高階負型光阻剝膜槽制造技術

本實用新型專利技術公開了一種高階負型光阻剝膜槽，包括用于盛裝剝膜液的主槽體，主槽體內設有用于固定待剝膜的基板的掛架和能夠使剝膜液產生渦流的搖擺機構；主槽體的上端設有循環槽以及底部設有循環管道，該循環管道從主槽體的外部連通至循環槽，循環管道上設有用于使膜渣和溶液分離的系統馬達和用于過濾分離后的溶液的過濾器。該高階負型光阻剝膜槽通過搖擺機構形成的渦流將光刻膠干膜溶解，使干膜細小化，不僅浸泡時間短，剝膜速度快，產能高，而且對高縱橫比/高深寬比的剝膜制程，于基板底部不留干膜，產品良率大大提高。

High-order negative photoresist stripping groove

The utility model discloses a high-order negative photoresist stripping film groove, which comprises a main groove body for holding the stripping liquid, a hanger for fixing the substrate to be stripped film and a swing mechanism capable of generating eddy current in the stripping liquid in the main groove body, a circulating groove at the upper end of the main groove body and a circulating pipe at the bottom, which is connected from the outside of the main groove body to the circulating groove, and a circulating pipe on the circulating pipe. A system motor for separating the membrane slag from the solution and a filter for filtering the separated solution are provided. The high-order negative photoresist stripping groove dissolves the dry film of photoresist through eddy current formed by swinging mechanism, which makes the dry film smaller. It not only has short immersion time, fast stripping speed and high productivity, but also does not leave dry film at the bottom of the substrate in stripping process with high aspect ratio/high aspect ratio, and the product yield is greatly improved.

