旋涂機以及具有該旋涂機的基板處理設備和系統技術方案

提供了一種旋涂機以及具有該旋涂機的基板處理設備和系統。所述旋涂機包括：可旋轉吸盤結構，所述可旋轉吸盤結構被配置成保持基板；凹腔，所述凹腔圍繞所述基板并且將所述基板周圍的流體的流引導到所述凹腔的底部；以及流控制器，所述流控制器可拆卸地聯接于所述凹腔，使得所述流控制器布置在所述基板的邊緣與所述凹腔之間并且將所述流分成直線流和非直線流。

Rotary Coating Machine and Substrate Processing Equipment and System with the Rotary Coating Machine

A spin coating machine and a substrate treatment equipment and system with the spin coating machine are provided. The rotary coating machine includes: a rotating sucker structure, which is configured to maintain a substrate; a concave cavity around the substrate and directs the flow of fluid around the substrate to the bottom of the concave cavity; and a flow controller, which is detachably connected to the concave cavity so that the flow controller is arranged at the edge of the substrate and with the concave cavity. Between the concave cavities, the flow is divided into linear flow and non-linear flow.

【技術實現步驟摘要】
旋涂機以及具有該旋涂機的基板處理設備和系統相關申請的交叉引用本申請要求于2017年11月17日在韓國知識產權局提交的韓國專利申請No.10-2017-0154316的優先權，該韓國專利申請的內容以引用方式全部并入本文中。
本專利技術構思的示例性實施例涉及旋涂機和具有該旋涂機的基板處理設備和系統，并且更具體地，涉及用于在旋轉基板上形成光致抗蝕劑層的光致抗蝕劑旋涂機和具有該旋涂機的基板處理設備和系統。
技術介紹
光刻工藝已經被廣泛的用于在用于半導體器件的基板上和用于平板裝置的玻璃基板上形成各種圖案。一般的光刻工藝可以包括用于在基板上涂覆感光材料以在基板上形成感光層的涂覆工藝、使用光掩模(reticle)將感光層暴露于光的曝光工藝和用于將曝光后的感光層顯影成電路圖案的顯影工藝。通常，通過將感光材料供應到旋轉基板上達足夠厚度的旋涂技術來進行涂覆工藝。在這種情況下，可以通過改變基板的旋轉速度來控制感光層的厚度。在這種情況下，由于感光材料通常是粘性的并且基板以足夠速度旋轉，因此供應到基板中心部的感光材料的顆粒通常散布在基板的表面上并且從中心部流向邊緣部。從基板的邊緣部離開的感光材料被從涂覆設備排出。出于這些原因，當感光材料的顆粒在涂覆設備的邊緣部從基板離開時，通常飛濺并碰撞到圍繞基板的涂覆設備的凹腔(bowl)上，隨后返回到基板上。另外，感光材料常常在基板的邊緣部周圍回旋地流動并且流回到基板，從而污染基板上的感光層。另外，經過涂覆設備的空氣連同感光材料的流速隨著感光材料從基板的中心部流動到邊緣部而降低，因此中心部和邊緣部之間的速度差，導致在邊緣部處形成的感光層厚得多。
技術實現思路
本專利技術構思的至少一個示例性實施例提供了一種旋涂機，該旋涂機具有可拆卸地插入在凹腔的表面和基板的邊緣部之間的流控制器。本專利技術構思的至少一個示例性實施例提供了一種具有以上旋涂機的基板處理設備。本專利技術構思的至少一個示例性實施例提供了一種具有以上基板處理設備的基板處理系統。根據本專利技術構思的示例性實施例，提供了一種旋涂機，所述旋涂機包括：可旋轉吸盤結構，所述可旋轉吸盤結構被配置成保持基板；凹腔，所述凹腔圍繞所述基板并且被配置成將所述基板周圍的流體的流引導到所述凹腔的底部；以及流控制器，所述流控制器可拆卸地聯接于所述凹腔，所述流控制器布置在所述基板的邊緣與所述凹腔之間，以將所述流分成直線流和非直線流。