一種擋板上鉬及其氧化物的清洗工藝制造技術

本發(fā)明專利技術公開了一種擋板表面鉬及其氧化物的清洗工藝，包括如下步驟：使用H

【技術實現步驟摘要】
一種擋板上鉬及其氧化物的清洗工藝
本專利技術涉及表面處理領域，具體涉及一種擋板上鉬及其氧化物的清洗工藝。
技術介紹
在LCD、OLED顯示屏TFT制作過程中，為降低外圍導引線的阻抗或為了便于模組段的FPC鍵合，在TFT薄膜中濺射一種金屬鉬Mo或其氧化物MoOx，在濺射過程中這種材料會不斷地在腔體內的擋板上進行沉積，隨著沉積物厚度的增加，沉積膜與擋板的附著力會降低，沉積膜可能會脫落污染腔體，出現黑點、短路等缺陷，影響LCD、OLED顯示屏的顯示質量，所以需要對腔體內裸露于工藝環(huán)境中的部件進行精密再生，延長部件的使用壽命，確保制程環(huán)境滿足顯示屏制程工藝要求，提升產品質量，降低客戶端制程成本。針對鉬Mo及其氧化物(MoOx)的沉積膜通常的清洗方法是使用HNO3/H2SO4/HF等酸液或混合酸進行浸泡清洗，后對表面噴砂處理，再使用去離子水進行清洗，最后進入潔凈干燥箱進行干燥。該清洗過程中使用的酸液易揮發(fā)，危險性較大，尤其HF具有腐蝕性，對清洗設備及槽體、廢氣處理等輔助設施人員防護要求較高，且清洗時間較長，酸液容易對部件本體造成較大損傷，且后續(xù)表面處理后，用于表面處理的砂粒不易完全清洗干凈，會造成部件表面粒子超標，影響部件使用性能。
技術實現思路
本專利技術解決了現有技術存在的酸液對部件本體造成較大損傷、危險性大的問題，提供一種擋板上鉬及其氧化物的清洗工藝，其應用時可以有效去除附著于金屬鈦、塑料、陶瓷部件表面的鉬Mo及其氧化物MoOx薄膜，避免對部件本體造成較大損傷。本專利技術通過下述技術方案實現：一種擋板表面鉬及其氧化物的清洗工藝，包括如下步驟：S1：使用H2O2溶液對擋板表面沉積膜進行浸泡清洗；S2：使用堿性藥液對擋板表面鉬及其氧化物進行浸泡；S3：使用高壓水對擋板進行沖洗；S4：對擋板進行干燥后，對表面噴砂處理；S5：使用高壓水對擋板進行沖洗；S6：對擋板進行干冰清洗；S7：對擋板進行超聲波清洗；S8：對完成清洗后的部件進行干燥。優(yōu)選的，所述H2O2溶液的質量分數為20-40％，所述擋板的浸泡時間為2～3h，然后使用純水對藥液浸泡完成的產品進行清洗，該步驟在清洗槽完成。鉬Mo及其氧化物MoOx與雙氧水反應生產高鉬酸，其化學反應過程如下：H2O2+Mo→H2MoOX+O2↑因H2O2不會與塑料、陶瓷反應，與金屬反應時在表面形成一層很薄、很致密的氧化膜，阻止其進一步反應，所以H2O2基本不會對基材(金屬、塑料、陶瓷等)的部件造成腐蝕。使用堿性藥液對擋板表面鉬及其氧化物進行清洗，該步驟在堿液槽進行；優(yōu)選的，所述堿液為氫氧化鈉或氫氧化鉀溶液。優(yōu)選的，S2中所述氫氧化鈉溶液的濃度為NaOH(g)：H2O(mL)為1：6-1:10，所述氫氧化鉀溶液的濃度為KOH(g)：H2O(mL)為1：6-1:10，浸泡溫度50-60℃，浸泡時間1-3h。堿液會與擋板表面的氧化鉬Mo及其氧化物MoOx及其熔射隔離層金屬鋁Al進行反應，將氧化鉬Mo及其氧化物MoOx和金屬鋁清洗掉，以KOH為例，其化學反應為：MoOX+KOH→K2MoO4+H2OAl+KOH+H2O→KAlO2+H2↑通過兩步反應將擋板表面的金屬鉬Mo及其氧化物MoOx、金屬鋁可以完全清洗干凈，且基本對擋板基材無損傷。優(yōu)選的，所述S3中高壓水的壓力為16-18Mpa，將經過堿性藥液清洗的擋板使用高壓水進行沖洗，以去除產品表面多余的藥液及通過水的沖擊力去除產品表面多余的沉積膜。使用噴砂機對部件表面噴砂處理進行清潔與表面修復。優(yōu)選的，表面噴砂處理材料為粒徑為30～400目的白剛玉Al2O3，具體根據表面粗糙度要求選用適合的粒徑。所述S5中高壓水的壓力為16-18Mpa使用高壓水對噴砂后的擋板進行沖洗，以去除擋板表面在噴砂過程中多余的大顆粒。優(yōu)選的，所述干冰清洗步驟為通過壓縮空氣將干冰噴射到擋板表面。將經過高壓水沖洗后的擋板置于干冰清洗設備中，使用干冰對表面進行處理，清除S4中噴砂顆粒在部件表面的殘留。所述的干冰設備功能包括：干冰發(fā)生器、壓縮空氣源。將經過干冰清洗后的擋板置于超聲波槽中進行超聲波清洗。槽體功能包括：超聲波(以不損傷產品為準，通常為30～40KHZ)、溢流(使槽體內水保持一定潔凈度)、過濾(懸浮物通過過濾器過濾，降低污染)。將經過純水浸泡處理后的擋板置于潔凈干燥箱中進行烘干。優(yōu)選的，干燥溫度為180-200℃，干燥時間為1-2小時。本專利技術所述的清洗工藝在清洗金屬(如鈦、鋁及其他合金類)、塑料、陶瓷部件表面鉬Mo及其氧化物MoOx薄膜的應用。本專利技術所述的所述的清洗工藝得到的產品。本專利技術與現有技術相比，具有如下的優(yōu)點和有益效果：1、使用雙氧水代替常規(guī)的強酸，解決了現有技術存在的酸液對部件本體造成較大損傷、危險性大的問題，H2O2不會對塑料、陶瓷反應，與金屬會在表面形成一層很薄、很致密的氧化膜，阻止其進一步反應，H2O2基本不會對金屬基材的部件造成腐蝕。2、通過控制堿液的濃度，不僅可以將擋板表面的金屬鉬(Mo)及其氧化物(MoOx)清洗干凈，也可以將金屬鋁清洗干凈，且基本對擋板基材無損傷。3、表面噴砂處理可以進行擋板的清潔與表面修復，高壓水可以去除產品表面多余的藥液及通過水的沖擊力去除產品表面多余的沉積膜；干冰對表面進行處理可以清除噴砂顆粒在部件表面的殘留。附圖說明此處所說明的附圖用來提供對本專利技術實施例的進一步理解，構成本申請的一部分，并不構成對本專利技術實施例的限定。在附圖中：圖1為本專利技術工藝流程圖；圖2為本專利技術裝置圖。具體實施方式為使本專利技術的目的、技術方案和優(yōu)點更加清楚明白，下面結合實施例和附圖，對本專利技術作進一步的詳細說明，本專利技術的示意性實施方式及其說明僅用于解釋本專利技術，并不作為對本專利技術的限定。實施例1將分解后的陶瓷擋板放入清洗槽內部，擋板間使用磁性物質分開，以確保擋板清洗面擋板清洗面不能互相接觸、遮擋，在槽體內部加入質量分數為20％的H2O2，對擋板表面沉積膜進行浸泡3h，直至無反應進程為止。藥液清潔完成后，打開槽體排液管經過過濾器排出，在槽體中注入純水進行漂洗，以去除擋板表面的藥液與鉬Mo及其氧化物MoOx反應后的產物；將通過H2O2清洗后的部件置入濃度為NaOH(g)：H2O(mL)為1：6的氫氧化鈉溶液堿液槽體內，事先將槽液加熱至50℃，反應3h后將擋板從槽體內部取出，置入純水槽中進行浸泡，以去除擋板表面的堿液及反應殘留物；將部件放置在高壓沖洗臺面上面，使用16Mpa的高壓水對部件表面進行清洗，去除產品表面多余的藥液及通過水的沖擊力去除產品表面多余的沉積膜，再次確保部件表面藥液與參與反應物完全清洗干凈；使用噴砂機用粒徑為30目的白剛玉Al2O3對擋板表面噴砂處理，對表面進行打磨微清潔，對部件表面微小劃傷、刮痕等進行微修復，CAD壓力0.6Mp本文檔來自技高網...

