一種有機(jī)發(fā)光二極管基板處理設(shè)備制造技術(shù)

本實(shí)用新型專利技術(shù)涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種有機(jī)發(fā)光二極管基板處理設(shè)備；目的是提供一種基板處理設(shè)備；技術(shù)方案是：包括依次相連的清洗槽、風(fēng)干室、烘烤室，清洗槽與風(fēng)干室連接處設(shè)有第一封閉門，風(fēng)干室與烘烤室連接處設(shè)有第二封閉門；清洗槽、風(fēng)干室、烘烤室底部均設(shè)有基板傳送機(jī)構(gòu)，基板傳送機(jī)構(gòu)可將基板從清洗槽向烘烤室傳送；清洗槽內(nèi)還設(shè)置有超聲波振蕩器、槽底設(shè)置有放水閥，風(fēng)干室設(shè)置有若干向基板傳送機(jī)構(gòu)送風(fēng)的出風(fēng)頭，出風(fēng)頭通過第一開關(guān)閥與風(fēng)干室外的保護(hù)氣儲(chǔ)罐相連，烘烤室內(nèi)設(shè)置有加熱部件、側(cè)壁設(shè)有第三封閉門用于取出基板。本實(shí)用新型專利技術(shù)可對(duì)有機(jī)發(fā)光二極管基板進(jìn)行清洗、烘烤一體化處理，具有處理效果好、效率高的特點(diǎn)。

An organic light-emitting diode substrate processing equipment

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
一種有機(jī)發(fā)光二極管基板處理設(shè)備
本技術(shù)涉及顯示
，具體涉及一種有機(jī)發(fā)光二極管基板處理設(shè)備。
技術(shù)介紹
有機(jī)發(fā)光二極管(OrganicLight-EmittingDiode，縮寫：OLED)顯示技術(shù)，具有電壓低，視角寬、響應(yīng)速度快、溫度適應(yīng)性好等優(yōu)勢，是新一代的顯示技術(shù)。OLED器件通常包括：基板、置于基板上的ITO透明陽極、置于ITO透明陽極上的空穴注入層(HIL)、置于空穴注入層上的空穴傳輸層(HTL)、置于空穴傳輸層上的發(fā)光層(EML)、置于發(fā)光層上的電子傳輸層(ETL)、置于電子傳輸層上的電子注入層(EIL)以及置于電子注入層上的陰極。將ITO附著在基板上之前，需要對(duì)OLED基板進(jìn)行前置處理，即進(jìn)行清洗、烘烤、UV處理。其中清洗和烘烤通常是兩個(gè)相互獨(dú)立的設(shè)備完成，在清洗完成后，需要在空氣氣氛下轉(zhuǎn)運(yùn)到烘烤設(shè)備中。雖然生產(chǎn)車間內(nèi)的空氣經(jīng)過凈化處理，但是仍然存在大量的雜質(zhì)，而在轉(zhuǎn)運(yùn)的過程中，由于基板上有殘留的水分，因此極易使空氣中殘留的雜質(zhì)附著在基板上，影響OLED的生產(chǎn)良率和使用壽命高。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
針對(duì)上述有機(jī)發(fā)光二極管基板在清洗、烘烤的轉(zhuǎn)運(yùn)過程中，容易再次附著雜質(zhì)的技術(shù)問題，本技術(shù)提供了一種有機(jī)發(fā)光二極管基板處理設(shè)備，可對(duì)有機(jī)發(fā)光二極管基板進(jìn)行清洗、烘烤一體化處理，能夠防止雜質(zhì)再次附著在基板上，具有處理效果好、節(jié)能、效率高的特點(diǎn)。