用于輻射成像模式的防散射準直器制造技術

除其他方面外，本公開提供了一種防散射準直器，所述防散射準直器包括第一層，所述第一層在第一表面處限定第一保持構件。第二層在面向所述第一層的所述第一表面的第一表面處限定第二保持構件。隔板設置在所述第一層和所述第二層之間，并且物理接觸所述第一保持構件和所述第二保持構件。所述第一保持構件和所述第二保持構件保持所述隔板相對于所述第一層和所述第二層的位置。所述隔板具有大于所述第一層的第一衰減系數和所述第二層的第二衰減系數的第三衰減系數。將端部支撐件附接到所述第一層和所述第二層。所述端部支撐件與所述隔板的端部接界。

Anti scatter collimator for radiation imaging mode

The present disclosure provides, inter Alia, an anti scatter collimator comprising a first layer defining a first retaining member at the first surface. The second layer defines a second retaining member at a first surface facing the first surface of the first layer. The partition is arranged between the first layer and the second layer, and physically contacts the first retaining member and the second retaining member. The first retaining member and the second retaining member maintain the position of the partition plate with respect to the first layer and the second layer. The partition plate has a third attenuation coefficient larger than the first attenuation coefficient of the first layer and the second attenuation coefficient of the second layer. The end support is attached to the first layer and the second layer. The end support is connected with the end of the diaphragm.