根據本專利技術構思的示例性實施例，提供了一種基板處理設備，所述基板處理設備包括：殼體，所述殼體具有被配置成接納基板的出入口；流發生器，所述流發生器布置在所述殼體的頂部處，并且產生從所述殼體的所述頂部下降到底部的氣流；化學品供應器，所述化學品供應器被配置成將化學品供應到所述基板上；以及旋涂機，所述旋涂機被固定于所述殼體的底部，以將所述化學品涂覆在所述基板上。所述旋涂機包括：可旋轉吸盤結構，所述可旋轉吸盤結構被配置成保持所述基板；凹腔，所述凹腔圍繞所述基板并且被配置成將所述基板周圍的所述化學品的化學品流和所述氣流引導到所述凹腔的底部；以及流控制器，所述流控制器可拆卸地聯接于所述凹腔，使得所述流控制器布置在所述基板的邊緣與所述凹腔之間，以將所述化學品流和所述氣流分成直線流和非直線流。根據本專利技術構思的示例性實施例，提供了一種基板處理系統，所述基板處理系統包括：載體單元，所述載體單元被配置成接納其中保持有多個基板的基板載體；基板處理設備，所述基板處理設備具有用于在所述多個基板中的固定于可旋轉吸盤的一個基板上形成涂覆層的旋涂機；以及傳送單元，所述傳送單元被配置成將所述一個基板在所述載體單元與所述基板處理設備之間傳送。所述旋涂機包括凹腔和流控制器，所述凹腔圍繞所述可旋轉吸盤，所述流控制器布置在所述基板與所述凹腔之間，以將涂覆化學品的化學品流和氣流分成流速相對較高的直線流和流速相對較低的非直線流。根據本專利技術構思的示例性實施例，提供了一種旋涂機，所述旋涂機包括：可旋轉吸盤結構，所述可旋轉吸盤結構被配置成保持基板；凹腔，所述凹腔圍繞所述可旋轉吸盤結構；第一環，所述第一環可拆卸地聯接于所述凹腔的上部；第二環，所述第二環圍繞所述可旋轉吸盤結構；以及連接件，所述連接件將所述第二環連接于所述第一環。根據本專利技術構思的示例性實施例，流控制器按化學品流被分成流速相對較高的直線流和流速相對較低的非直線流這樣的配置，布置在凹腔的側壁與基板的邊緣之間的流空間中。因此，可以充分防止化學品流在基板邊緣處的流損失，從而充分防止化學品和邊緣膠滴沉淀在基板邊緣處。另外，可以通過流控制器充分防止在凹腔底部周圍的化學品流的渦流，以便可以防止光致抗蝕劑流的微小顆粒返回到基板上的涂層上，從而由于渦流減少使涂層受顆粒的污染最小化。特別地，流控制器可以在沒有任何附加組合工具的情況下通過將主體手動接合到凹腔的上部來與凹腔可拆卸地聯接，從而便于凹腔與流控制器的組合。可以在單個注塑成型工藝中同時制造流控制器和凹腔，從而便于流控制器的制造以及流控制器與凹腔的組合。附圖說明通過參照附圖詳細描述本專利技術構思的示例性實施例，本專利技術構思將變得更顯而易見，在附圖中：圖1是例示了根據本專利技術構思的示例性實施例的旋涂機的結構視圖；圖2是圖1中示出的旋涂機的部分A的放大視圖；圖3是例示了圖2中示出的旋涂機的部分A的立體圖；圖4是例示了圖3中示出的流控制器的立體圖；圖5是示出了針對配置表中的每個板件的在基板邊緣處的氣流的流速的曲線圖；圖6是例示了具有根據本專利技術構思的示例性實施例的圖1中示出的旋涂機的基板處理設備的結構視圖；以及圖7是例示了具有根據本專利技術構思的示例性實施例的圖6中示出的基板處理設備的基板處理系統的立體圖。具體實施方式現在，將參照附圖中例示的本專利技術構思的示例性實施例，其中，相似的附圖標記始終表示相似的組件。圖1是例示了根據本專利技術構思的示例性實施例的旋涂機(例如，旋涂裝置)的結構視圖。圖2是圖1中示出的旋涂機的部分A的放大視圖。圖3是例示了圖2中示出的旋涂機的部分A的立體圖，圖4是例示了圖3中示出的流控制器的立體圖。參照圖1至圖4，根據本專利技術構思的示例性實施例的旋涂機500包括：可旋轉吸盤結構100，基板W可固定到該吸盤結構100上；凹腔200，該凹腔200圍繞(例如，環繞)基板W并且將基板W周圍的流引導到其底部；以及流控制器300，該流控制器300以使得流控制器300布置在凹腔200的側壁與基板W的邊緣E之間這樣的配置與凹腔200可拆卸地聯接。流控制器300可以將流分成流速相對較高的直線流LF和流速相對較低的非直線流NLF。可旋轉吸盤結構100可以包括用于保持基板W的平臺。例如，可旋轉吸盤結構100包括其上固定有基板W的可旋轉吸盤110(例如，平臺)和與可旋轉吸盤110聯接的支撐柱120。可以向可旋轉吸盤結構100施加外部電力P，以使可旋轉吸盤110在特定方向上旋轉。可旋轉吸盤110可以與接收外部電力P的可旋轉吸盤結構100內的電機的軸連接。可以通過靜電力或機械力將基板W固定于可旋轉吸盤110。支撐柱120可以在外部電力P的作用下旋轉，因此吸盤110也可以在支撐柱120的作用下旋轉。可以涂覆在旋涂機500中的基板W上的層的厚度可以根據吸盤110的旋轉速度而變化。在示例性實施例中，支撐柱120被配置成豎直地向上或向下移動，以使吸本文檔來自技高網...