本技術(shù)通過下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：一種有機(jī)發(fā)光二極管基板處理設(shè)備，包括依次相連的清洗槽、風(fēng)干室、烘烤室，所述清洗槽與風(fēng)干室連接處設(shè)有第一封閉門，所述風(fēng)干室與烘烤室連接處設(shè)有第二封閉門；所述清洗槽、風(fēng)干室、烘烤室底部均設(shè)有基板傳送機(jī)構(gòu)，所述基板傳送機(jī)構(gòu)可將基板從清洗槽向烘烤室傳送；所述清洗槽內(nèi)還設(shè)置有超聲波振蕩器、槽底設(shè)置有放水閥，所述風(fēng)干室設(shè)置有若干向基板傳送機(jī)構(gòu)送風(fēng)的出風(fēng)頭，所述出風(fēng)頭通過第一開關(guān)閥與風(fēng)干室外的保護(hù)氣儲(chǔ)罐相連，所述烘烤室內(nèi)設(shè)置有加熱部件、側(cè)壁設(shè)有第三封閉門用于取出基板。優(yōu)選的，所述風(fēng)干室為密閉的腔室，并通依次過第一單向閥、第一干燥器、空壓機(jī)與保護(hù)氣回收罐連通。優(yōu)選的，所述烘烤室為密閉的腔室，并通過第二開關(guān)閥連接有負(fù)壓泵。優(yōu)選的，所述烘烤室還通過第三開關(guān)閥與保護(hù)氣儲(chǔ)罐連通，并通過第二單向閥、第二干燥器與空壓機(jī)相連。優(yōu)選的，所述烘烤室、第二封閉門、第三封閉門均設(shè)置有隔熱層。優(yōu)選的，所述基板傳送機(jī)構(gòu)為傳動(dòng)滾筒。優(yōu)選的，所述第一封閉門、第二封閉門均為卷簾式封閉門。優(yōu)選的，所述出風(fēng)頭為兩端封閉縱向設(shè)置的管體，且與基板傳送機(jī)構(gòu)傳送平面平行，所述出風(fēng)頭與基板傳送機(jī)構(gòu)相對(duì)的一側(cè)開設(shè)有出風(fēng)微縫，所述出風(fēng)微縫出風(fēng)方向與基板傳送機(jī)構(gòu)傳送方向的夾角為銳角。本技術(shù)與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有如下的優(yōu)點(diǎn)和有益效果：清洗槽與風(fēng)干室連接處設(shè)有第一封閉門，風(fēng)干室與烘烤室連接處設(shè)有第二封閉門，可使清洗槽、風(fēng)干室、烘烤室處于相互獨(dú)立或兩兩連通的狀態(tài)。清洗槽對(duì)基板進(jìn)行超聲清洗后，通過基板傳送機(jī)構(gòu)送入風(fēng)干室，在風(fēng)干室內(nèi)由保護(hù)氣對(duì)基板進(jìn)行風(fēng)干吹走大部分的殘留水分，可減少所需烘干的水量，節(jié)約能源。然后再送入烘烤室烘烤，實(shí)現(xiàn)了基板清洗、烘烤處理一體化，避免了轉(zhuǎn)運(yùn)中，雜質(zhì)的再次附著，處理效果好。而在清洗槽將基板送入風(fēng)干室后，又可進(jìn)入下輪的基板處理，故處理效率高。另外，烘烤室連接有負(fù)壓泵，可對(duì)烘烤室抽負(fù)壓，降低水分的蒸發(fā)的溫度，以減少加熱所需的能源，進(jìn)一步的節(jié)能。同時(shí)，烘烤室與保護(hù)氣儲(chǔ)罐相連，從而通過保護(hù)氣對(duì)基板進(jìn)行冷卻，一方面能夠快速冷卻基板，另一方面防止了基板再次附著水分，確保有機(jī)發(fā)光二極管顯示屏的制造良率。附圖說明此處所說明的附圖用來提供對(duì)本技術(shù)實(shí)施例的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分，并不構(gòu)成對(duì)本技術(shù)實(shí)施例的限定。在附圖中：圖1為本技術(shù)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本技術(shù)的氣路連接原理圖；圖3為本技術(shù)的出風(fēng)頭結(jié)構(gòu)示意圖。附圖中標(biāo)記及對(duì)應(yīng)的零部件名稱：1-清洗槽，2-風(fēng)干室，3-烘烤室，4-第一封閉門，5-第二封閉門，6-基板傳送機(jī)構(gòu)，7-超聲波振蕩器，8-放水閥，9-出風(fēng)頭，91-出風(fēng)微縫，92-第一開關(guān)閥，10-保護(hù)氣儲(chǔ)罐，11-第三封閉門，12-第一單向閥，13-第一干燥器，14-空壓機(jī)，15-保護(hù)氣回收罐，16-第二開關(guān)閥，17-負(fù)壓泵，18-第三開關(guān)閥，19-第二單向閥，20-第二干燥器。