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】用于輻射成像模式的防散射準直器
技術介紹
本專利申請涉及用于輻射成像模式(例如，利用輻射來檢查對象的成像模式)的防散射準直器。它在計算機斷層掃描(CT)掃描儀的背景中得到了特別的應用。然而，本文所述的特征并非旨在限于CT應用，并且可用于其他輻射成像應用，諸如線掃描系統和斷層X射線影像合成系統(例如，乳房X線照相術系統)。如今，CT和其他輻射成像模式(例如，乳房X線照相術、數字化X線攝影、單光子發射計算機斷層顯像等)可用于提供被檢查對象的內部方面的信息或圖像。一般來講，對象暴露于輻射(例如，X射線、伽馬射線等)，并且基于被對象的內部方面吸收和/或衰減的輻射(更準確地說為能夠穿過對象的輻射光子量)而形成圖像。通常，對象的高致密方面(或具有由較高原子序數元素組成的成分的對象的方面)比不那么致密的方面吸收和/或衰減更多的輻射，因此具有較高密度(和/或高原子序數元素)的方面諸如骨骼或金屬當被不那么致密的方面諸如肌肉或衣服圍繞時將顯而易見。除其他外，輻射成像模式通常包括一個或多個輻射源(例如，X射線源、伽馬射線源等)和由多個像素(也稱為單元)組成的檢測器陣列，多個像素分別被配置為將已橫穿對象的輻射轉換成可被處理的信號以產生圖像。當對象在輻射源和檢測器陣列之間通過時，輻射被對象吸收/衰減，從而導致所檢測的輻射的量/能量發生改變。使用從檢測到的輻射獲得的信息，輻射成像模式被配置為生成圖像，這些圖像可用于檢測對象內可能特別受關注的項目(例如，身體特征、威脅項目等)。這些圖像可以是二維圖像或三維圖像。在理想環境中，由像素檢測的輻射對應于從輻射源的焦點在豎直軸上沖擊像素的初級輻射。然而，撞擊到對象上的輻射中的一些被散射，并且偏離直線路徑。由像素檢測到的散射輻射(也稱為次級輻射)增加噪聲并降低基于檢測器信號產生的圖像的質量。為減小散射輻射影響檢測器陣列的像素的可能性，可在檢查區域和檢測器陣列之間插入防散射準直器。這些防散射準直器包括防散射板(也稱為隔板)，其被配置為吸收散射輻射，同時允許初級輻射穿過準直器并且被檢測器陣列的像素檢測到。這些隔板相對于輻射源和檢測器陣列對準，以允許初級輻射穿過，同時吸收次級輻射。具有大隔板的系統利用固定結構將隔板保持在適當的位置。盡管使用了這些固定結構，但可能出現隔板的非預期振動和運動，這導致圖像質量降低。此外，用固定結構組裝隔板可以是資源密集的(例如，時間密集的)，這增加了制造成本。
技術實現思路
本專利申請的各方面解決了上述問題和其他問題。根據一個方面，防散射準直器包括第一層，該第一層在第一表面處限定第一保持構件。第一層具有第一衰減系數。防散射準直器包括第二層，該第二層在第一表面(其面向第一層的第一表面)處限定第二保持構件。第二層具有第二衰減系數。隔板設置在第一層和第二層之間，并且物理接觸第一保持構件和第二保持構件。第一保持構件和第二保持構件保持隔板相對于第一層和第二層的位置。隔板具有大于第一衰減系數和第二衰減系數的第三衰減系數。將端部支撐件附接到第一層和第二層。該端部支撐件與隔板的端部接界。根據另一個方面，防散射準直器包括第一層，該第一層在第一表面處限定第一保持構件。第一層具有第一衰減系數。第二層在第一表面(其面向第一層的第一表面)處限定第二保持構件。第二層具有第二衰減系數。多個隔板設置在第一層和第二層之間，并且物理接觸第一保持構件和第二保持構件。第一保持構件和第二保持構件保持多個隔板中的每一個相對于第一層和第二層的位置。多個隔板的第一隔板和靠近第一層的多個隔板的第二隔板之間的節距不同于靠近第二層的多個隔板的第一隔板和第二隔板之間的第二節距。根據另一個方面，計算機斷層掃描(CT)成像模式包括被配置為發射輻射的輻射源。檢測器陣列被配置為檢測輻射的至少一部分。防散射準直器設置在輻射源和檢測器陣列之間。防散射準直器包括第一層，該第一層在第一表面處限定第一保持構件。第一層具有第一衰減系數。第二層在第一表面(其面向第一層的第一表面)處限定第二保持構件。第二層具有第二衰減系數。隔板設置在第一層和第二層之間，并且物理接觸第一保持構件和第二保持構件。第一保持構件和第二保持構件保持隔板相對于第一層和第二層的位置。隔板具有大于第一衰減系數和第二衰減系數的第三衰減系數。將端部支撐件附接到第一層和第二層。該端部支撐件與隔板的端部接界。在閱讀和理解所附的說明書后，本領域的普通技術人員將會理解本專利申請的其他方面。附圖說明本專利申請通過示例而非限制的方式在附圖中示出，其中類似的附圖標記通常表示類似的元件，并且其中：圖1示出了成像模式的示例性環境。圖2示出了示例性防散射準直器。圖3示出了示例性防散射準直器的分解圖。圖4A示出了示例性防散射準直器的分解截面圖，其中隔板不附接到第一層或第二層并且彼此平行延伸。圖4B示出了示例性防散射準直器的分解截面圖，其中隔板不附接到第一層或第二層并且彼此不平行延伸。圖5示出了示例性防散射準直器的截面圖，其中隔板附接到第一層或第二層。圖6示出了示例性防散射準直器，其中端部支撐件附接到第一層和第二層。圖7示出了包括保持構件的示例性防散射準直器。圖8示出了包括保持構件的示例性防散射準直器。圖9示出了包括保持構件的示例性防散射準直器。圖10示出了用于防散射準直器的示例性第一層。圖11示出了用于防散射準直器的示例性第一層。圖12示出了用于防散射準直器的示例性第一層。圖13示出了用于防散射準直器的示例性第一層。圖14示出了用于防散射準直器的示例性第一層。具體實施方式現在參考附圖描述要求保護的主題，其中類似的附圖標號通常用于在整個附圖中表示類似的元件。在以下描述中，出于解釋的目的，闡述了多個具體細節以便提供對要求保護的主題的透徹理解。然而，顯而易見的是，要求保護的主題可在沒有這些具體細節的情況下實踐。在其他情況下，結構和裝置以框圖形式示出，以便有助于描述要求保護的主題。本公開涉及可定位在輻射源和檢測器陣列之間的防散射準直器。防散射準直器具有第一層、第二層和設置在第一層和第二層之間的多個隔板。第一層具有用于保持隔板相對于第一層的位置的第一保持構件，同時第二層具有用于保持隔板相對于第二層的位置的第二保持構件。這樣，多個隔板的每個隔板夾置在第一層和第二層之間(例如，沿輻射源和檢測器陣列之間的行進方向)，以牢固地固定每個隔板的位置。多個隔板可被間隔開以限定傳輸通道，初級輻射可基本上不受阻礙地行進通過這些傳輸通道。通過定位在輻射源和檢測器陣列之間，從輻射源發射的輻射在被檢測器陣列接收之前穿過防散射準直器。由于防散射準直器相對于輻射源和檢測器陣列的取向，隔板可吸收或衰減散射(或次級)輻射，而初級輻射可穿過傳輸通道到達檢測器陣列。圖1為包括示例性輻射成像模式的示例性環境100的圖示，該示例性輻射成像模式可被配置為生成表示被檢查對象102或其方面的數據(例如，圖像)。應當理解，除了圖1所示的示例性計算機斷層掃描(CT)掃描儀之外，本文所述的特征還可適用于其他成像模式。此外，示例性環境100中所包括的部件的布置和/或部件的類型僅為了進行示意性的說明。例如，旋轉結構104(例如，旋轉門)可包括用于支撐輻射源118和/或檢測器陣列106的操作的附加部件，諸如冷卻單元、功率單元等。又如，數據采集部件122可被包括在檢測器本文檔來自技高網...

