The invention discloses a substrate cleaner, which comprises a rack with a material taking mechanism, a running mechanism and a cleaning mechanism. The cleaning mechanism is mounted above the running mechanism, and comprises a roller rack and a first driving component for driving the lifting of the roller rack. The roller rack is provided with a parallel cleaning roller and a paper sticking wheel. The cleaning roller is rotated and connected with the roller rack, and the sticking paper wheel is floated and connected with the roller rack; the running mechanism comprises a supporting platform sliding on the rack and a second driving component driving the supporting platform sliding along the rack; and the reclaiming mechanism is arranged above the running mechanism, including the sucking component, the driving sucking component moving and lifting relative to the rack. The third drive component. The substrate cleaner of the invention can automatically clean the substrate, and the pressure of wiping the substrate is flexible, and the product can not be damaged.
【技術實現步驟摘要】
一種基板清潔機
本專利技術涉及顯示面板的清潔
,尤其涉及一種基板清潔機。
技術介紹
在TFT、LTPS、AM-OLED等多種顯示面板的制程中,需要檢測顯示面板(玻璃切割后、偏貼前的液晶屏)的外觀。為了確保檢測結果的可靠,在外觀檢測之前需要對顯示面板進行清潔。目前,主要是由人工對顯示面板進行清潔,效率較低;且人工在清洗時,擦拭的力度主要是憑借經驗跟感覺,稍有不慎,擦拭壓力過大而損壞產品。有鑒于上述的缺陷,本設計人,積極加以研究創新,以期創設一種基板清潔機,使其更具有產業上的利用價值。
技術實現思路
本專利技術的目的在于提出一種基板清潔機,能夠自動清潔基板,且擦拭基板的壓力為柔性的,不會損壞產品。為達此目的,本專利技術采用以下技術方案:一種基板清潔機,包括機架,所述機架上設有取料機構、運轉機構及清潔機構,其中,所述清潔機構架設在所述運轉機構上方,包括滾輪架、驅動所述滾輪架升降的第一驅動組件,其中,所述滾輪架上設有相平行的清潔滾輪和粘紙輪,所述清潔滾輪與所述滾輪架轉動連接,所述粘紙輪與所述滾輪架浮動連接;所述運轉機構包括與所述機架滑動連接的支撐平臺、驅動所述支撐平臺沿所述機架滑動的第二驅動組件;所述取料機構架設在所述運轉機構上方,包括吸取組件、驅動所述吸取組件相對所述機架移動及升降的第三驅動組件。進一步的,所述機架上設有第一龍門架,所述第一龍門架上通過直線軸承垂直連接有導柱,所述導柱的一端與所述滾輪架連接、另一端連接有固定板,且所述直線軸承與所述第一龍門架之間連接有無油襯套。進一步的,所述第一驅動組件包括安裝在所述第一龍門架上且輸出端與所述滾輪架連接的第一氣缸 ...
【技術保護點】
1.一種基板清潔機,其特征在于,包括機架(10),所述機架(10)上設有取料機構、運轉機構及清潔機構(40),其中,所述清潔機構(40)架設在所述運轉機構上方,包括滾輪架(41)、驅動所述滾輪架(41)升降的第一驅動組件,其中,所述滾輪架(41)上設有相平行的清潔滾輪(42)和粘紙輪(43),所述清潔滾輪(42)與所述滾輪架(41)轉動連接,所述粘紙輪(43)與所述滾輪架(41)浮動連接;所述運轉機構包括與所述機架(10)滑動連接的支撐平臺(31)、驅動所述支撐平臺(31)沿所述機架(10)滑動的第二驅動組件;所述取料機構架設在所述運轉機構上方,包括吸取組件(21)、驅動所述吸取組件(21)相對所述機架(10)移動及升降的第三驅動組件。
【技術特征摘要】
1.一種基板清潔機,其特征在于,包括機架(10),所述機架(10)上設有取料機構、運轉機構及清潔機構(40),其中,所述清潔機構(40)架設在所述運轉機構上方,包括滾輪架(41)、驅動所述滾輪架(41)升降的第一驅動組件,其中,所述滾輪架(41)上設有相平行的清潔滾輪(42)和粘紙輪(43),所述清潔滾輪(42)與所述滾輪架(41)轉動連接,所述粘紙輪(43)與所述滾輪架(41)浮動連接;所述運轉機構包括與所述機架(10)滑動連接的支撐平臺(31)、驅動所述支撐平臺(31)沿所述機架(10)滑動的第二驅動組件;所述取料機構架設在所述運轉機構上方,包括吸取組件(21)、驅動所述吸取組件(21)相對所述機架(10)移動及升降的第三驅動組件。2.根據權利要求1所述的基板清潔機,其特征在于,所述機架(10)上設有第一龍門架(11),所述第一龍門架(11)上通過直線軸承垂直連接有導柱(44),所述導柱(44)的一端與所述滾輪架(41)連接、另一端連接有固定板(45),且所述直線軸承與所述第一龍門架(11)之間連接有無油襯套(46)。3.根據權利要求2述的基板清潔機,其特征在于,所述第一驅動組件包括安裝在所述第一龍門架(11)上且輸出端與所述滾輪架(41)連接的第一氣缸(47)、與所述第一氣缸(47)連接的壓力控制閥(48)。4.根據權利要求...
【專利技術屬性】
技術研發人員:王文飛,葉坤,商秋鋒,
申請(專利權)人:蘇州精瀨光電有限公司,
類型:發明
國別省市:江蘇,32
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