【技術保護點】
1.一種擋板表面鉬及其氧化物的清洗工藝，其特征在于，包括如下步驟：/nS1：使用H

【技術特征摘要】
1.一種擋板表面鉬及其氧化物的清洗工藝，其特征在于，包括如下步驟：
S1：使用H2O2溶液對擋板表面沉積膜進行浸泡清洗；
S2：使用堿性藥液對擋板表面鉬及其氧化物進行浸泡；
S3：使用高壓水對擋板進行沖洗；
S4：對擋板進行干燥后，對表面噴砂處理；
S5：使用高壓水對擋板進行沖洗；
S6：對擋板進行干冰清洗；
S7：對擋板進行超聲波清洗；
S8：對完成清洗后的部件進行干燥。


2.根據權利要求1所述的清洗工藝，其特征在于，S1中所述H2O2溶液的質量分數為20-40％，所述擋板的浸泡時間為2～3h。


3.根據權利要求1所述的清洗工藝，其特征在于，S2中所述堿液為氫氧化鈉或氫氧化鉀溶液。


4.根據權利要求3所述的清洗工藝，其特征在于，S2中所述氫氧化鈉溶液的濃度為NaOH(g)：H2O(mL)為1：6-1:10，所述氫氧化鉀溶液...

【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：萬長明，羅雪春，王宏宇，王照忠，萬其凱，胡家銘，
申請(專利權)人：成都拓維高科光電科技有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：四川;51