【技術保護點】
1.一種防散射準直器，包括：第一層，所述第一層在其第一表面處限定第一保持構件，其中所述第一層具有第一衰減系數；第二層，所述第二層在其面向所述第一層的所述第一表面的第一表面處限定第二保持構件，其中所述第二層具有第二衰減系數；和隔板，所述隔板設置在所述第一層和所述第二層之間，并且物理接觸所述第一保持構件和所述第二保持構件，其中：所述第一保持構件和所述第二保持構件保持所述隔板相對于所述第一層和所述第二層的位置，并且所述隔板具有大于所述第一衰減系數和所述第二衰減系數的第三衰減系數；和端部支撐件，所述端部支撐件附接到所述第一層并且附接到所述第二層，其中所述端部支撐件與所述隔板的端部接界。

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】1.一種防散射準直器，包括：第一層，所述第一層在其第一表面處限定第一保持構件，其中所述第一層具有第一衰減系數；第二層，所述第二層在其面向所述第一層的所述第一表面的第一表面處限定第二保持構件，其中所述第二層具有第二衰減系數；和隔板，所述隔板設置在所述第一層和所述第二層之間，并且物理接觸所述第一保持構件和所述第二保持構件，其中：所述第一保持構件和所述第二保持構件保持所述隔板相對于所述第一層和所述第二層的位置，并且所述隔板具有大于所述第一衰減系數和所述第二衰減系數的第三衰減系數；和端部支撐件，所述端部支撐件附接到所述第一層并且附接到所述第二層，其中所述端部支撐件與所述隔板的端部接界。2.根據權利要求1所述的防散射準直器，其中：溝槽被限定在所述第一層中并且從所述第一層的所述第一表面朝與所述第一層的所述第一表面相對的所述第一層的第二表面延伸，所述第一保持構件包括限定所述溝槽的所述第一層的一對側壁，并且所述隔板設置在所述溝槽內以保持所述隔板相對于所述第一層的所述位置。3.根據權利要求1所述的防散射準直器，其中：所述第一保持構件包括突起構件，所述突起構件從所述第一層的所述第一表面朝所述第二層的所述第一表面延伸，溝槽至少部分地由所述突起構件限定，并且所述隔板設置在所述溝槽內以保持所述隔板相對于所述第一層的所述位置。4.根據權利要求3所述的防散射準直器，其中所述突起構件包括第一突起構件、第二突起構件和第三突起構件，所述溝槽由所述第一突起構件的第一側壁、所述第二突起構件的第二側壁和所述第三突起構件的底部表面限定。5.根據權利要求1所述的防散射準直器，其中：所述第一保持構件包括第一突起構件和第二突起構件，所述第一突起構件從所述第一層的所述第一表面朝所述第二層的所述第一表面延伸，所述第二突起構件從所述第一層的所述第一表面朝所述第二層的所述第一表面延伸，溝槽限定在所述第一突起構件和所述第二突起構件之間，并且所述隔板設置在所述溝槽內以保持所述隔板相對于所述第一層的所述位置。6.根據權利要求5所述的防散射準直器，其中所述溝槽由所述第一突起構件的第一側壁、所述第二突起構件的第二側壁和所述第一層的所述第一表面限定。7.根據權利要求1所述的防散射準直器，其中所述端部支撐件包括：第一支撐部分，所述第一支撐部分被配置為附接到所述第一層；第二支撐部分，所述第二支撐部分被配置為附接到所述第二層；和第三支撐部分，所述第三支撐部分在所述第一支撐部分和所述第二支撐部分之間延伸。8.根據權利要求7所述的防散射準直器，其中：所述第一支撐部分基本上平行于所述第一層的所述第一表面延伸，所述第一支撐部分限定第一支撐件開口，并且所述第一層限定與所述第一支撐件開口對準的第一層開口。9.根據權利要求7所述的防散射準直器，其中所述第三支撐部分限定窗口，所述隔板通過所述窗口可見。10.根據權利要求1所述的防散射準直器，其中所述第一衰減系數等于所述第二衰減系數。11.根據權利要求1所述的防散射準直器，其中：所述隔板和多個其他隔板一起限定隔板組，并且所述第一層的所述第一表面或所述第二層的所述第一表面中的一者處在所述隔板組的每個隔板之間的節距可以是基本上恒定的，并且所述第一層...

【專利技術屬性】
技術研發人員：雷恩·霍依特·馬斯登，弗拉丹·里斯丹維克，
申請(專利權)人：模擬技術公司，
類型：發明
國別省市：美國,US