具體實(shí)施方式為使本技術(shù)的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，下面結(jié)合實(shí)施例和附圖，對(duì)本技術(shù)作進(jìn)一步的詳細(xì)說明，本技術(shù)的示意性實(shí)施方式及其說明僅用于解釋本技術(shù)，并不作為對(duì)本技術(shù)的限定。實(shí)施例如圖1～3所示，一種有機(jī)發(fā)光二極管基板處理設(shè)備，包括依次相連的清洗槽1、風(fēng)干室2、烘烤室3。也就是說，清洗槽1的一端連接有風(fēng)干室2，風(fēng)干室2與清洗槽1相對(duì)的一側(cè)連接有烘烤室3。通常，清洗槽1槽體、風(fēng)干室2室壁、烘烤室3室壁，均由金屬材料制成，如鋁合金、不銹鋼等，也可以由工程塑料制成。所述清洗槽1與風(fēng)干室2連接處設(shè)有第一封閉門4，所述風(fēng)干室2與烘烤室3連接處設(shè)有第二封閉門5。可以理解的是，當(dāng)?shù)谝环忾]門4、第二封閉門5均關(guān)閉時(shí)，清洗槽1、風(fēng)干室2、烘烤室3處于相互獨(dú)立的狀態(tài)，互不相通；當(dāng)?shù)谝环忾]門4打開時(shí)，清洗槽1與風(fēng)干室2連通；當(dāng)?shù)诙忾]門5打開時(shí)，風(fēng)干室與烘烤室3連通。第一封閉門4、第二封閉門5可以是卷簾式、旋轉(zhuǎn)式、折疊式、推拉式的，但如果采用旋轉(zhuǎn)式的，相應(yīng)的，需要將清洗槽1、風(fēng)干室2、烘烤室3做大。因?yàn)榈谝环忾]門4、第二封閉門5開啟時(shí)需確保門不會(huì)觸碰到基板，故第一封閉門4、第二封閉門5優(yōu)選采用卷簾式的封閉門，可將卷起的門簾藏于風(fēng)干室2的上方，防止其對(duì)基板的傳送產(chǎn)生干擾。在本實(shí)施例中，第一封閉門4、第二封閉門5的結(jié)構(gòu)包括門框和不銹鋼薄板制成可曲卷的門板，門框內(nèi)設(shè)有供門板滑動(dòng)且?guī)в忻芊庀鹉z的滑槽，門板通過卷揚(yáng)機(jī)或傳動(dòng)輥帶動(dòng)收卷或伸縮，實(shí)現(xiàn)密封門的開或密閉。另外，所述清洗槽1、風(fēng)干室2、烘烤室3底部均設(shè)有基板傳送機(jī)構(gòu)6，所述基板傳送機(jī)構(gòu)6可將基板從清洗槽1向烘烤室3傳送。由于在基板的清洗中應(yīng)當(dāng)防止外部雜質(zhì)的慘入，普通的帶式傳送機(jī)構(gòu)不再適用，可使用金屬網(wǎng)式傳送機(jī)構(gòu)、滾筒機(jī)構(gòu)等，因此，優(yōu)選為基板傳送機(jī)構(gòu)6優(yōu)選采用傳動(dòng)滾筒。傳動(dòng)滾筒的傳動(dòng)部分密封且可轉(zhuǎn)動(dòng)的設(shè)置在清洗槽1、風(fēng)干室2、烘烤室3底部內(nèi)，驅(qū)動(dòng)部分則設(shè)置在清洗槽1、風(fēng)干室2、烘烤室3底部側(cè)壁外，且由皮帶或鏈條與電機(jī)的輸出軸傳動(dòng)連接，帶動(dòng)傳動(dòng)部分的轉(zhuǎn)動(dòng)。所述清洗槽1用于基板的清洗上端具有開口，可供基板的放入和超純?nèi)ルx子水(電阻率為7～9MΩ·cm)的注入，也可根據(jù)具體的管路設(shè)置專用的超純?nèi)ルx子水注入接口。清洗槽1還設(shè)置有提供超聲波的超聲波振蕩器7，超聲波振蕩器7包括超聲波信號(hào)發(fā)生器和換能器，通過換能器做超聲震動(dòng)使加入清洗槽1內(nèi)的超純?nèi)ルx子水產(chǎn)生空化，從而洗掉附著在基板1上的雜質(zhì)。