【技術實現步驟摘要】
高階負型光阻剝膜槽
本技術涉及一種高階負型光阻剝膜槽。
技術介紹
光刻膠(英語：photoresist)，亦稱為光阻或光阻劑，是指通過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料，是光刻工藝中的關鍵材料，主要應用于集成電路和半導體分立器件的細微圖形加工。光阻主要可分為正型光阻和負型光阻，正型光阻就是被光照射的部分可以背顯影液去除，而未曝光的光阻則不會被顯影液去除；而負型光阻則相反，被光照射的部分不會被顯影液去除，而其余不被光所照射的區域將會被顯影液去除。負型光阻因其可于剝膜后，維持高縱橫比，圓形電鍍即細線路(L/S＜10μm)圓形電鍍的形狀優于正型光阻，在未來先進制造于印刷電路板/載板/軟板/3DIC封裝市場中，將是不可或缺的重要材料。但現有的負型光阻在剝膜時存在產能低、均勻性不佳、制程時間長、底部有殘膜等缺點。
技術實現思路
為了克服上述缺陷，本技術提供了一種高階負型光阻剝膜槽，能夠實現快速剝膜，底部無殘留。本技術為了解決其技術問題所采用的技術方案是：一種高階負型光阻剝膜槽，包括用于盛裝剝膜液的主槽體，所述主槽體內設有用于固定待剝膜的基板的掛架和能夠使所述剝膜液產生渦流的搖擺機構；所述主槽體的上端設有循環槽以及底部設有循環管道，該循環管道從所述主槽體的外部連通至所述循環槽，所述循環管道上設有用于使膜渣和溶液分離的系統馬達和用于過濾分離后的溶液的過濾器。作為本技術的進一步改進，所述搖擺機構包括搖擺框架、驅動馬達和依次平行間隔設于所述搖擺框架上的葉片，所述驅動馬達能夠帶動每個葉片繞其軸線按設定的頻率和角度搖擺。作為本技術的進一步改進，所述驅動馬達為線性馬達。作為本技術的進一步改進，所述葉片的厚度為0.3～50mm，所述葉片的搖擺頻率為0.1～15Hz，所述葉片的搖擺行程為0.3～50mm，所述葉片的搖擺角度為15°～85°。作為本技術的進一步改進，所述葉片為金屬、塑料或金屬包塑形成。作為本技術的進一步改進，所述塑料包括PVC、PP、PE和PEEK至少其中之一。作為本技術的進一步改進，所述搖擺機構為兩個，分別沿相互垂直的兩個豎直方向設置于所述主槽體內。作為本技術的進一步改進，所述基板與其中一個搖擺機構平行設置。本技術的有益效果是：浸泡時間短，剝膜速度快，產能高；對高縱橫比/高深寬比的剝膜制程，于基板底部不留干膜，產品良率提高；剝膜后的干膜將細小化，即使不溶解于溶液中，但容易隨循環流入處理槽，剝膜過程不會造成產品刮傷；剝膜干膜不溶于溶液中，將其細小化容易膜渣溶液分離，則溶液更換率低，產品成本低；因將膜渣細小化，亦將其由溶液中分離，可將膜渣回收再利用，更加經濟。附圖說明圖1為本技術結構示意圖；圖2為本技術Y向的搖擺機構結構示意圖；圖3為本技術Z向的搖擺機構結構示意圖；圖4為本技術沿Y向搖擺機構的剖面結構示意圖；圖5為本技術沿Z向搖擺機構的剖面結構示意圖。結合附圖，作以下說明：1——主槽體；2——基板；3——搖擺機構；4——循環槽；5——循環管道；6——系統馬達；7——過濾器；31——搖擺框架；32——葉片。具體實施方式以下結合附圖，對本技術的一個較佳實施例作詳細說明。但本技術的保護范圍不限于下述實施例，即但凡以本技術申請專利范圍及說明書內容所作的簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本技術專利涵蓋范圍之內。參閱圖1-5，為本技術所述的一種高階負型光阻剝膜槽，包括用于盛裝剝膜液的主槽體1，所述主槽體內設有用于固定待剝膜的基板2的掛架和能夠使所述剝膜液產生渦流的搖擺機構3；所述主槽體的上端設有循環槽4以及底部設有循環管道5，該循環管道從所述主槽體的外部連通至所述循環槽，所述循環管道上設有用于使膜渣和溶液分離的系統馬達6和用于過濾分離后的溶液的過濾器7。使用時，先將剝膜藥液從循環槽進入主槽體，經由下方的系統馬達和循環管道達到藥液平衡充滿主槽體。