【技術保護點】
1.一種旋涂機，所述旋涂機包括：可旋轉吸盤結構，所述可旋轉吸盤結構被配置成保持基板；凹腔，所述凹腔圍繞所述可旋轉吸盤結構，所述凹腔被配置成將所述基板周圍的流體的流引導到所述凹腔的底部；以及流控制器，所述流控制器可拆卸地聯接于所述凹腔，其中，所述流控制器布置在所述基板的邊緣與所述凹腔之間并且將所述流分成直線流和非直線流。

【技術特征摘要】
2017.11.17 KR 10-2017-01543161.一種旋涂機，所述旋涂機包括：可旋轉吸盤結構，所述可旋轉吸盤結構被配置成保持基板；凹腔，所述凹腔圍繞所述可旋轉吸盤結構，所述凹腔被配置成將所述基板周圍的流體的流引導到所述凹腔的底部；以及流控制器，所述流控制器可拆卸地聯接于所述凹腔，其中，所述流控制器布置在所述基板的邊緣與所述凹腔之間并且將所述流分成直線流和非直線流。2.根據權利要求1所述的旋涂機，其中，所述流控制器包括：主體，所述主體被成形為環并且可拆卸地聯接于所述凹腔的上部；控制板，所述控制板被成形為以相對于所述基板的傾斜角圍繞所述基板的環，使得所述控制板的第一邊緣比所述基板的上表面高并且所述控制板的與所述第一邊緣相對的第二邊緣比所述基板的下表面低；以及連接件，所述連接件將所述控制板連接于所述主體。3.根據權利要求2所述的旋涂機，其中，所述主體包括：上部，所述上部具有與所述凹腔的上表面共面的上表面以及在所述主體的內側從所述上部的上表面向上突出的突出部；接合部，所述接合部設置在所述主體的上部的上表面下方并且與所述凹腔聯接；以及導流件，所述導流件具有相對于所述基板的凸曲線并且具有第一曲面，所述第一曲面在所述主體的上部的所述突出部和所述接合部之間曲線地延伸。4.根據權利要求3所述的旋涂機，其中，所述導流件的與所述突出部的內表面相對應的頂部延伸超過所述主體的上部的上表面，使得所述導流件的正交投影與所述主體的上部的上表面交疊。5.根據權利要求3所述的旋涂機，其中，所述控制板包括：主體面對部，所述主體面對部具有相對于所述主體的所述導流件的凸曲線，并且具有面對所述主體的所述導流件的第二曲面；以及基板面對部，所述基板面對部與所述主體面對部一體聯接并且被成形為面對所述基板的平板。6.根據權利要求5所述的旋涂機，其中，所述非直線流經過所述控制板的所述主體面對部與所述主體的所述導流件之間的流空間，使得所述非直線流在所述凹腔的底部處擴散，并且所述非直線流的流速從所述流空間的中心部向端部減小。7.根據權利要求5所述的旋涂機，其中，所述直線流經過所述平板與所述基板之間的流空間，使得所述直線流的流損失在所述基板的邊緣處最小化。8.根據權利要求1所述的旋涂機，其中，所述連接件包括多個連桿，所述多個連桿以相同間隔布置在所述主體與所述控制板之間。9.一種用于處理基板的設備，所述設備包括：殼體，所述殼體具有被配置成接納基板的出入口；流發生器，所述流發生器布置在所述殼體的頂部處，并且產生從所述殼體的所述頂部下降到底部的氣流；化學品供應器，所述化學品供應器被配置成將化學品供應到所述基板上；以及旋涂機，所述旋涂機被固定于所述殼體的底部處，所述旋涂機被配置成將所述化學品涂覆在所述基板上，其中，所述旋涂機包括：可旋轉吸盤結構，所述可旋轉吸盤結構被配置成保持所述基板；凹腔，所述凹腔圍繞所述基板并且被配置成將所述基板周圍的所述化學品的化學品流和所述氣流引導到所述凹腔的底部；以及流控制器，所述流控制器可拆卸地聯接于所述凹腔，使得所述流控制器布置在所述基板的邊緣與所述凹腔之間，其中，所述流控制器將所述化學品流和所述氣流分別分成直線流和非直線流。10.根據權利要求9所述的設備，其中，所述凹腔包括：內凹腔，所述內凹腔被布置在所述基板下方并且具有朝向所述基板的邊緣向上傾斜的傾斜壁；以及外凹腔，所述外凹腔的中心軸與所述內凹腔的中心軸相同并且所述外凹腔圍繞所述基板。11.根據權利要求10所述的設備，所述設備還包括斜面清潔器，所述斜面清潔器布置在所述基板下方的所述傾斜壁上，并且被配置為將清潔溶液注入到所述基板的邊緣，以便從所述基板的邊緣去除邊緣膠滴。12.根據權利要求11所述的設備，所述設備還包括引導構件，所述引導構件連接于所述傾斜壁的與所述基板的邊緣接近的頂部并且朝向所述凹腔的底部向下傾斜，以便將所述氣流、所述化學品流和所述清潔溶液引導到所述外凹腔中。13.根據權利要求9所述的設備，其中，所述流控制器包括：主體，所述主體被成形為環并且可拆卸地聯接于所述凹腔的上部；控制板，所述控制板被成形為以相對于所述基板的傾斜角圍繞所述基板的環，使得所述控制板的第一邊緣比所述基板...

【專利技術屬性】
技術研發人員：全炫周，金圣協，
申請(專利權)人：三星電子株式會社，
類型：發明
國別省市：韓國,KR