本實用新型專利技術(shù)涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種有機(jī)發(fā)光二極管清洗設(shè)備;目的是提供一種清洗設(shè)備;技術(shù)方案是:包括機(jī)架,機(jī)架上部設(shè)置有可左右移動的滑塊,滑塊設(shè)置有可上下移動的輸送桿,輸送桿底部固定有微孔吸附平板用于吸附有機(jī)發(fā)光二極管待清洗部件,機(jī)架中部設(shè)置有超聲波清洗槽用于清洗有機(jī)發(fā)光二極管待清洗部件,超聲波清洗槽位于微孔吸附平板移動路徑上;微孔吸附平板包括中空的底板,底板底面覆蓋有橡膠層,橡膠層底面固定有高平面度的金屬板,底板底部陣列有若干第一吸附微孔,第一吸附微孔貫穿橡膠層、金屬板與底板內(nèi)腔相通。本實用新型專利技術(shù)通用性好,減震效果好,可確保有機(jī)發(fā)光二極管清洗安全。
An organic light-emitting diode cleaning equipment
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
一種有機(jī)發(fā)光二極管清洗設(shè)備
本技術(shù)涉及顯示
,具體涉及一種有機(jī)發(fā)光二極管清洗設(shè)備。
技術(shù)介紹
有機(jī)發(fā)光二極管(OrganicLight-EmittingDiode,縮寫:OLED)顯示技術(shù),具有電壓低,視角寬、響應(yīng)速度快、溫度適應(yīng)性好等優(yōu)勢,是新一代的顯示技術(shù)。OLED器件通常包括:基板、置于基板上的ITO透明陽極、置于ITO透明陽極上的空穴注入層(HIL)、置于空穴注入層上的空穴傳輸層(HTL)、置于空穴傳輸層上的發(fā)光層(EML)、置于發(fā)光層上的電子傳輸層(ETL)、置于電子傳輸層上的電子注入層(EIL)以及置于電子注入層上的陰極。根據(jù)所使用的基板、封裝板的柔性可分為柔性O(shè)LED屏(基板為柔性復(fù)合材料層、封裝板為柔性復(fù)合材料膜)和剛性O(shè)LED屏(基板、封裝板均為玻璃),不管是柔性O(shè)LED還是剛性O(shè)LED在生產(chǎn)過程中基板、封裝板均需要進(jìn)行清洗?,F(xiàn)有的清洗設(shè)備往往只能清洗剛性O(shè)LED,而不能對柔性O(shè)LED進(jìn)行清洗。同時,現(xiàn)有的剛性O(shè)LED清洗設(shè)備在移動基板或封裝板時未設(shè)置減震機(jī)構(gòu);而大面積的OLED屏的基板、封裝板,面積大、質(zhì)量大,在移動過程中極易損壞,造成原材料的浪費。因此需要一種,既可清洗剛性O(shè)LED又可清洗柔性O(shè)LED,且安全性高的有機(jī)發(fā)光二極管清洗設(shè)備。
技術(shù)實現(xiàn)思路
針對上述無既可清洗剛性有機(jī)發(fā)光二極管又可清洗柔性有機(jī)發(fā)光二極管,且清洗過程易造成損壞的技術(shù)問題;本技術(shù)提供了一種有機(jī)發(fā)光二極管清洗設(shè)備,既可對剛性有機(jī)發(fā)光二極管基板、封裝板進(jìn)行清洗,又可對柔性有機(jī)發(fā)光二極管基板、封裝板進(jìn)行清洗,還設(shè)置有減震部件;具有通用性好,減震效果好,可確保有機(jī)發(fā)光二極管清洗安全的特點。