;取料機構架設在運轉機構上方,包括吸取組件、驅動吸取組件相對機架移動及升降的第三驅動組件。本發明專利技術的基板清潔機能夠自動清潔基板,且擦拭基板的壓力為柔性的,不會損壞產品。

    A substrate cleaner

    The invention discloses a substrate cleaner, which comprises a rack with a material taking mechanism, a running mechanism and a cleaning mechanism. The cleaning mechanism is mounted above the running mechanism, and comprises a roller rack and a first driving component for driving the lifting of the roller rack. The roller rack is provided with a parallel cleaning roller and a paper sticking wheel. The cleaning roller is rotated and connected with the roller rack, and the sticking paper wheel is floated and connected with the roller rack; the running mechanism comprises a supporting platform sliding on the rack and a second driving component driving the supporting platform sliding along the rack; and the reclaiming mechanism is arranged above the running mechanism, including the sucking component, the driving sucking component moving and lifting relative to the rack. The third drive component. The substrate cleaner of the invention can automatically clean the substrate, and the pressure of wiping the substrate is flexible, and the product can not be damaged.

    【技術實現步驟摘要】
    一種基板清潔機
    本專利技術涉及顯示面板的清潔
    ,尤其涉及一種基板清潔機。
    技術介紹
    在TFT、LTPS、AM-OLED等多種顯示面板的制程中,需要檢測顯示面板(玻璃切割后、偏貼前的液晶屏)的外觀。為了確保檢測結果的可靠,在外觀檢測之前需要對顯示面板進行清潔。目前,主要是由人工對顯示面板進行清潔,效率較低;且人工在清洗時,擦拭的力度主要是憑借經驗跟感覺,稍有不慎,擦拭壓力過大而損壞產品。有鑒于上述的缺陷,本設計人,積極加以研究創新,以期創設一種基板清潔機,使其更具有產業上的利用價值。
    技術實現思路
    本專利技術的目的在于提出一種基板清潔機,能夠自動清潔基板,且擦拭基板的壓力為柔性的,不會損壞產品。為達此目的,本專利技術采用以下技術方案:一種基板清潔機,包括機架,所述機架上設有取料機構、運轉機構及清潔機構,其中,所述清潔機構架設在所述運轉機構上方,包括滾輪架、驅動所述滾輪架升降的第一驅動組件,其中,所述滾輪架上設有相平行的清潔滾輪和粘紙輪,所述清潔滾輪與所述滾輪架轉動連接,所述粘紙輪與所述滾輪架浮動連接;所述運轉機構包括與所述機架滑動連接的支撐平臺、驅動所述支撐平臺沿所述機架滑動的第二驅動組件;所述取料機構架設在所述運轉機構上方,包括吸取組件、驅動所述吸取組件相對所述機架移動及升降的第三驅動組件。進一步的,所述機架上設有第一龍門架,所述第一龍門架上通過直線軸承垂直連接有導柱,所述導柱的一端與所述滾輪架連接、另一端連接有固定板,且所述直線軸承與所述第一龍門架之間連接有無油襯套。進一步的,所述第一驅動組件包括安裝在所述第一龍門架上且輸出端與所述滾輪架連接的第一氣缸、與所述第一氣缸連接的壓力控制閥。進一步的,所述固定板上垂直連接有下降過程中能夠與所述第一龍門架相抵的緩沖器。進一步的,各所述導柱上還套設有一端與所述固定板相抵、另一端與所述無油襯套相抵的彈性件。進一步的,所述滾輪架上設有兩個相對的長槽,且所述滾輪架的邊緣設有與所述長槽連通的開口;所述粘紙輪的兩端分別擱置在兩個所述長槽中。進一步的,所述粘紙輪的材質為不銹鋼。進一步的,所述第二驅動組件包括電機、與所述電機傳動連接的絲桿,所述絲桿的絲母與所述支撐平臺連接。