大理石玻璃制造工藝制造技術

本發明專利技術涉及一種大理石玻璃制造工藝，屬于裝飾材料的技術領域。本發明專利技術的大理石玻璃制造工藝，包括以下步驟：（1）準備潔凈的玻璃基材；（2）在玻璃基材表面涂覆高溫釉墨，烘干后進鋼化爐鋼化成型得到具有高溫釉墨層的鋼化玻璃；（3）對高溫釉墨層進行電暈處理；（4）將大理石圖案打印在電暈處理的高溫釉墨層上；然后進行烘烤得到大理石圖案層；（5）在大理石圖案層上涂覆罩面光油，烘烤得到罩面光油層。采用本發明專利技術的工藝制造的大理石玻璃將天然大理石圖紋打印在具有高溫釉墨層的鋼化玻璃上面，顏色飽和度高，圖紋細膩美觀，而且具有耐磨和抗刮能力優異、憎水防污以及耐候性好的特點。

MANUFACTURING TECHNOLOGY OF MARBLE GLASS

【技術實現步驟摘要】
大理石玻璃制造工藝
本專利技術涉及裝飾材料的
，具體地說，本專利技術涉及一種大理石玻璃制造工藝。
技術介紹
天然石，例如大理石等具有各種自然天成的顏色和圖案，磨光后通常具有獨特的美感，加工成板材后經常被用于建筑的墻面、地面、桌面、廚面、柜體面板等。然而，天然石是一種不可再生的原料，開采時不僅勞動強度大對工人身體健康產生危害，而且同時也對生態環境造成影響，開采加工時產生的大量粉塵還影響空氣質量。另外，天然石材加工的尺寸規格有限，在對接的時候縫隙較大，連接有困難，不可能做無縫拼接，而且天然石滲透率也較高，污漬難清理。另外，天然石通常具有一定的輻射，用于室內存在一定的健康隱患。為了解決上述問題，現有技術中開發了采用玻璃基材替代天然石的相關產品。其中一種是采用附膜機貼附在玻璃底面，這種工藝產品中的圖紋立體感差，且耐候性能差，膜層之間容易開裂，不便于長久使用；另一種產品是通過噴繪高溫無機涂料玻璃表面，其缺點是表面粗糙，不防污，顏色飽和度低，圖紋失真。
技術實現思路
為了解決現有技術中的上述技術問題，本專利技術的目的在于提供一種大理石玻璃制造工藝。為了實現上述目的，本專利技術采用了以下技術方案：一種大理石玻璃制造工藝，包括以下步驟：（1）準備潔凈的玻璃基材；（2）在玻璃基材表面涂覆高溫釉墨，烘干后進鋼化爐鋼化成型得到具有高溫釉墨層的鋼化玻璃；（3）對所述高溫釉墨層進行電暈處理；（4）用噴墨打印機采用墨水將大理石圖案打印在電暈處理的高溫釉墨層上；然后進行烘烤得到大理石圖案層；（5）在所述大理石圖案層上涂覆罩面光油，然后進行烘烤得到罩面光油層。其中，所述罩面光油層經過拋光處理。其中，所述高溫釉墨由35~65wt%的玻璃基釉、15~35wt%的著色粉和5.0~50.0wt%的調墨油組成。所述玻璃基釉在本專利技術中并無明確限制，例如可以選擇各種玻璃粉末，作為示例性地，所述玻璃基釉可以選自由SiO2、B2O3、Al2O3、BaO、CaO、Na2O、K2O、ZrO2、MgO、TiO2、ZnO、Li2O、CeO2、La2O3和Fe2O3組成的組中。所述著色粉可選擇各種無機氧化物顏料，例如可選自由CoO、NiO、Cu2O、Cr2O3、Mn2O3、Fe2O3和Er2O3組成的組中。根據所需或所設計的顏色，著色粉可以選擇所述組中的一種或多種。所述調墨油由干性植物油或主要由干性植物油組成。作為優選地，所述調墨油由干性植物油、環氧基硅烷和巰基硅烷，并且所述干性植物油與所述環氧基硅烷和巰基硅烷的質量比為10:0.1~1.0:0.1~1.0。其中，步驟（2）中，所述鋼化爐包括預熱區和加熱區，涂覆高溫釉墨的玻璃基材在預熱區被加熱至500~10℃然后輸送至加熱區，在加熱區被加熱至680~690℃，且在加熱區加熱的時間為200~250秒，然后經120~180秒冷卻至80℃以下。其中，步驟（3）中，所述電暈處理的能量密度為50~1000J/m2，優選為200~800J/m2，更優選為300~600J/m2；電暈處理的放電頻率為50Hz~1000KHz，優選為10~200KHz。電暈處理可在大氣條件下實施，或者也可以在填充有N2、O2和/或Ar的密封條件下實施。所述罩面光油可以采用耐溶劑耐磨的罩面光油。