本技術(shù)通過下述技術(shù)方案實現(xiàn):一種有機(jī)發(fā)光二極管清洗設(shè)備,包括機(jī)架,所述機(jī)架上部設(shè)置有可左右移動的滑塊,所述滑塊設(shè)置有可上下移動的輸送桿,所述輸送桿底部固定有微孔吸附平板用于吸附有機(jī)發(fā)光二極管待清洗部件,所述機(jī)架中部設(shè)置有超聲波清洗槽用于清洗有機(jī)發(fā)光二極管待清洗部件,所述超聲波清洗槽位于微孔吸附平板移動路徑上;所述微孔吸附平板包括中空的底板,所述底板底面覆蓋有橡膠層,所述橡膠層底面固定有高平面度的金屬板,所述底板底部陣列有若干吸附微孔,所述第一吸附微孔貫穿橡膠層、金屬板與底板內(nèi)腔相通,所述第一吸附微孔所圍成的區(qū)域面積小于有機(jī)發(fā)光二極管待清洗部件的面積。優(yōu)選的,所述超聲波清洗槽內(nèi)設(shè)置有第一微孔吸附平臺,所述第一微孔吸附平臺為頂面具有高平面度的中空金屬平板、且陣列有若干與金屬平板內(nèi)腔相通的第二吸附微孔,所述第二吸附微孔所圍成的區(qū)域面積小于有機(jī)發(fā)光二極管待清洗部件的面積;所述超聲波清洗槽內(nèi)還固定有液面控制部件,所述液面控制部件用于控制超聲波清洗槽液面高于或低于第一微孔吸附平臺。優(yōu)選的,所述液面控制部件為固定在超聲波清洗槽槽壁的氣囊。優(yōu)選的,所述超聲波清洗槽一側(cè)還設(shè)有風(fēng)干槽,所述風(fēng)干槽位于微孔吸附平板移動路徑上,所述風(fēng)干槽側(cè)壁固定有第一風(fēng)干頭,所述第一風(fēng)干頭與風(fēng)干氣儲罐相連。優(yōu)選的,所述第一風(fēng)干頭設(shè)有向上傾斜的出氣微縫。優(yōu)選的,所述風(fēng)干槽內(nèi)還設(shè)有有第二微孔吸附平臺,所述第二微孔吸附平臺為頂面具有高平面度的中空金屬平板、且陣列有與金屬平板內(nèi)腔相通的若干第三吸附微孔,所述第三吸附微孔所圍成的區(qū)域面積小于有機(jī)發(fā)光二極管待清洗部件的面積;所述風(fēng)干槽側(cè)壁還固定有第二風(fēng)干頭,所述第二風(fēng)干頭與風(fēng)干氣儲罐相連、且斜向第二微孔吸附平臺出風(fēng)。優(yōu)選的,所述第二風(fēng)干頭由出氣微縫出風(fēng)。優(yōu)選的,所述第一風(fēng)干頭與風(fēng)干氣儲罐之間還連接有加熱器。優(yōu)選的,所述第二風(fēng)干頭與風(fēng)干氣儲罐之間還連接有加熱器。優(yōu)選的,所述加熱器為設(shè)置在管道內(nèi)的金屬絲加熱器。本技術(shù)與現(xiàn)有技術(shù)相比,具有如下的優(yōu)點和有益效果:1、通過帶動可上下左右移動的第一微孔吸附平臺吸附待清洗部件,實現(xiàn)部件的獲取、移動至超聲波清洗槽清洗、取出;第一微孔吸附平臺陣列設(shè)置多個第一吸附微孔,且具有很高的平面度,能夠?qū)⒋逑床考卫挝?,防止掉落,也能夠防止待清洗部件變形;在吸附平面和吸附板之間還有橡膠層,能夠吸收移動中產(chǎn)生的震動,防止待清洗部件滑動。因此,能夠既可對剛性有機(jī)發(fā)光二極管基板、封裝板進(jìn)行清洗,又可對柔性有機(jī)發(fā)光二極管基板、封裝板進(jìn)行清洗;具有通用性好,減震效果好,可確保有機(jī)發(fā)光二極管清洗安全的特點。2、在超聲波清洗槽的一側(cè)還設(shè)置有風(fēng)干槽,槽內(nèi)設(shè)置與風(fēng)干氣儲罐相連的風(fēng)干頭,可對清洗后的部件進(jìn)行風(fēng)干處理,可實現(xiàn)有機(jī)二極管的清洗、風(fēng)干一體化操作。