進一步的,所述第三驅動組件包括水平設置在所述機架上的第二龍門架上的直線模組、安裝在所述直線模組上的第二氣缸,所述第二氣缸的輸出端與所述吸取組件連接。進一步的,所述機架上設有兩組運轉機構、兩組所述清潔機構,所述取料機構包括兩組所述吸取組件。本專利技術的有益效果為:可以自動地將基板放置到支撐平臺上,支撐平臺可攜帶基板移動至清潔機構下方,清潔機構在基板移動過程中,對基板施加柔性的擦拭壓力,清潔基板的同時不會損壞產品;清潔完畢后,支撐平臺攜帶基板移動至下料處,整個過程完全自動進行,大大提高了清潔效率;同時基板清潔機可以直接連接到面板自動生產線,具有較高的機動性。附圖說明圖1是本專利技術具體實施方式提供的基板清潔機的結構示意圖;圖2是本專利技術具體實施方式提供的基板清潔機中的清潔機構的結構示意圖。圖中:10-機架,11-第一龍門架,12-第二龍門架,21-吸取組件,22-直線模組,23-第二氣缸,31-支撐平臺,32-電機,33-絲桿,40-清潔機構,41-滾輪架,42-清潔滾輪,43-粘紙輪,44-導柱,45-固定板,46-無油襯套,47-第一氣缸,48-壓力控制閥,49-緩沖器,50-彈性件,51-長槽。具體實施方式下面結合附圖并通過具體實施方式來進一步說明本專利技術的技術方案。如圖1至2所示,本專利技術的基板清潔機包括機架10,機架10上設有取料機構、運轉機構及清潔機構40。其中,清潔機構40架設在運轉機構上方,包括滾輪架41、驅動滾輪架41升降的第一驅動組件,其中,滾輪架41上設有相平行的清潔滾輪42和粘紙輪43,清潔滾輪42與滾輪架41轉動連接,粘紙輪43與滾輪架41浮動連接;運轉機構包括與機架10滑動連接的支撐平臺31、驅動支撐平臺31沿機架10滑動的第二驅動組件;取料機構架設在運轉機構上方,包括吸取組件21、驅動吸取組件21相對機架10移動及升降的第三驅動組件。具體的,為了使滾輪架41能夠相對機架10升降,本專利技術在機架10上設有第一龍門架11,第一龍門架11上通過直線軸承垂直連接有兩個導柱44,兩個導柱44的一端與滾輪架41連接、另一端連接有固定板45,且直線軸承與第一龍門架11之間連接有無油襯套46。通過設置無油襯套46,避免了使用直線軸承時潤滑油沿著導柱44滴落到粘紙輪43上導致的清潔失效。另外,第一驅動組件包括安裝在第一龍門架11上且輸出端與滾輪架41連接的第一氣缸47、與第一氣缸47連接的壓力控制閥48。壓力控制閥48可以減小第一氣缸47下壓的壓力,從而可以精確地控制擦拭基板的壓力,避免壓壞基板。為了進一步使第一氣缸47的下壓的壓力為柔性(即,不使滾輪架41直接撞擊在基板上)的,本專利技術在固定板45上垂直連接有下降過程中能夠與第一龍門架11相抵的緩沖器49。利用緩沖器49的緩沖功能,可以使滾輪架41上的清潔滾輪42輕輕的擦拭基板,而不是硬性的擠壓。作為本專利技術的優選實施方式,本專利技術在各導柱44上還套設有一端與固定板45相抵、另一端與無油襯套46相抵的彈性件50。利用彈性件50的彈性作用力,可以抵消清潔機構40的部分自重。可見,本專利技術同時利用壓力控制閥48、緩沖器49及彈性件50,可精確的將第一氣缸47下壓的壓力精密調節到0.5N,該壓力既能達到清潔基板的要求,又能避免壓壞基板。具體的,為了使粘紙輪43與滾輪架41浮動連接,以便利用粘紙輪43自重配合清潔滾輪42擦拭基板,本專利技術在滾輪架41上設有兩個相對的長槽51,且滾輪架41的邊緣設有與長槽51連通的開口,將粘紙輪43的兩端分別擱置在兩個長槽51中。利用長槽51,粘紙輪43可沿長槽51移動,確保清潔滾輪42按壓基板的力度;利用與長槽51連通的開口,便于拆卸粘紙輪43,以更換粘紙輪43上的粘紙。為了使粘紙輪43利用自重,以與清潔滾輪42緊密接觸,達到清潔的效果,本專利技術的粘紙輪43的材質為不銹鋼;另外,清潔滾輪42的材質為硅膠,便于摩擦接觸。具體的,驅動支撐平臺31沿機架10滑動的第二驅動組件包括電機32、與電機32傳動連接的絲桿33,絲桿33的絲母與支撐平臺31連接;驅動吸取組件21相對機架10移動及升降的第三驅動組件包括水平設置在機架10上的第二龍門架12上的直線模組22、安裝在直線模組22上的第二氣缸23,第二氣缸23的輸出端與吸取組件21連接。本專利技術中的吸取組件21可為多個本領域常用的吸嘴。作為本專利技術的優選實施例,為了提升清潔效率,本專利技術在機架10上設有兩組上述運轉機構、兩組上述清潔機構40,相應的,取料機構包括兩組上述吸取組件21。綜上,本專利技術的基板清潔機可以自動地將基板放置到支撐平臺31上,支撐平臺31可攜帶基板移動至清潔機構40下方,清潔機構40在基板移動過程中,對基板施加柔性的擦拭壓力,清潔基板的同時不會損壞產品;清潔完畢后,支撐平臺31攜帶基板移動至下料處,整個過程完全自動進行,大大提高了清潔效率。以上結合具體實施例描述了本專利技術的技術原理。這些描述只是為了解釋本專利技術的原理,而不能以任何方式解釋為對本專利技術保護范圍的限制。基于此處的解釋,本領域的技術人員本文檔來自技高網...