作為進一步改進地，為了賦予良好的憎水防污性以及耐候性，所述罩面光油包含25~35wt%的有機硅樹脂、50~65wt%的有機硅改性環氧樹脂、1.0~10.0wt%的氟硅樹脂、1.0~5.0wt%的流平劑、1.0~3.0wt%的3-異氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷，和8~20wt%的稀釋劑。與現有技術相比，本專利技術所述的大理石玻璃制造工藝具有以下有益效果：本專利技術的大理石玻璃制造工藝以工業玻璃為基材來實現大理石的裝飾效果，而且玻璃的物理賦予了可塑性高，應用領域廣泛；采用本專利技術的工藝制造的大理石玻璃將天然大理石圖紋打印在具有高溫釉墨層的鋼化玻璃上面，顏色飽和度高，圖紋細膩美觀，而且具有耐磨和抗刮能力優異、憎水防污以及耐候性好的特點。具體實施方式以下將結合具體實施例對本專利技術所述的大理石玻璃制造工藝做進一步的闡述，以幫助本領域的技術人員對本專利技術的專利技術構思、技術方案有更完整、準確和深入的理解。本專利技術的大理石玻璃制造工藝，包括以下步驟：（1）準備潔凈的玻璃基材；（2）在玻璃基材表面涂覆高溫釉墨，烘干后進鋼化爐鋼化成型得到具有高溫釉墨層的鋼化玻璃；（3）對所述高溫釉墨層進行電暈處理；（4）用噴墨打印機采用墨水將大理石圖案打印在電暈處理的高溫釉墨層上；然后進行烘烤得到大理石圖案層；（5）在所述大理石圖案層上涂覆罩面光油，然后進行烘烤得到罩面光油層。在本專利技術的制造工藝中，玻璃基材表面高溫釉墨烘干后經過了玻璃的鋼化工藝處理，使得經高溫燒結的釉墨在玻璃鋼化工藝形成的微孔有利于后續的用于打印大理石圖案的墨水的吸附，顯著增強了大理石圖案的立體質感和顏色飽和度。在本專利技術中，所述高溫釉墨由35~65wt%的玻璃基釉、15~35wt%的著色粉和5.0~50.0wt%的調墨油組成。所述玻璃基釉在本專利技術中并無明確限制，例如可以選擇各種玻璃粉末，作為示例性地，所述玻璃基釉可以選自由SiO2、B2O3、Al2O3、BaO、CaO、Na2O、K2O、ZrO2、MgO、TiO2、ZnO、Li2O、CeO2、La2O3和Fe2O3組成的組中。作為示例性地，以所述高溫釉墨的總重量計，所述玻璃基釉含有30~50wt%的SiO2、2.5~10wt%的B2O3、1.0~5.0wt%的Al2O3、0~3.0wt%的BaO、0~1.0wt%的CaO、1.0~5wt%的Na2O、0.5~5.0wt%的K2O、0~1wt%的ZrO2、0~1wt%的MgO、0~3wt%的TiO2、0~1.0wt%的ZnO、0~3.0wt%的Li2O、0~1.0wt%的CeO2、0~1.0wt%的La2O3、0~1.0wt%Fe2O3。所述著色粉可選擇各種無機氧化物顏料，例如可選自由CoO（藍紫）、NiO(淺紫)、Cu2O（孔雀藍）、Cr2O3(鉻綠)、Mn2O3(茶色)、Fe2O3(紅棕色)和Er2O3(粉紅)組成的組中。根據所需或所設計的顏色，著色粉可以選擇所述組中的一種或多種。所述調墨油由干性植物油或主要由干性植物油組成。作為優選地，所述調墨油由干性植物油、環氧基硅烷和巰基硅烷，并且所述干性植物油與所述環氧基硅烷和巰基硅烷的質量比為10:0.1~1.0:0.1~1.0。所述干性植物油例如可以選擇桐油、亞麻仁油、大麻油或蘇子油等，優選使用亞麻仁聚合油。所述環氧基硅烷優選使用3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷、2-（3,4-環氧基環己基）-乙基三甲氧基硅烷或2-（3,4-環氧基環己基）-乙基三乙氧基硅烷。所述巰基硅烷例如可以選擇常用的3-巰丙基三甲氧基硅烷或3-巰丙基三乙氧基硅烷。在本專利技術中，步驟（2）中，所述鋼化爐包括預熱區和加熱區，涂覆高溫釉墨的玻璃基材在預熱區被加熱至500~510℃然后輸送至加熱區，在加熱區被加熱至680~690℃，且在加熱區加熱的時間為200~250秒，然后經120~180秒冷卻至80℃以下。步驟（3）中，所述電暈處理的能量密度為50~1000J/m2，優選為200~800J/m2，更優選本文檔來自技高網...