3、風(fēng)干頭與風(fēng)干氣儲罐之間設(shè)置加熱器,以輸出熱風(fēng),可實現(xiàn)有機(jī)二極管的清洗、風(fēng)干、烘干一體化操作。附圖說明此處所說明的附圖用來提供對本技術(shù)實施例的進(jìn)一步理解,構(gòu)成本申請的一部分,并不構(gòu)成對本技術(shù)實施例的限定。在附圖中:圖1為本技術(shù)的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為本技術(shù)的微孔吸附平板示意圖;圖3為本技術(shù)的超聲波清洗槽結(jié)構(gòu)示意圖;圖4為本技術(shù)的第一微孔吸附平臺結(jié)構(gòu)示意圖;圖5為本技術(shù)的風(fēng)干槽結(jié)構(gòu)示意圖;圖6為本技術(shù)的第二微孔吸附平臺結(jié)構(gòu)示意圖。附圖中標(biāo)記及對應(yīng)的零部件名稱:1-機(jī)架,2-滑塊,3-輸送桿,4-微孔吸附平板,5-超聲波清洗槽,51-超聲波換能器,6-底板,7-橡膠層,8-金屬板,9-第一吸附微孔,10-第一微孔吸附平臺,11-第二吸附微孔,12-液面控制部件,13-風(fēng)干槽,14-風(fēng)干頭,15-風(fēng)干氣儲罐,16-第二微孔吸附平臺,17-第三吸附微孔,18-第二風(fēng)干頭,19-加熱器。具體實施方式為使本技術(shù)的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚明白,下面結(jié)合實施例和附圖,對本技術(shù)作進(jìn)一步的詳細(xì)說明,本技術(shù)的示意性實施方式及其說明僅用于解釋本技術(shù),并不作為對本技術(shù)的限定。實施例如圖1~6所示,一種有機(jī)發(fā)光二極管清洗設(shè)備,包括采用鋁合金、工程塑料、鋼構(gòu)件等搭設(shè)而成的機(jī)架1,所述機(jī)架1上部設(shè)置有可左右移動的滑塊2。具體來說,滑塊2可以通過絲桿機(jī)構(gòu)、氣壓缸、電推桿、直線電機(jī)、鏈傳動機(jī)構(gòu)、齒輪齒條機(jī)構(gòu)等帶動,在機(jī)架1的上部平面左右移動;優(yōu)選采用步進(jìn)電機(jī)帶動的絲桿機(jī)構(gòu)驅(qū)動滑塊2移動,可快速/慢速移動,位置控制精度高。所述滑塊2設(shè)置有可上下移動的輸送桿3,同樣的,輸送桿3同樣可由絲桿機(jī)構(gòu)、氣壓缸、電推桿、直線電機(jī)、鏈傳動機(jī)構(gòu)、齒輪齒條機(jī)構(gòu)等帶動上下移動,優(yōu)選采用電推桿,結(jié)構(gòu)簡單傳動可靠,此時輸送桿3為電推桿的推桿。同時,所述輸送桿3底部固定有微孔吸附平板4用于吸附有機(jī)發(fā)光二極管待清洗部件,具體來講:所述微孔吸附平板4包括中空的底板6,所述底板6底面覆蓋有橡膠層7,所述橡膠層7底面固定有高平面度的金屬板8。可知的是,橡膠層7可以緩沖底板6和金屬板8之間的沖擊、震動,從而起到減震作用。所述底板6底部陣列有若干第一吸附微孔9,通常,第一吸附微孔9橫向設(shè)置多行、縱向設(shè)置多列,能夠使吸力均勻。所述第一吸附微孔9所圍成的區(qū)域面積小于有機(jī)發(fā)光二極管待清洗部件的面積,以防止微孔吸附平板4在吸附基板或封裝板是,有第一吸附微孔9處于放空狀態(tài),而導(dǎo)致吸附不起或吸附不牢靠。同時所述第一吸附微孔9貫穿橡膠層7、金屬板8與底板6內(nèi)腔相通,通過給微孔吸附平板4提供真空源,如直接與真空泵、真空發(fā)生器等相連,便可將有機(jī)發(fā)光二極管基板或封裝板吸附起來。且吸附本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點】