設(shè)置在清洗槽1槽底的放水閥8，可將清洗槽1內(nèi)的污水放出，防止在第一封閉門4打開時(shí)，污水進(jìn)入風(fēng)干室2內(nèi)，導(dǎo)致風(fēng)干時(shí)污水附著在基板上。所述風(fēng)干室2用于對(duì)清洗后的基板進(jìn)行風(fēng)干，并設(shè)置有若干向基板傳送機(jī)構(gòu)6送風(fēng)的出風(fēng)頭9，所述出風(fēng)頭9通過第一開關(guān)閥92與風(fēng)干室2外的保護(hù)氣儲(chǔ)罐10相連，以通過保護(hù)氣對(duì)基板進(jìn)行烘干，防止在風(fēng)干的過程中，混入新的雜質(zhì)。需要說明的是本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種有機(jī)發(fā)光二極管基板處理設(shè)備，其特征在于：包括依次相連的清洗槽(1)、風(fēng)干室(2)、烘烤室(3)，所述清洗槽(1)與風(fēng)干室(2)連接處設(shè)有第一封閉門(4)，所述風(fēng)干室(2)與烘烤室(3)連接處設(shè)有第二封閉門(5)；所述清洗槽(1)、風(fēng)干室(2)、烘烤室(3)底部均設(shè)有基板傳送機(jī)構(gòu)(6)，所述基板傳送機(jī)構(gòu)(6)可將基板從清洗槽(1)向烘烤室(3)傳送；所述清洗槽(1)內(nèi)還設(shè)置有超聲波振蕩器(7)、槽底設(shè)置有放水閥(8)，所述風(fēng)干室(2)設(shè)置有若干向基板傳送機(jī)構(gòu)(6)送風(fēng)的出風(fēng)頭(9)，所述出風(fēng)頭(9)通過第一開關(guān)閥(92)與風(fēng)干室(2)外的保護(hù)氣儲(chǔ)罐(10)相連，所述烘烤室(3)內(nèi)設(shè)置有加熱部件、側(cè)壁設(shè)有第三封閉門(11)用于取出基板。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種有機(jī)發(fā)光二極管基板處理設(shè)備，其特征在于：包括依次相連的清洗槽(1)、風(fēng)干室(2)、烘烤室(3)，所述清洗槽(1)與風(fēng)干室(2)連接處設(shè)有第一封閉門(4)，所述風(fēng)干室(2)與烘烤室(3)連接處設(shè)有第二封閉門(5)；所述清洗槽(1)、風(fēng)干室(2)、烘烤室(3)底部均設(shè)有基板傳送機(jī)構(gòu)(6)，所述基板傳送機(jī)構(gòu)(6)可將基板從清洗槽(1)向烘烤室(3)傳送；所述清洗槽(1)內(nèi)還設(shè)置有超聲波振蕩器(7)、槽底設(shè)置有放水閥(8)，所述風(fēng)干室(2)設(shè)置有若干向基板傳送機(jī)構(gòu)(6)送風(fēng)的出風(fēng)頭(9)，所述出風(fēng)頭(9)通過第一開關(guān)閥(92)與風(fēng)干室(2)外的保護(hù)氣儲(chǔ)罐(10)相連，所述烘烤室(3)內(nèi)設(shè)置有加熱部件、側(cè)壁設(shè)有第三封閉門(11)用于取出基板。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光二極管基板處理設(shè)備，其特征在于：所述風(fēng)干室(2)為密閉的腔室，并通依次過第一單向閥(12)、第一干燥器(13)、空壓機(jī)(14)與保護(hù)氣回收罐(15)連通。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的有機(jī)發(fā)光二極管基板處理設(shè)備，其特征在于：所述...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：王宏宇，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：成都拓維高科光電科技有限公司，
類型：新型
國別省市：四川,51