【技術保護點】
1.一種大理石玻璃制造工藝，其特征在于包括以下步驟：（1）準備潔凈的玻璃基材；（2）在玻璃基材表面涂覆高溫釉墨，烘干后進鋼化爐鋼化成型得到具有高溫釉墨層的鋼化玻璃；（3）對所述高溫釉墨層進行電暈處理；（4）用噴墨打印機采用墨水將大理石圖案打印在電暈處理的高溫釉墨層上；然后進行烘烤得到大理石圖案層；（5）在所述大理石圖案層上涂覆罩面光油，然后進行烘烤得到罩面光油層。

【技術特征摘要】
1.一種大理石玻璃制造工藝，其特征在于包括以下步驟：（1）準備潔凈的玻璃基材；（2）在玻璃基材表面涂覆高溫釉墨，烘干后進鋼化爐鋼化成型得到具有高溫釉墨層的鋼化玻璃；（3）對所述高溫釉墨層進行電暈處理；（4）用噴墨打印機采用墨水將大理石圖案打印在電暈處理的高溫釉墨層上；然后進行烘烤得到大理石圖案層；（5）在所述大理石圖案層上涂覆罩面光油，然后進行烘烤得到罩面光油層。2.根據權利要求1所述的大理石玻璃制造工藝，其特征在于：所述高溫釉墨由35~65wt%的玻璃基釉、15~35wt%的著色粉和5.0~50.0wt%的調墨油組成。3.根據權利要求2所述的大理石玻璃制造工藝，其特征在于：所述玻璃基釉選自由SiO2、B2O3、Al2O3、BaO、CaO、Na2O、K2O、ZrO2、MgO、TiO2、ZnO、Li2O、CeO2、La2O3和Fe2O3組成的組中；所述著色粉選自由CoO、NiO、Cu2O、Cr2O3、Mn2O3、Fe2O3和Er2O3組成的組中。4.根據權利要求2所述的大理石玻璃制造工藝，其特征在于：所述調墨油由干性植物油、環氧基硅烷和巰基硅烷組成，并且所述干性植物油與所述環氧基硅烷和巰基硅烷的質量比為10:0.1~1.0:0.1~1.0。5.根據權利要求4所述的大理石玻璃制造工藝，其特征在于：所述環氧基硅烷選自3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷、2-（3,4-環...

【專利技術屬性】
技術研發人員：于洪偉，
申請(專利權)人：于洪偉，
類型：發明
國別省市：北京,11