1.一種有機(jī)發(fā)光二極管清洗設(shè)備,其特征在于:包括機(jī)架(1),所述機(jī)架(1)上部設(shè)置有可左右移動的滑塊(2),所述滑塊(2)設(shè)置有可上下移動的輸送桿(3),所述輸送桿(3)底部固定有微孔吸附平板(4)用于吸附有機(jī)發(fā)光二極管待清洗部件,所述機(jī)架中部設(shè)置有超聲波清洗槽(5)用于清洗有機(jī)發(fā)光二極管待清洗部件,所述超聲波清洗槽(5)位于微孔吸附平板(4)移動路徑上;所述微孔吸附平板(4)包括中空的底板(6),所述底板(6)底面覆蓋有橡膠層(7),所述橡膠層(7)底面固定有高平面度的金屬板(8),所述底板(6)底部陣列有若干第一吸附微孔(9),所述第一吸附微孔(9)貫穿橡膠層(7)、金屬板(8)與底板(6)內(nèi)腔相通,所述第一吸附微孔(9)所圍成的區(qū)域面積小于有機(jī)發(fā)光二極管待清洗部件的面積。
【技術(shù)特征摘要】
1.一種有機(jī)發(fā)光二極管清洗設(shè)備,其特征在于:包括機(jī)架(1),所述機(jī)架(1)上部設(shè)置有可左右移動的滑塊(2),所述滑塊(2)設(shè)置有可上下移動的輸送桿(3),所述輸送桿(3)底部固定有微孔吸附平板(4)用于吸附有機(jī)發(fā)光二極管待清洗部件,所述機(jī)架中部設(shè)置有超聲波清洗槽(5)用于清洗有機(jī)發(fā)光二極管待清洗部件,所述超聲波清洗槽(5)位于微孔吸附平板(4)移動路徑上;所述微孔吸附平板(4)包括中空的底板(6),所述底板(6)底面覆蓋有橡膠層(7),所述橡膠層(7)底面固定有高平面度的金屬板(8),所述底板(6)底部陣列有若干第一吸附微孔(9),所述第一吸附微孔(9)貫穿橡膠層(7)、金屬板(8)與底板(6)內(nèi)腔相通,所述第一吸附微孔(9)所圍成的區(qū)域面積小于有機(jī)發(fā)光二極管待清洗部件的面積。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光二極管清洗設(shè)備,其特征在于:所述超聲波清洗槽(5)內(nèi)設(shè)置有第一微孔吸附平臺(10),所述第一微孔吸附平臺(10)為頂面具有高平面度的中空金屬平板、且陣列有若干與金屬平板內(nèi)腔相通的第二吸附微孔(11),所述第二吸附微孔(11)所圍成的區(qū)域面積小于有機(jī)發(fā)光二極管待清洗部件的面積;所述超聲波清洗槽(5)內(nèi)還固定有液面控制部件(12),所述液面控制部件(12)用于控制超聲波清洗槽(5)液面高于或低于第一微孔吸附平臺(10)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的有機(jī)發(fā)光二極管清洗設(shè)備,其特征在于:所述液面控制部件(12)為固定在超聲波清洗槽(5)槽壁的氣囊。4.根據(jù)...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:王宏宇,
申請(專利權(quán))人:成都拓維高科光電科技有限公司,
類型:新型
國別省市:四川,51
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