    【技術保護點】
    1.一種基板清潔機,其特征在于,包括機架(10),所述機架(10)上設有取料機構、運轉機構及清潔機構(40),其中,所述清潔機構(40)架設在所述運轉機構上方,包括滾輪架(41)、驅動所述滾輪架(41)升降的第一驅動組件,其中,所述滾輪架(41)上設有相平行的清潔滾輪(42)和粘紙輪(43),所述清潔滾輪(42)與所述滾輪架(41)轉動連接,所述粘紙輪(43)與所述滾輪架(41)浮動連接;所述運轉機構包括與所述機架(10)滑動連接的支撐平臺(31)、驅動所述支撐平臺(31)沿所述機架(10)滑動的第二驅動組件;所述取料機構架設在所述運轉機構上方,包括吸取組件(21)、驅動所述吸取組件(21)相對所述機架(10)移動及升降的第三驅動組件。

    【技術特征摘要】
    1.一種基板清潔機,其特征在于,包括機架(10),所述機架(10)上設有取料機構、運轉機構及清潔機構(40),其中,所述清潔機構(40)架設在所述運轉機構上方,包括滾輪架(41)、驅動所述滾輪架(41)升降的第一驅動組件,其中,所述滾輪架(41)上設有相平行的清潔滾輪(42)和粘紙輪(43),所述清潔滾輪(42)與所述滾輪架(41)轉動連接,所述粘紙輪(43)與所述滾輪架(41)浮動連接;所述運轉機構包括與所述機架(10)滑動連接的支撐平臺(31)、驅動所述支撐平臺(31)沿所述機架(10)滑動的第二驅動組件;所述取料機構架設在所述運轉機構上方,包括吸取組件(21)、驅動所述吸取組件(21)相對所述機架(10)移動及升降的第三驅動組件。2.根據權利要求1所述的基板清潔機,其特征在于,所述機架(10)上設有第一龍門架(11),所述第一龍門架(11)上通過直線軸承垂直連接有導柱(44),所述導柱(44)的一端與所述滾輪架(41)連接、另一端連接有固定板(45),且所述直線軸承與所述第一龍門架(11)之間連接有無油襯套(46)。3.根據權利要求2述的基板清潔機,其特征在于,所述第一驅動組件包括安裝在所述第一龍門架(11)上且輸出端與所述滾輪架(41)連接的第一氣缸(47)、與所述第一氣缸(47)連接的壓力控制閥(48)。4.根據權利要求...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:王文飛葉坤商秋鋒
    申請(專利權)人:蘇州精瀨光電有限公司
    類型:發明
    國別省市:江蘇,32

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