需要去除光刻膠干膜的基板(晶圓級封裝waferlevelchipsizepackage/晶粒級封裝panellevelpackage/IC載板/印刷電路板PCB)經由設備機構設計固定于掛架上,通過運行放入主槽體，并通過掛架固定在主槽體內，并浸置30～120分鐘，然后開啟搖擺機構，搖擺機構產生渦流(相較傳統噴灑式有更強大的流體力量)，使剝膜液全方位更有力量進入金屬及干膜的介面，并充分接觸和碰撞，將被剝膜液溶解成小固體的光刻膠干膜顆粒溶解成微細膠體的液態，從而加速光刻膠干膜的剝離，實現光刻膠干膜的快速去除。去除后的膜渣和溶液由系統馬達驅動分離，分離后的溶液經過過濾器過濾后再送入主槽體循環使用。優選的，所述搖擺機構包括搖擺框架31、驅動馬達和依次平行間隔設于所述搖擺框架上的葉片32，所述驅動馬達能夠帶動每個葉片繞其軸線按設定的頻率和角度搖擺。驅動馬達工作時，帶動搖擺框架上的葉片分別按照設定的頻率和角度進行搖擺，使得主槽體內的剝膜液產生渦流，優選的，所述驅動馬達為線性馬達或一般軸承馬達；所述葉片的厚度為0.3～50mm，所述葉片的搖擺頻率為0.1～15Hz，所述葉片的搖擺行程為0.3～50mm，所述葉片的搖擺角度為15°～85°；所述葉片為金屬、塑料或金屬包塑形成；所述塑料包括PVC、PP、PE和PEEK至少其中之一；所述搖擺機構為兩個，分別沿相互垂直的兩個豎直方向設置于所述主槽體內；所述基板與其中一個搖擺機構平行設置。以機臺的水平面為X向，以垂直機臺的兩個豎直方向分別為Y向和Z向，即在Y向和Z向上分別設置一搖擺機構。在使用時，可單獨選擇其中一個方向搖擺機構工作，這樣可以使剝膜液全方位進入基板并充分接觸和碰撞，將被剝膜液溶解成小固體的光刻膠干膜顆粒溶解成微細膠體的液態，從而加速光刻膠干膜的剝離，實現光刻膠干膜的快速去除，保證金屬圖形底部無殘留。該高階負型光阻剝膜槽通過設置主槽體、循環槽和循環管道形成剝膜液在主槽體內的填充和循環流動，工作時將基板通過掛架固定在主槽體內，然后通過兩個搖擺機構(根據需要選擇一個方向搖擺機構動作)在主槽體內產生渦流，渦流的產生可以使剝膜液全方位進入基板并充分接觸和碰撞，將被剝膜液溶解成小固體的光刻膠干膜顆粒溶解成微細膠體的液態，從而加速光刻膠干膜的剝離，實現光刻膠干膜的快速去除。去除后的膜渣和溶液由系統馬達驅動分離，分離后的溶液經過過濾器過濾后再送入主槽體循環使用。由此可見，該高階負型光阻剝膜槽通過搖擺機構形成的渦流將光刻膠干膜溶解，使干膜細小化，相對現有技術具有以下優點：浸泡時間短，剝膜速度快，產能高；對高縱橫比/高深寬比的剝膜制程，于基板底部不留干膜，產品良率提高；剝膜后的干膜將細小化，即使不溶解于溶液中，但容易隨循環流入處理槽，剝膜過程不會造成產品刮傷；剝膜干膜不溶于溶液中，將其細小化容易膜渣溶液分離，則溶液更換率低，產品成本低；因將膜渣細小化，亦將其由溶液中分離，可將膜渣回收再利用，更加經濟。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
1.一種高階負型光阻剝膜槽，包括用于盛裝剝膜液的主槽體(1)，其特征在于：所述主槽體內設有用于固定待剝膜的基板(2)的掛架和能夠使所述剝膜液產生渦流的搖擺機構(3)；所述主槽體的上端設有循環槽(4)以及底部設有循環管道(5)，該循環管道從所述主槽體的外部連通至所述循環槽，所述循環管道上設有用于使膜渣和溶液分離的系統馬達(6)和用于過濾分離后的溶液的過濾器(7)。

【技術特征摘要】
1.一種高階負型光阻剝膜槽，包括用于盛裝剝膜液的主槽體(1)，其特征在于：所述主槽體內設有用于固定待剝膜的基板(2)的掛架和能夠使所述剝膜液產生渦流的搖擺機構(3)；所述主槽體的上端設有循環槽(4)以及底部設有循環管道(5)，該循環管道從所述主槽體的外部連通至所述循環槽，所述循環管道上設有用于使膜渣和溶液分離的系統馬達(6)和用于過濾分離后的溶液的過濾器(7)。2.根據權利要求1所述的高階負型光阻剝膜槽，其特征在于：所述搖擺機構包括搖擺框架(31)、驅動馬達和依次平行間隔設于所述搖擺框架上的葉片(32)，所述驅動馬達能夠帶動每個葉片繞其軸線按設定的頻率和角度搖擺。3.根據權利要求2所述的高階負型光阻剝膜槽，其特征在于：所述驅動...

【專利技術屬性】
技術研發人員：王彥智，
申請(專利權)人：王彥智，
類型：新型
國別省市：中國臺灣,71